JP2012074472A - 基板処理装置およびティーチング方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ノズルの動作を簡単に教示することができる基板処理装置およびティーチング方法を提供する。
【解決手段】記録開始指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、記録開始指令が入力されてからの経過時間をタイマー２５によって計測させる。さらに、ＣＰＵ２３は、ノズルの位置を検出するエンコーダ２２の出力と経過時間とをメモリー２４に記憶させる。そして、記録終了指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、エンコーダ２２の出力と経過時間の記憶を終了させる。記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までのエンコーダ２２の出力は、経過時間と関連付けられて１つの動作データとしてメモリー２４に記憶される。
【選択図】図５

Description

この発明は、基板を処理する基板処理装置、および基板に供給される処理流体を吐出するノズルの動作データを作成するティーチング方法に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置は、たとえば、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、このスピンチャックに保持された基板の上面に向けて処理液を吐出するノズルと、鉛直方向に延びる回転軸線まわりにノズルを揺動させる揺動駆動機構と、揺動駆動機構を制御する制御装置とを備えている。制御装置は、ノズルから処理液を吐出させながら、ノズルを回転軸線まわりに揺動させることにより、ノズルから基板への処理液の供給位置を移動させる。

特開２００５−０８６１８１号公報

前述の基板処理装置では、制御装置は、予め作成された動作データに基づいて揺動駆動機構を制御することにより、ノズルを移動させる。たとえば、ノズルから基板の上面への処理液の供給位置を、基板の上面中央部と基板の上面周縁部との間で移動させる場合には、２つの位置が制御装置に登録され、制御装置が、一方の位置から他方の位置にノズルを移動させる。しかしながら、たとえば、一方の位置から他方の位置にノズルを移動させる途中でノズルを往復させるような複雑な動作をノズルに実行させる場合には、多数の位置を制御装置に登録しなければならない。そのため、簡単にノズルの動作を教示することができない。

そこで、この発明の目的は、ノズルの動作を簡単に教示することができる基板処理装置およびティーチング方法を提供することである。

前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を保持する基板保持手段（１１）と、移動可能に保持されており、前記基板保持手段に保持された基板に向けて処理流体を吐出するノズル（１２）と、前記ノズルを移動させるノズル移動手段（２０）と、前記ノズルの位置を検出する位置検出手段（２２）と、前記ノズルの動作の記録を開始させる記録開始指令を発生する記録開始手段（２６）と、前記ノズルの動作の記録を終了させる記録終了指令を発生する記録終了手段（２７）と、前記記録開始指令の発生から前記記録終了指令の発生までの間、前記位置検出手段の出力と経過時間とを関連付けて動作データとして記憶する記録手段（２４）と、前記記録手段に記録された動作データに基づいて前記ノズル移動手段を制御する制御手段（２３）と、を含む、基板処理装置（１、２０１）である。なお、この項において、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素の参照符号を表すものであるが、これらの参照符号により特許請求の範囲を限定する趣旨ではない。

この発明において、ノズルから吐出される処理流体は、処理液などの液体であってもよいし、ガスや蒸気などの気体であってもよい。また、ノズルは、水平方向および鉛直方向の一方の方向に移動可能に保持されていてもよいし、水平方向および鉛直方向に移動可能に保持されていてもよい。さらに、ノズル移動手段は、水平方向および鉛直方向の一方の方向にノズルを移動させるように構成されていてもよいし、水平方向および鉛直方向にノズルを移動させるように構成されていてもよい。

この発明によれば、ノズルから吐出された処理流体が基板保持手段に保持された基板に供給される。これにより、基板が処理される。ノズルは、移動可能に保持されており、ノズル移動手段によって移動される。また、ノズルの位置は、位置検出手段によって検出される。制御手段は、記録手段に記録された動作データに基づいてノズル移動手段を制御することにより、基板処理装置に教示されたノズルの動作を再現させる。

基板処理装置にノズルの動作が教示されるときには、記録開始手段が、ノズルの動作の記録を開始させる記録開始指令を発生する。また、記録終了手段が、ノズルの動作の記録を終了させる記録終了指令を発生する。記録手段は、記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までの間、位置検出手段の出力と経過時間とを関連付けて動作データとして記憶する。

記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までのノズルの動作は、動作データとして記録手段に記録される。そして、記録された動作データに基づいてノズル移動手段が制御されることにより、ノズルの動作が再現される。このように、ノズルの動作が自動的に記録手段に記録されるから、ノズルの動作が複雑であっても、この動作を簡単に教示することができる。

請求項２記載の発明は、前記基板保持手段およびノズルを収容する処理室（９）と、前記処理室の外に配置されており、操作者によって操作される遠隔操作部（２２８）と、をさらに含み、前記制御手段は、前記遠隔操作部の操作に基づいて前記ノズル移動手段を制御する遠隔操作制御手段（２３）を含む、請求項１記載の基板処理装置である。
この発明によれば、基板保持手段およびノズルが処理室に収容されており、操作者によって操作される遠隔操作部が、処理室の外に配置されている。遠隔操作制御手段は、遠隔操作部の操作に基づいてノズル移動手段を制御する。これにより、ノズルが動かされる。したがって、操作者が遠隔操作部を操作すれば、ノズルの動作を基板処理装置に教示するときに、操作者が処理室に入らなくてもよい。そのため、たとえば、ノズルから処理液を吐出させながら、ノズルの動作を教示するときに、ノズルから吐出された処理液が操作者に付着することを防止することができる。また、ノズルの動作を教示するときに、操作者が、基板保持手段などの処理室に収容された部材に接触することを防止することができる。

請求項３記載の発明は、基板保持手段（２）に保持された基板（Ｗ）に向けて処理流体を吐出するノズル（１２）の動作データを作成するティーチング方法であって、位置検出手段（２２）によって前記ノズルの位置を検出するステップと、前記ノズルの動作の記録を開始させる記録開始指令を発生するステップと、前記ノズルの動作の記録を終了させる記録終了指令を発生するステップと、前記記録開始指令の発生から前記記録終了指令の発生までの間、前記位置検出手段の出力と経過時間とを関連付けて動作データとして記憶するステップと、記録された動作データに基づいてノズルを移動させるステップと、を含む、ティーチング方法である。この発明によれば、請求項１の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。

本発明の第１実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図である。 本発明の第１実施形態に係る処理部の概略構成を示す側面図である。 本発明の第１実施形態に係る処理部の概略構成を示す平面図である。 ノズルの動作の一例を示すグラフである。 本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の電気的構成を説明するためのブロック図である。 ノズルの動作データを作成するティーチング方法の一例について説明するための工程図である。 本発明の第２実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図である。 本発明の第２実施形態に係る基板処理装置に備えられたリモートコントローラの模式図である。

以下では、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１のレイアウトを示す図解的な平面図である。
基板処理装置１は、薬液やリンス液などの処理液によって半導体ウエハ等の円形の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置である。基板処理装置１は、インデクサブロック２と、インデクサブロック２に結合された処理ブロック３とを備えている。さらに、基板処理装置１は、基板処理装置１に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御部４と、基板処理装置１を操作するための操作指令などが操作者によって入力される入力部５とを備えている。

インデクサブロック２は、キャリア保持部６と、インデクサロボットＩＲと、インデクサロボット移動機構７（以下では、「ＩＲ移動機構７」という。）とを備えている。キャリア保持部６は、複数枚の基板Ｗを収容できるキャリアＣを保持する。複数のキャリアＣは、所定のキャリア配列方向Ｕに沿って配列された状態で、キャリア保持部６に保持される。ＩＲ移動機構７は、キャリア配列方向Ｕに沿ってインデクサロボットＩＲを水平に移動させる。インデクサロボットＩＲは、キャリア保持部６に保持されたキャリアＣに基板Ｗを搬入する搬入動作、および基板ＷをキャリアＣから搬出する搬出動作を行う。

一方、処理ブロック３は、基板Ｗを一枚ずつ処理する複数（たとえば、４つ）の処理部８と、センターロボットＣＲとを備えている。複数の処理部８は、平面視において、センターロボットＣＲを取り囲むように配置されている。センターロボットＣＲは、各処理部８との間で基板Ｗを搬送する。すなわち、センターロボットＣＲは、処理部８に基板Ｗを搬入する搬入動作、および基板Ｗを処理部８から搬出する搬出動作を行う。また、キャリアＣから搬出された基板Ｗや、処理部８から搬出された基板Ｗは、インデクサロボットＩＲとセンターロボットＣＲとの間で搬送される。インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲは、制御部４によって制御される。

図２は、本発明の第１実施形態に係る処理部８の概略構成を示す側面図である。また、図３は、本発明の第１実施形態に係る処理部８の概略構成を示す平面図である。
各処理部８は、処理室９を区画する隔壁１０と、基板Ｗを水平に保持して回転させるスピンチャック１１（基板保持手段）と、スピンチャック１１に保持された基板Ｗに処理液を供給するためのノズル１２とを含む。スピンチャック１１およびノズル１２は、処理室９に収容されている。処理室９は、隔壁１０の内側に設けられている。隔壁１０は、開口を有している。隔壁１０の開口は、透明なカバー１３によって覆われている。カバー１３は、取り外し可能に隔壁１０に取り付けられている。カバー１３は、基板処理装置１の外側に配置されている（図１参照）。カバー１３が透明であるから、操作者は、カバー１３を通じて処理室９を目視することができる。

また、スピンチャック１１は、基板Ｗを水平に保持して当該基板Ｗの中心を通る鉛直軸線まわりに回転可能なスピンベース１４と、このスピンベース１４を鉛直軸線まわりに回転させるスピンモータ１５とを含む。スピンチャック１１は、基板Ｗを水平方向に挟むことにより当該基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、基板Ｗの下面（裏面）を吸着することにより当該基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。第１実施形態では、スピンチャック１１は、挟持式のチャックである。スピンモータ１５は、制御部４によって制御される。

また、処理部８は、処理液供給配管１６と、処理液バルブ１７と、ノズルアーム１８と、回動軸１９と、ノズル移動機構２０（ノズル移動手段）とを含む。処理液供給配管１６は、ノズル１２に接続されている。処理液バルブ１７は、処理液供給配管１６に介装されている。処理液バルブ１７が開かれると、処理液供給配管１６からノズル１２に処理液が供給される。また、処理液バルブ１７が閉じられると、処理液供給配管１６からノズル１２への処理液の供給が停止される。ノズル１２は、ノズルアーム１８に連結されている。ノズルアーム１８は、水平方向に延びている。ノズル１２は、ノズルアーム１８の一端部に連結されており、回動軸１９は、ノズルアーム１８の他端部に連結されている。回動軸１９は、鉛直方向に延びている。ノズル移動機構２０は、回動軸１９の下端部に連結されている。

ノズル移動機構２０は、回動軸１９の中心軸線（鉛直軸線）まわりに回動軸１９を回動させる。ノズル１２およびノズルアーム１８は、回動軸１９と共に、回動軸１９の中心軸線まわりに回動する。ノズル移動機構２０は、ノズル１２を回動軸１９の中心軸線まわりに回動させることにより、スピンチャック１１の上方を含む水平面に沿ってノズル１２を移動させる。具体的には、図３に示すように、ノズル移動機構２０は、平面視においてスピンチャック１１に保持された基板Ｗの中心を通る円弧状の軌跡Ｘ１に沿ってノズル１２を移動させる。

また、ノズル移動機構２０は、たとえば、モータ２１と、モータ２１の出力軸２１ａの回転角を検出するエンコーダ２２（位置検出手段）とを含む。モータ２１が出力軸２１ａを回転させると、出力軸２１ａの回転角に応じた移動量で、ノズル１２が回動軸１９の中心軸線まわりに回動する。また、モータ２１の出力軸２１ａに電気的制動力が加わらない状態で、ノズル１２やノズルアーム１８に力（モータ２１以外の力）が加えられて、ノズル１２が回動軸１９の中心軸線まわりに回動すると、ノズル１２の移動量に応じた回転角でモータ２１の出力軸２１ａが回転する。したがって、エンコーダ２２によって出力軸２１ａの回転角を検出することにより、ノズル１２の位置を検出することができる。

図４は、ノズル１２の動作の一例を示すグラフである。図４における縦軸は、経過時間であり、図４における横軸は、図３に示す円弧状の軌跡Ｘ１に沿う位置である。「基板の中心」の位置は、スピンチャック１１に保持された基板Ｗの中心の上方であり、「基板の周縁」の位置は、スピンチャック１１に保持された基板Ｗの周縁の上方である。以下では、図２〜図４を参照する。

制御部４は、スピンチャック１１によって基板Ｗを回転させながら、ノズル１２から処理液を吐出させて、当該基板Ｗの上面に処理液を供給させる。具体的には、制御部４は、スピンモータ１５を制御して、スピンチャック１１に保持された基板Ｗを回転させる。そして、制御部４は、ノズル移動機構２０を制御して、ノズル１２を基板Ｗの上方に移動させる。その後、制御部４は、基板Ｗを回転させながら、処理液バルブ１７を開いて、ノズル１２から処理液を吐出させる。この状態で、制御部４は、制御部４に記憶された動作データに基づいてノズル移動機構２０を制御する。

動作データは、操作者によって制御部４に教示されたノズル１２の動作に関するデータである。制御部４は、たとえば、図４に示す軌跡に対応する動作データに基づいてノズル移動機構２０を制御する。図４に示す軌跡に沿ってノズル１２を移動させると、ノズル１２が、基板Ｗの中心の上方と基板Ｗの周縁の上方との間で移動する。これにより、ノズル１２から基板Ｗへの処理液の供給位置が、基板Ｗの上面中央部と基板Ｗの上面周縁部との間で移動し、基板Ｗの上面が処理液によってスキャンされる。

すなわち、制御部４は、ノズル１２から処理液を吐出させながら、ノズル１２を移動させるとともに、スピンチャック１１によって基板Ｗを回転させる。したがって、ノズル１２から基板Ｗへの処理液の供給位置は、基板Ｗの径方向に移動するとともに、基板Ｗの周方向にも移動する。これにより、ノズル１２から基板Ｗへの処理液の供給位置が、基板Ｗの上面全域を通過し、基板Ｗの上面が処理液によってスキャンされる。これにより、基板Ｗの上面全域に処理液が供給され、基板Ｗの上面が処理液によって処理される。

図５は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の電気的構成を説明するためのブロック図である。
制御部４は、ＣＰＵ２３（central processing unit。制御手段、遠隔操作制御手段）と、メモリー２４（記録手段）と、タイマー２５とを含む。インデクサロボットＩＲ、センターロボットＣＲ、ＩＲ移動機構７、スピンモータ１５、およびノズル移動機構２０は、制御部４によって制御される。また、入力部５およびエンコーダ２２は、制御部４に接続されている。入力部５は、タッチパネルであってもよいし、ボタンやレバーであってもよいし、タッチパネルおよびボタン等を備えていてもよい。

入力部５は、ティーチング開始ボタン２６ａを有する記録開始指令発生部２６（記録開始手段）と、ティーチング終了ボタン２７ａを有する記録終了指令発生部２７（記録終了手段）とを含む。ティーチング開始ボタン２６ａが押されると、ノズル１２の動作の記録を開始させる記録開始指令が、記録開始指令発生部２６から制御部４に入力される。また、ティーチング終了ボタン２７ａが押されると、ノズル１２の動作の記録を終了させる記録終了指令が、記録終了指令発生部２７から制御部４に入力される。記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までの間に、ノズル１２を水平に移動させることにより、ノズル１２の動作を制御部４に教示することができる。

具体的には、記録開始指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、記録開始指令が入力されてからの経過時間をタイマー２５によって計測させる。さらに、記録開始指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、エンコーダ２２の出力と経過時間とをたとえば一定時間毎にメモリー２４に記憶させる。そして、記録終了指令が制御部４に入力されると、ＣＰＵ２３は、エンコーダ２２の出力と経過時間の記憶を終了させる。

記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までのエンコーダ２２の出力は、経過時間と関連付けられて１つの動作データとしてメモリー２４に記憶される。したがって、記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までの間に、ノズル１２を回動軸１９の中心軸線まわりに回動させて水平に移動させることにより、ノズル１２の動作データを作成し、ノズル１２の動作を制御部４に教示することができる。

図６は、ノズル１２の動作データを作成するティーチング方法の一例について説明するための工程図である。以下では、図２、図５および図６を参照する。
ノズル１２の動作を制御部４に教示するときには、入力部５に設けられたティーチング開始ボタン２６ａが操作者によって押される。これにより、ノズル１２の動作の記録を開始させる記録開始指令が、記録開始指令発生部２６から制御部４に入力される（ステップＳ１）。その後、記録開始指令が入力されてからの経過時間がタイマー２５によって計測される。さらに、エンコーダ２２の出力と経過時間とがたとえば一定時間毎にメモリー２４に記憶される（ステップＳ２）。

次に、ノズル１２が操作者によって動かされる（ステップＳ３）。具体的には、たとえば、操作者が、隔壁１０からカバー１３を外し、ノズル１２自体、またはノズル１２と共に移動する部材（たとえば、ノズルアーム１８）を掴む。その後、スピンチャック１１によって基板Ｗを回転させるとともに、ノズル１２から処理液を吐出させた状態で、操作者が、回転軸１９の中心軸線まわりにノズル１２を回動させて、基板Ｗへの処理液の供給状態を確認しながら、ノズル１２に所定の動作を実行させる。

そして、入力部５に設けられたティーチング終了ボタン２７ａが操作者によって押されると、ノズル１２の動作の記録を終了させる記録終了指令が、記録終了指令発生部２７から制御部４に入力される（ステップＳ４）。これにより、エンコーダ２２の出力と経過時間の記憶が終了する（ステップＳ５）。記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までの間のエンコーダ２２の出力は、経過時間と関連付けられて１つの動作データとしてメモリー２４に記憶される。このようにして、ノズル１２の動作が制御部４に教示される。制御部４は、この動作データに基づいてノズル移動機構２０を制御する。

以上のように第１実施形態では、記録開始指令が入力されてから記録終了指令が入力されるまでの間にノズル１２を移動させることにより、この間のノズル１２の動作を、動作データとしてメモリー２４に記録させることができる。ＣＰＵ２３は、記録された動作データに基づいてノズル移動機構２０を制御することにより、ノズル１２の動作を再現させる。このように、ノズル１２の動作が自動的にメモリー２４に記録されるから、ノズル１２の動作が複雑であっても、この動作を簡単に教示することができる。

図７は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置２０１のレイアウトを示す図解的な平面図である。また、図８は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置２０１に備えられたリモートコントローラ２２８（以下では、単に「リモコン２２８」という。）の模式図である。この図７および図８において、前述の図１〜図６に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。以下では、図２、図７、および図８を参照する。

この第２実施形態と前述の第１実施形態との主要な相違点は、ノズル１２の動作を制御部４に教示するときにノズル１２を遠隔操作することができることである。
具体的には、図７に示すように、基板処理装置２０１は、リモコン２２８と、ケーブル２２９とを備えている。ケーブル２２９は、リモコン２２８に接続されている。ケーブル２２９は、インターフェース２３０を介して、制御部４に接続されている。したがって、リモコン２２８は、ケーブル２２９およびインターフェース２３０を介して、制御部４に接続されている。リモコン２２８に入力された指令は、ケーブル２２９およびインターフェース２３０を介して、制御部４に入力される。

また、ケーブル２２９は、インターフェース２３０に対して取り外し可能である。リモコン２２８が使用されないときには、リモコン２２８およびケーブル２２９が取り外される。また、前述のように、各処理部８に設けられたカバー１３は、透明である。ケーブル２２９は、リモコン２２８を保持した操作者が各処理部８のカバー１３の前に移動できる長さを有している。したがって、操作者は、リモコン２２８を保持した状態で各カバー１３の前まで移動して、各処理室９を目視することができる。

図８に示すように、リモコン２２８は、本体２３１と、本体２３１に取り付けられた操作部材２３２およびノズル選択ボタン２３３とを含む。操作部材２３２が操作されると、ノズル１２が回動軸１９の中心軸線まわりに回動する。すなわち、制御部４は、操作部材２３２の操作とノズル１２の回動とが同期するように、ノズル移動機構２０を制御する。操作部材２３２は、本体２３１に対して直線的に移動可能に構成されていてもよいし、操作部材２３２を通る軸線まわりに回動可能に構成されていてもよい。第２実施形態では、操作部材２３２は、円柱状であり、操作部材２３２の中心軸線まわりに回動できるように構成されている。

操作部材２３２が操作者によって操作されることにより、各処理部８に設けられたノズル１２が遠隔操作される。また、ノズル選択ボタン２３３が操作者によって操作されることにより、いずれの処理部８に設けられたノズル１２を移動させるかが選択される。操作部材２３２が操作されると、ノズル１２が円弧状の軌跡Ｘ１（図３参照）に沿って移動する。

具体的には、図８に示すように、操作部材２３２の回動角が、本体２３１に表示された「基板の中心」に合わされている状態（図８に示す状態）では、ノズル１２がスピンチャック１１に保持された基板Ｗの中心の上方に配置される。また、操作部材２３２の回動角が、本体２３１に表示された「基板の周縁」に合わされている状態では、ノズル１２がスピンチャック１１に保持された基板Ｗの周縁の上方に配置される。

ノズル１２の動作を制御部４に教示するときには、操作者は、リモコン２２８を保持した状態で基板処理装置２０１の外からいずれかの処理室９を目視する。そして、記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までの間に、操作者が操作部材２３２を操作して、ノズル１２を移動させる。
具体的には、スピンチャック１１によって基板Ｗを回転させるとともに、ノズル１２から処理液を吐出させた状態で、操作者が、操作部材２３２を操作して、基板Ｗへの処理液の供給状態を基板処理装置２０１の外から確認しながら、ノズル１２に所定の動作を実行させる。このとき、ノズル１２の位置は、エンコーダ２２によって検出され、このエンコーダ２２の出力が経過時間と関連付けられて制御部４に記憶される。これにより、ノズル１２の動作データが作成され、ノズル１２の動作が制御部４に教示される。

以上のように第２実施形態では、操作者によって操作されるリモコン２２８が、処理室９の外に配置されている。ＣＰＵ２３は、リモコン２２８の操作に基づいてノズル移動機構２０を制御する。これにより、ノズル１２が動かされる。したがって、操作者は、リモコン２２８を操作すれば、ノズル１２の動作を教示するときに、処理室９に入らなくてもよい。そのため、たとえば、ノズル１２から処理液を吐出させながら、ノズル１２の動作を教示するときに、ノズル１２から吐出された処理液が操作者に付着することを防止することができる。また、ノズル１２の動作を教示するときに、操作者が、スピンチャック１１などの処理室９に収容された部材に接触することを防止することができる。

この発明の実施の形態の説明は以上であるが、この発明は、前述の第１および第２実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の第１および第２実施形態では、ノズル１２から吐出される処理流体が、処理液（液体）である場合について説明したが、ノズル１２から吐出される処理流体は、ガスや蒸気などの気体であってもよい。

また、前述の第１および第２実施形態では、ノズル１２を水平面に沿って円弧状に移動させる場合について説明したが、ノズル１２を水平面に沿って直線的に移動させてもよい。具体的には、水平面内で直交する２つの方向にノズル１２を移動させてもよい。
さらに、前述の第１および第２実施形態では、水平面内でのノズル１２の動作を制御部４に教示する場合について説明したが、鉛直方向へのノズル１２の動作や、水平方向および鉛直方向へのノズル１２の動作を制御部４に教示してもよい。

また、前述の第１および第２実施形態では、モータ２１の出力軸２１ａの回転角を検出することによりノズル１２の位置を検出する場合について説明したが、第２実施形態では、操作部材２３２とノズル１２とが一体的に移動するので、操作部材２３２の回転角を検出することにより、ノズル１２の位置を検出してもよい。すなわち、ノズル１２と一体的に移動する部材の位置を検出することにより、ノズル１２の位置を検出してもよい。また、ノズル１２の位置を直接検出してもよい。

その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。

１ 基板処理装置
９ 処理室
１１ スピンチャック（基板保持手段）
１２ ノズル
２０ ノズル移動機構（ノズル移動手段）
２２ エンコーダ（位置検出手段）
２３ ＣＰＵ（制御手段、遠隔操作制御手段）
２４ メモリー（記録手段）
２６ 記録開始指令発生部（記録開始手段）
２７ 記録終了指令発生部（記録終了手段）
２０１ 基板処理装置
２２８ リモコン（遠隔操作部）
Ｗ 基板

Claims (3)

1. 基板を保持する基板保持手段と、
   移動可能に保持されており、前記基板保持手段に保持された基板に向けて処理流体を吐出するノズルと、
   前記ノズルを移動させるノズル移動手段と、
   前記ノズルの位置を検出する位置検出手段と、
   前記ノズルの動作の記録を開始させる記録開始指令を発生する記録開始手段と、
   前記ノズルの動作の記録を終了させる記録終了指令を発生する記録終了手段と、
   前記記録開始指令の発生から前記記録終了指令の発生までの間、前記位置検出手段の出力と経過時間とを関連付けて動作データとして記憶する記録手段と、
   前記記録手段に記録された動作データに基づいて前記ノズル移動手段を制御する制御手段と、を含む、基板処理装置。
2. 前記基板保持手段およびノズルを収容する処理室と、
   前記処理室の外に配置されており、操作者によって操作される遠隔操作部と、をさらに含み、
   前記制御手段は、前記遠隔操作部の操作に基づいて前記ノズル移動手段を制御する遠隔操作制御手段を含む、請求項１記載の基板処理装置。
3. 基板保持手段に保持された基板に向けて処理流体を吐出するノズルの動作データを作成するティーチング方法であって、
   位置検出手段によって前記ノズルの位置を検出するステップと、
   前記ノズルの動作の記録を開始させる記録開始指令を発生するステップと、
   前記ノズルの動作の記録を終了させる記録終了指令を発生するステップと、
   前記記録開始指令の発生から前記記録終了指令の発生までの間、前記位置検出手段の出力と経過時間とを関連付けて動作データとして記憶するステップと、
   記録された動作データに基づいてノズルを移動させるステップと、を含む、ティーチング方法。

Images