JP2012020528A - 銅箔複合体 - Google Patents

銅箔複合体 Download PDF

Info

Publication number
JP2012020528A
JP2012020528A JP2010161029A JP2010161029A JP2012020528A JP 2012020528 A JP2012020528 A JP 2012020528A JP 2010161029 A JP2010161029 A JP 2010161029A JP 2010161029 A JP2010161029 A JP 2010161029A JP 2012020528 A JP2012020528 A JP 2012020528A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
resin layer
composite
foil composite
strength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010161029A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012020528A5 (ja
JP5325175B2 (ja
Inventor
Kazuki Kan
和樹 冠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JX Nippon Mining and Metals Corp
Original Assignee
JX Nippon Mining and Metals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2010161029A priority Critical patent/JP5325175B2/ja
Application filed by JX Nippon Mining and Metals Corp filed Critical JX Nippon Mining and Metals Corp
Priority to EP11806591.1A priority patent/EP2581220B1/en
Priority to KR1020137000012A priority patent/KR101443542B1/ko
Priority to CN201180034868.8A priority patent/CN102985252B/zh
Priority to PCT/JP2011/063770 priority patent/WO2012008260A1/ja
Priority to US13/579,073 priority patent/US9549471B2/en
Priority to TW100121582A priority patent/TWI435803B/zh
Publication of JP2012020528A publication Critical patent/JP2012020528A/ja
Publication of JP2012020528A5 publication Critical patent/JP2012020528A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5325175B2 publication Critical patent/JP5325175B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/085Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyolefins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/09Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0145Polyester, e.g. polyethylene terephthalate [PET], polyethylene naphthalate [PEN]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0358Resin coated copper [RCC]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

【課題】プレス加工等のような一軸曲げと異なる過酷(複雑)な変形を行っても銅箔が割れることを防止し、加工性に優れた銅箔複合体を提供する。
【解決手段】銅箔と樹脂層とが積層された銅箔複合体であって、銅箔の厚みをt(mm)、引張歪4%における銅箔の応力をf(MPa)、樹脂層の厚みをt(mm)、引張歪4%における樹脂層の応力をf(MPa)としたとき、式1:(f×t)/(f×t)≧1を満たし、かつ、銅箔と樹脂層との180°剥離接着強度をf(N/mm)、銅箔複合体の引張歪30%における強度をF(MPa)、銅箔複合体の厚みをT(mm)としたとき、式2:1≦33f/(F×T)を満たす。
【選択図】 図1

Description

本発明は、銅箔と樹脂層とを積層してなる銅箔複合体に関する。
銅箔と樹脂層とを積層してなる銅箔複合体は、FPC(フレキシブルプリント基板)、電磁波シールド材、RF-ID(無線ICタグ)、面状発熱体、放熱体などに応用されている。例えば、FPCの場合、ベース樹脂層の上に銅箔の回路が形成され、回路を保護するカバーレイフィルムが回路を覆っており、樹脂層/銅箔/樹脂層の積層構造となっている。
ところで、このような銅箔複合体の加工性として、MIT屈曲性に代表される折り曲げ性、IPC屈曲性に代表される高サイクル屈曲性が要求されており、折り曲げ性や屈曲性に優れる銅箔複合体が提案されている(例えば、特許文献1〜3)。例えば、FPCは携帯電話のヒンジ部などの可動部で折り曲げられたり、回路の小スペース化を図るために折り曲げて使用されるが、変形モードとしては、上記したMIT屈曲試験や、IPC屈曲試験に代表されるように一軸の曲げであり、過酷な変形モードにならないよう設計されている。
特開2010−100887号公報 特開2009−111203号公報 特開2007−207812号公報
しかしながら、上記した銅箔複合体をプレス加工等すると、MIT屈曲試験や、IPC屈曲試験と異なる過酷(複雑)な変形モードになるため、銅箔が破断するという問題がある。そして、銅箔複合体をプレス加工することができれば、回路を含む構造体を製品形状に合わせることができるようになる。
従って、本発明の目的は、プレス加工等のような一軸曲げと異なる過酷(複雑)な変形を行っても銅箔が割れることを防止し、加工性に優れた銅箔複合体を提供することにある。
本発明者らは、樹脂層の変形挙動を銅箔に伝え、樹脂層と同じように銅箔も変形させることで、銅箔のくびれを生じにくくして延性が向上し、銅箔の割れを防止できることを見出し、本発明に至った。つまり、樹脂層の変形挙動が銅箔に伝わるよう、樹脂層及び銅箔の特性を規定した。
すなわち、本発明の銅箔複合体は、銅箔と樹脂層とが積層された銅箔複合体であって、前記銅箔の厚みをt(mm)、引張歪4%における前記銅箔の応力をf(MPa)、前記樹脂層の厚みをt(mm)、引張歪4%における前記樹脂層の応力をf(MPa)としたとき、式1:(f×t)/(f×t)≧1を満たし、かつ、前記銅箔と前記樹脂層との180°剥離接着強度をf(N/mm)、前記銅箔複合体の引張歪30%における強度をF(MPa)、前記銅箔複合体の厚みをT(mm)としたとき、式2:1≦33f/(F×T)を満たす。
前記樹脂層のガラス転移温度未満の温度において、前記式1及び式2が成り立つことが好ましい。
前記銅箔複合体の引張破断歪lと、前記樹脂層単体の引張破断歪Lとの比l/Lが0.7〜1であることが好ましい。
本発明によれば、プレス加工等のような一軸曲げと異なる過酷(複雑)な変形を行っても銅箔が割れることを防止し、加工性に優れた銅箔複合体を得ることができる。
と(F×T)の関係を実験的に示す図である。 加工性の評価を行うカップ試験装置の構成を示す図である。
本発明の銅箔複合体は、銅箔と樹脂層とが積層されて構成されている。本発明の銅箔複合体は、例えば、FPC(フレキシブルプリント基板)、電磁波シールド材、RF-ID(無線ICタグ)、面状発熱体、放熱体に適用することができるが、これらに限定される訳ではない。
<銅箔>
銅箔の厚みtは、0.004〜0.05mm(4〜50μm)であることが好ましい。tが0.004mm(4μm)未満であると銅箔の延性が著しく低下し、銅箔複合体の加工性が向上しない場合がある。銅箔は4%以上の引張破断歪があることが好ましい。tが0.05mm(50μm)を超えると、銅箔複合体にしたときに銅箔単体の特性の影響が大きく現れ、銅箔複合体の加工性が向上しない場合がある。
銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔、メタライズによる銅箔等を用いることができるが、再結晶により加工性に優れつつ、強度(f)を低くできる圧延銅箔が好ましい。銅箔表面に接着、防錆のための処理層が形成されている場合はそれらも銅箔に含めて考える。
<樹脂層>
樹脂層としては特に制限されず、樹脂材料を銅箔に塗布して樹脂層を形成してもよいが、銅箔に貼付可能な樹脂フィルムが好ましい。樹脂フィルムとしては、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PI(ポリイミド)フィルム、LCP(液晶ポリマー)フィルム、PP(ポリプロピレン)フィルムが挙げられる。
樹脂フィルムと銅箔との積層方法としては、樹脂フィルムと銅箔との間に接着剤を用いてもよく、樹脂フィルムを銅箔に熱圧着してもよい。又、接着剤層の強度が低いと、銅箔複合体の加工性が向上し難いので、接着剤層の強度が樹脂層の応力(f)の1/3以上であることが好ましい。これは、本発明では、樹脂層の変形挙動を銅箔に伝え、樹脂層と同じように銅箔も変形させることで、銅箔のくびれを生じにくくして延性が向上させることを技術思想としており、接着剤層の強度が低いと接着剤層で変形が緩和してしまい、銅箔に樹脂の挙動が伝わらないからである。
なお、接着剤を用いる場合、後述する樹脂層の特性は、接着剤層と樹脂層とを合わせたものを対象とする。
樹脂層の厚みtは、0.012〜0.12mm(12〜120μm)であることが好ましい。tが0.012mm(12μm)未満であると、(f×t)/(f×t)<1となることがある。tが0.12mm(120μm)より厚いと、樹脂層の柔軟性(フレキシブル性)が低下して剛性が高くなり過ぎ、加工性が劣化する。樹脂層は40%以上の引張破断歪があることが好ましい。
<銅箔複合体>
上記した銅箔と樹脂層とを積層する銅箔複合体の組み合わせとしては、銅箔/樹脂層の2層構造や、樹脂層/銅箔/樹脂層、又は銅箔/樹脂層/銅箔の3層構造が挙げられる。銅箔の両側に樹脂層が存在する(樹脂層/銅箔/樹脂層)場合、全体の(f×t)の値は、2つの樹脂層のそれぞれについて計算した各(f×t)の値を加算したものとする。樹脂層の両側に銅箔が存在する(銅箔/樹脂層/銅箔)場合、全体の(f×t)の値は、2つの銅箔のそれぞれについて計算した各(f×t)の値を加算したものとする。
<180°剥離接着強度>
銅箔はその厚みが薄いことから厚み方向にくびれを生じやすい。くびれが生じると銅箔は破断するため、延性は低下する。一方、樹脂層は、引張り時にくびれが生じ難い特徴を持つ(均一歪の領域が広い)。そのため、銅箔と樹脂層との複合体においては、樹脂層の変形挙動を銅箔に伝え、樹脂と同じように銅箔も変形させることで、銅箔にくびれが生じ難くなり、延性が向上する。このとき、銅箔と樹脂層との接着強度が低いと、銅箔に樹脂層の変形挙動を伝えることができず、延性は向上しない(剥離して銅が割れる)。
そこで、接着強度を高くすることが必要となる。接着強度としては、せん断接着力が直接的な指標と考えられるが、接着強度を高くし、せん断接着力を銅箔複合体の強度と同等レベルにすると、接着面以外の場所が破断するため測定が難しくなる。
このようなことから、本発明では180°剥離接着強度fの値を用いる。せん断接着強度と180°剥離接着強度とは絶対値がまったく異なるが、加工性や引張伸度と、180°剥離接着強度との間に相関が見られたため、180°剥離接着強度を接着強度の指標とした。
ここで、実際には、「破断したときの強度=せん断密着力」になっていると考えられ、例えば30%以上の引張歪を必要とするような場合、「30%の流動応力≦せん断密着力」となり、50%以上の引張歪を必要とするような場合、「50%の流動応力≦せん断密着力」になると考えられる。そして、本発明者らの実験によると、引張歪が30%以上になると加工性が良好になったため、後述するように銅箔複合体の強度Fとして、引張歪30%における強度を採用することとしている。
図1は、fと(F×T)の関係を実験的に示す図であり、後述する各実施例及び比較例のfと(F×T)の値をプロットしている。(F×T)は引張歪30%で銅箔複合体に加わる力であり、これを加工性を向上するために必要な、最低限のせん断接着強度とみなすと、fと(F×T)の絶対値が同じであれば、両者は傾き1で相関が見られることになる。
但し、図1においては、すべてのデータのfと(F×T)が同じ相関とはならず、加工性の劣る各比較例は、(F×T)に対するfの相関係数(つまり、図1の原点を通り、(F×T)に対するfの傾き)が小さく、それだけ180°剥離接着強度が劣っている。一方、各実施例の傾きは各比較例の傾きより大きいが、もっとも傾きの小さい実施例18(ちょうど歪30%で破断したもの)の傾きが1/33であったため、この値を加工性を向上するために必要な、最低限のせん断接着強度と180°剥離接着強度との間の相関係数とみなした。すなわち、せん断接着力を、180°剥離接着強度fの33倍とみなした。
なお、比較例3の場合、図1の傾きが1/33を超えたが、後述する式1:(f×t)/(f×t)が1未満となったため、加工性が劣化している。
180°剥離接着強度は、単位幅あたりの力(N/mm)である。
銅箔複合体が3層構造であって接着面が複数存在するときは、各接着面のうち、180°剥離接着強度が最も低い値を用いる。これは、最も弱い接着面が剥離するためである。又、銅箔は通常S面、M面を有するが、S面は密着性が劣るため、銅箔のS面と樹脂との密着性が弱くなる。そのため、銅箔のS面の180°剥離接着強度を採用することが多い。
銅箔と樹脂層との接着強度を高くする方法としては、銅箔表面(樹脂層側の面)にクロメート処理等によってCr酸化物層を設けたり、銅箔表面に粗化処理を施したり、銅箔表面にNi被覆した後にCr酸化物層を設けることが挙げられる。
Cr酸化物層の厚みは、Cr重量で5〜100μg/dmとするとよい。この厚みは、湿式分析によるクロム含有量から算出する。又、Cr酸化物層の存在は、X線光電子分光(XPS)でCrが検出できるか否かで判定することができる(Crのピークが酸化によりシフトする)。
Ni被覆量は、90〜5000μg/dmとするとよい。Ni被覆の付着量が5000μg/dm(Ni厚み56nmに相当)を超えると、銅箔(及び銅箔複合体)の延性が低下することがある。
また、銅箔と樹脂層とを積層複合させるときの圧力や温度条件を変えて接着強度を高くすることができる。樹脂層が損傷しない範囲で、積層時の圧力、温度をともに大きくした方が良い。
<(f×t)/(f×t)>
次に、特許請求の範囲の((f×t)/(f×t))(以下、「式1」と称する)の意義について説明する。銅箔複合体は、同一の幅(寸法)の銅箔と樹脂層とが積層されているから、式1は銅箔複合体を構成する銅箔と樹脂層に加わる力の比を表している。従って、この比が1以上であることは、樹脂層側により多くの力が加わることを意味し、樹脂層側が銅箔より強度が高いことになる。そして、銅箔は破断せずに良好な加工性を示す。
一方、(f×t)/(f×t)<1になると、銅箔側により多くの力が加わってしまうので、樹脂層の変形挙動を銅箔に伝え、樹脂と同じように銅箔を変形させるという上記した作用が生じなくなる。
ここで、f及びfは、塑性変形が起きた後の同じ歪量での応力であればよいが、銅箔の引張破断歪と、樹脂層(例えばPETフィルム)の塑性変形が始まる歪とを考慮して引張歪4%の応力としている。なお、f及びf(並びにf)は、全てMD(Machine Direction)の値とする。
<33f/(F×T)>
次に、特許請求の範囲の(33f/(F×T))(以下、「式2」と称する)の意義について説明する。上記したように、加工性を向上するために必要な、最低限の銅箔と樹脂層との接着強度を直接示すせん断接着力は、180°剥離接着強度fの約33倍であるから、33fは銅箔と樹脂層との加工性を向上するために必要な、最低限の接着強度を表している。一方、(F×T)は銅箔複合体に加わる力であるから、式2は、銅箔と樹脂層との接着強度と、銅箔複合体の引張抵抗力との比になる。そして、銅箔複合体が引張られると、銅箔と樹脂層の界面で、局所変形をしようとする銅箔と引張均一歪をしようとする樹脂とによりせん断応力が掛かる。従って、このせん断応力より接着強度が低いと銅と樹脂層が剥離してしまい、銅箔に樹脂層の変形挙動を伝えることができなくなり、銅箔の延性が向上しない。
つまり、式2の比が1未満であると、接着強度が銅箔複合体に加わる力より弱くなって銅箔と樹脂が剥離し易くなり、銅箔がプレス成形等の加工によって破断する。
式2の比が1以上であれば、銅と樹脂層とが剥離せずに樹脂層の変形挙動を銅箔に伝えることができ、銅箔の延性が向上する。なお、式2の比は高いほど好ましいが、10以上の値を実現することは通常は困難であるため、式2の上限を10とするとよい。
尚、33f/(F×T)が大きいほど加工性は向上すると考えられるが、樹脂層の引張歪lと33f/(F×T)は比例しない。これは(f×t)/(f×t)の大きさ、銅箔、樹脂層単体の延性の影響によるものであるが、33f/(F×T)≧1、(f×t)/(f×t)≧1を満たす銅箔と樹脂層の組み合わせであれば、必要とする加工性を有する複合体を得ることができる。
ここで、銅箔複合体の強度Fとして、引張歪30%における強度を用いるのは、上記したように引張歪が30%以上になると加工性が良好になったためである。又、銅箔複合体の引張試験をしたところ、引張歪30%までは歪によって流動応力に大きな差が生じたが、30%以後では引張歪によっても流動応力に大きな差が生じなかった(多少加工硬化したが曲線の傾きはかなり小さくなった)からである。
なお、銅箔複合体の引張歪が30%未満の場合、銅箔複合体の引張強度をFとする。
以上のように、本発明の銅箔複合体は、プレス加工等のような一軸曲げと異なる過酷(複雑)な変形を行っても銅箔が割れることを防止し、加工性に優れる。特に本発明は、プレス加工のような立体成形に適する。銅箔複合体を立体成形することで、銅箔複合体を複雑な形状にしたり、銅箔複合体の強度を向上させることができ、例えば銅箔複合体自身を各種電源回路の筐体とすることもでき、部品点数やコストの低減を図ることができる。
<l/L>
銅箔複合体の引張破断歪lと、樹脂層単体の引張破断歪Lとの比l/Lが0.7〜1であることが好ましい。
通常、銅箔の引張破断歪より樹脂層の引張破断歪が圧倒的に高く、同様に樹脂層単体の破断歪の方が銅箔複合体の引張破断歪より圧倒的に高い。一方、上記したように本発明においては、銅箔に樹脂層の変形挙動を伝えて銅箔の延性を向上させており、それに伴って銅箔複合体の引張破断歪を樹脂層単体の引張破断歪の70〜100%まで向上させることができる。そして、比l/Lが0.7以上であると、プレス成形性がさらに向上する。
なお、銅箔複合体の引張破断歪lは、引張試験を行ったときの引張破断歪であり、樹脂層と銅箔が同時に破断したときはその値とし、銅箔が先に破断したときは銅箔が破断した時点の値とする。又、樹脂層単体の引張破断歪Lは、銅箔両面に樹脂層がある場合、両方の樹脂層のそれぞれについて引張試験を行って引張破断歪を測定し、値の大きいほうの引張破断歪をLとする。銅箔両面に樹脂層がある場合、銅箔を除去して生じた2つの樹脂層のそれぞれについて測定する。
<樹脂層のTg>
通常、樹脂層は高温で強度が低下したり接着力が低下するため、高温では(f×t)/(f×t)≧1や、1≦33f/(F×T)を満たし難くなる。例えば、樹脂層のTg(ガラス転移温度)以上の温度では、樹脂層の強度や接着力を維持することが難しくなる場合があるが、Tg未満の温度であれば樹脂層の強度や接着力を維持し易くなる傾向にある。つまり、樹脂層のTg(ガラス転移温度)未満の温度(例えば5℃〜215℃)であれば、銅箔複合体が(f×t)/(f×t)≧1、及び1≦33f/(F×T)を満たし易くなる。なお、Tg未満の温度においても、温度が高いほうが樹脂層の強度や密着力が小さくなり、式1および式2を満たし難くなる傾向にあると考えられる(後述の実施例20−22参照)。
さらに、式1及び式2を満たす場合、樹脂層のTg未満の比較的高い温度(例えば40℃〜215℃)でも銅箔複合体の延性を維持できることが判明している。樹脂層のTg未満の比較的高い温度(例えば40℃〜215℃)でも銅箔複合体の延性を維持できると、温間プレスなどの工法においても優れた加工性を示す。又、樹脂層にとっては温度が高いほうが成形性がよい。また、プレス後に形状を跡付けるために(弾性変形で元に戻らないように)温間でプレスされることが行われるので、この点でも樹脂層のTg未満の比較的高い温度(例えば40℃〜215℃)でも銅箔複合体の延性を維持できると好ましい。
なお、銅箔複合体が接着剤層と樹脂層とを含む場合や、3層構造の銅箔複合体のように樹脂層が複数存在する場合、最もTg(ガラス転移温度)が低い樹脂層のTgを採用する。
<銅箔複合体の製造>
タフピッチ銅からなるインゴットを熱間圧延し、表面切削で酸化物を取り除いた後、冷間圧延、焼鈍と酸洗を繰り返し、表1の厚みt(mm)まで薄くし、最後に焼鈍を行って加工性を確保し、ベンゾトリアゾールで防錆処理して銅箔を得た。銅箔が幅方向で均一な組織となるよう、冷間圧延時のテンション及び圧延材の幅方向の圧下条件を均一にした。次の焼鈍では幅方向で均一な温度分布となるよう複数のヒータを使用して温度管理を行い、銅の温度を測定して制御した。
さらに、得られた銅箔表面に対し表1に示す表面処理を行った後、表1に示す樹脂フィルム(樹脂層)を用い、(樹脂層のTg+50℃)以上の温度で真空プレス(プレス圧力200N/cm2)によって樹脂フィルムを積層し、表1に示す層構造の銅箔複合体を作製した。なお、銅箔の両面に樹脂フィルムを積層した場合、両面のfを測定し、fが小さい方(接着強度が弱い方)の面の銅箔の表面処理を表1に記載した。
なお、表1中、Cuは銅箔を示し、PIはポリイミドフィルム、PETはポリエチレンテレフタレートフィルムを示す。又、PI、PETのTgは、それぞれ220℃、70℃であった。
なお、表面処理の条件は以下の通りである。
クロメート処理:クロメート浴(K2Cr2O7:0.5〜5g/L)を用い、電流密度1〜10A/dmで電解処理した。
Ni被覆+クロメート処理:Niめっき浴(Niイオン濃度:1〜30g/Lのワット浴)を用い、めっき液温度25〜60℃、電流密度0.5〜10A/dmでNiめっきを行った後、上記と同様にクロメート処理を行った。
粗化処理:処理液(Cu:10〜25g/L、H2SO4:20〜100g/L)を用い、温度20〜40℃、電流密度30〜70A/dm、電解時間1〜5秒で電解処理を行った。その後、Ni−Coめっき液(Coイオン濃度:5〜20g/L、Niイオン濃度:5〜20g/L、pH:1.0〜4.0)を用い、温度25〜60℃、電流密度:0.5〜10A/dmでNi−Coめっきを行った。
<引張試験>
銅箔複合体から幅12.7mmの短冊状の引張試験片を複数作製した。銅箔、及び樹脂フィルムの引張試験については、積層前の銅箔単体及び樹脂フィルム単体を12.7mmの短冊状にした。
そして、引張試験機により、JIS−Z2241に従い、銅箔の圧延方向と平行な方向に引張試験した。引張試験時の試験温度を表1に示す。
<180°ピール試験>
180°ピール試験を行って、180°剥離接着強度fを測定した。まず、銅箔複合体から幅12.7mmの短冊状のピール試験片を複数作製した。試験片の銅箔面をSUS板に固定し、樹脂層を180°方向に引き剥がした。樹脂層が銅箔の両面に存在する実施例については樹脂層+銅箔をSUS板に固定し、逆側の樹脂層を180°方向に引き剥がした。銅箔が樹脂層の両面に存在する実施例については片面の銅箔を除去した後に逆面の銅箔側をSUS板に固定し、樹脂層を180°方向に引き剥がした。そのほかの条件はJIS−C5016に従った。
尚、JISの規格では銅箔層を引き剥がすことになっているが、実施例にて樹脂層を引き剥がしたのは銅箔の厚み、剛性による影響を小さくするためである。
<加工性の評価>
図2に示すカップ試験装置10を用いて加工性の評価を行った。カップ試験装置10は、台座4とポンチ2とを備えており、台座4は円錐台状の斜面を有し、円錐台は上から下へ向かって先細りになっていて、円錐台の斜面の角度は水平面から60°をなしている。又、円錐台の下側には、直径15mmで深さ7mmの円孔が連通している。一方、ポンチ2は先端が直径14mmの半球状の円柱をなし、円錐台の円孔へポンチ2先端の半球部を挿入可能になっている。
なお、円錐台の先細った先端と、円錐台の下側の円孔の接続部分は半径(r)=3mmの丸みを付けている。
そして、銅箔複合体を直径30mmの円板状の試験片20に打ち抜き、台座4の円錐台の斜面に銅箔複合体を載置し、試験片20の上からポンチ2を押し下げて台座4の円孔へ挿入した。これにより、試験片20がコニカルカップ状に成形された。
なお、銅箔複合体の片面にのみ樹脂層がある場合、樹脂層を上にして台座4に載置する。又、銅箔複合体の両面に樹脂層がある場合、M面と接着している樹脂層を上にして台座4に載置する。銅箔複合体の両面がCuの場合はどちらが上であってもよい。
成形後の試験片20内の銅箔の割れの有無を目視で判定し、以下の基準で加工性の評価を行った。
◎:銅箔が割れず、銅箔にシワもない
○:銅箔が割れなかったが、銅箔に若干のシワがある
×:銅箔が割れた
得られた結果を表1、表2に示す。なお、表1の試験温度は、F、f、f、f、及び加工性の評価を行った温度を示す。
Figure 2012020528
Figure 2012020528
表1、表2から明らかなように、各実施例の場合、(f×t)/(f×t)≧1、及び1≦33f/(F×T)をともに満たし、加工性に優れたものとなった。
なお、同じ構成の銅箔積層体を用いた実施例6と実施例20とを比較すると、室温(約25℃)で引張試験を行ってF等を測定した実施例6の方が、実施例20より(f×t)/(f×t)の値が大きく、実施例20では試験温度上昇により樹脂層が弱く(fが小さく)なっていることが分かる。
一方、銅箔に表面処理をせずに樹脂フィルムを積層した比較例1の場合、接着強度が低下し、33f/(F×T)の値が1未満となり、加工性が劣化した。
積層時のプレス圧力を100N/cm2に低減した比較例2、5の場合も接着強度が低下し、33f/(F×T)の値が1未満となり、加工性が劣化した。
樹脂フィルムの厚みを薄くした比較例3の場合、樹脂フィルムの強度が銅箔に比べて弱くなって(f×t)/(f×t)の値が1未満となり、加工性が劣化した。
樹脂フィルムと銅箔とを熱融着せずに接着剤で積層した比較例4の場合、接着強度が低下し、33f/(F×T)の値が1未満となり、加工性が劣化した。

Claims (3)

  1. 銅箔と樹脂層とが積層された銅箔複合体であって、
    前記銅箔の厚みをt(mm)、引張歪4%における前記銅箔の応力をf(MPa)、前記樹脂層の厚みをt(mm)、引張歪4%における前記樹脂層の応力をf(MPa)としたとき、式1:(f×t)/(f×t)≧1を満たし、
    かつ、前記銅箔と前記樹脂層との180°剥離接着強度をf(N/mm)、前記銅箔複合体の引張歪30%における強度をF(MPa)、前記銅箔複合体の厚みをT(mm)としたとき、式2:1≦33f/(F×T)を満たすことを特徴とする銅箔複合体。
  2. 前記樹脂層のガラス転移温度未満の温度において、前記式1及び式2が成り立つことを特徴とする請求項1記載の銅箔複合体。
  3. 前記銅箔複合体の引張破断歪lと、前記樹脂層単体の引張破断歪Lとの比l/Lが0.7〜1であることを特徴とする請求項1又は2記載の銅箔複合体。
JP2010161029A 2010-07-15 2010-07-15 銅箔複合体、及び成形体の製造方法 Active JP5325175B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010161029A JP5325175B2 (ja) 2010-07-15 2010-07-15 銅箔複合体、及び成形体の製造方法
KR1020137000012A KR101443542B1 (ko) 2010-07-15 2011-06-16 동박 복합체
CN201180034868.8A CN102985252B (zh) 2010-07-15 2011-06-16 铜箔复合体
PCT/JP2011/063770 WO2012008260A1 (ja) 2010-07-15 2011-06-16 銅箔複合体
EP11806591.1A EP2581220B1 (en) 2010-07-15 2011-06-16 Copper foil complex
US13/579,073 US9549471B2 (en) 2010-07-15 2011-06-16 Copper foil composite
TW100121582A TWI435803B (zh) 2010-07-15 2011-06-21 Copper foil composite

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010161029A JP5325175B2 (ja) 2010-07-15 2010-07-15 銅箔複合体、及び成形体の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012020528A true JP2012020528A (ja) 2012-02-02
JP2012020528A5 JP2012020528A5 (ja) 2012-03-15
JP5325175B2 JP5325175B2 (ja) 2013-10-23

Family

ID=45469270

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010161029A Active JP5325175B2 (ja) 2010-07-15 2010-07-15 銅箔複合体、及び成形体の製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9549471B2 (ja)
EP (1) EP2581220B1 (ja)
JP (1) JP5325175B2 (ja)
KR (1) KR101443542B1 (ja)
CN (1) CN102985252B (ja)
TW (1) TWI435803B (ja)
WO (1) WO2012008260A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014217992A (ja) * 2013-05-07 2014-11-20 Jx日鉱日石金属株式会社 積層体、銅張積層体、フレキシブル配線板及び立体成型体
JP2018171741A (ja) * 2017-03-31 2018-11-08 Jx金属株式会社 積層体及び成形品の製造方法
US10221487B2 (en) 2014-05-30 2019-03-05 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Metal foil for electromagnetic shielding, electromagnetic shielding material and shielded cable
US10842058B2 (en) 2013-07-04 2020-11-17 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Metal foil for electromagnetic shielding, electromagnetic shielding material, and shielding cable

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102369794B (zh) 2009-03-31 2016-05-25 Jx日矿日石金属株式会社 电磁波屏蔽材料及电磁波屏蔽材料的制造方法
JP5325175B2 (ja) 2010-07-15 2013-10-23 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、及び成形体の製造方法
JP5705311B2 (ja) 2011-05-13 2015-04-22 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体及びそれに使用される銅箔、並びに成形体及びその製造方法
JP5475196B2 (ja) * 2012-01-13 2014-04-16 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5822842B2 (ja) * 2012-01-13 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5770113B2 (ja) * 2012-01-13 2015-08-26 Jx日鉱日石金属株式会社 金属箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5822838B2 (ja) 2012-01-13 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP6240376B2 (ja) 2012-07-13 2017-11-29 タツタ電線株式会社 シールドフィルム、及び、シールドプリント配線板
CN104321469A (zh) * 2012-12-27 2015-01-28 古河电气工业株式会社 低反弹性电解铜箔、使用该电解铜箔的线路板及挠性线路板
JP5497949B1 (ja) * 2013-07-03 2014-05-21 Jx日鉱日石金属株式会社 電磁波シールド用金属箔、電磁波シールド材及びシールドケーブル
JP6883449B2 (ja) * 2017-03-13 2021-06-09 Jx金属株式会社 電磁波シールド材

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59162044A (ja) * 1983-01-15 1984-09-12 アクゾナ・インコ−ポレ−テッド 厚いポリイミドと支持基材とから成る剥離強度の大きいラミネート
JP2002249835A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Nippon Mining & Metals Co Ltd 積層板用銅合金箔
JP4859262B2 (ja) * 2009-07-07 2012-01-25 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体

Family Cites Families (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5953875B2 (ja) 1978-06-14 1984-12-27 株式会社東芝 感熱記録ヘツド
SU994306A1 (ru) 1980-10-13 1983-02-07 Предприятие П/Я Г-4904 Слоистый материал дл печатных плат
EP0167020B1 (de) * 1984-06-30 1988-11-23 Akzo Patente GmbH Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate
US4749625A (en) 1986-03-31 1988-06-07 Hiraoka & Co., Ltd. Amorphous metal laminate sheet
JPH01163059A (ja) 1987-12-21 1989-06-27 Matsushita Electric Works Ltd 金属箔張り積層板
JPH0297097A (ja) 1988-10-03 1990-04-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電磁波シールド材
US4965408A (en) 1989-02-01 1990-10-23 Borden, Inc. Composite sheet material for electromagnetic radiation shielding
JPH03112643A (ja) 1989-09-27 1991-05-14 Hitachi Chem Co Ltd 銅張積層板及びその製造方法
JPH0793496B2 (ja) 1990-10-04 1995-10-09 日立化成工業株式会社 銅張積層板用銅箔樹脂接着層
JPH04223006A (ja) 1990-12-25 1992-08-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd 難燃型導電性銅ペースト組成物
JPH073237A (ja) 1993-06-15 1995-01-06 Toray Ind Inc 接着剤
JPH0751283B2 (ja) 1993-07-19 1995-06-05 有限会社棚倉物産開発 寄木細工による線形模様板材の製法
JPH0758477A (ja) 1993-08-11 1995-03-03 Dainippon Printing Co Ltd 一体型電磁波シールド成形体及びその製造方法
JP2809059B2 (ja) 1993-10-06 1998-10-08 東レ株式会社 カバーレイ
JPH07290449A (ja) 1994-04-27 1995-11-07 Matsushita Electric Works Ltd シート状の電磁波シールド成形材料及びその製造方法
US6132851A (en) 1994-06-28 2000-10-17 Ga-Tek Inc. Adhesive compositions and copper foils and copper clad laminates using same
JPH0853789A (ja) 1994-08-09 1996-02-27 Furukawa Circuit Foil Kk 電解銅箔の製造方法
JP3208029B2 (ja) 1994-11-22 2001-09-10 株式会社巴川製紙所 静電チャック装置およびその作製方法
ATE186443T1 (de) 1995-07-20 1999-11-15 Circuit Foil Luxembourg Trading Sarl Kupferfolie für gedruckte schaltungen und verfahren zu ihrer herstellung
JPH0953162A (ja) 1995-08-18 1997-02-25 Nippon Foil Mfg Co Ltd 軟質銅箔の製造方法
US5573857A (en) 1995-09-29 1996-11-12 Neptco Incorporated Laminated shielding tape
JPH09270593A (ja) 1996-03-29 1997-10-14 Nisshin Steel Co Ltd 室内用電磁波シ−ルド鋼板
JPH1056289A (ja) 1996-05-28 1998-02-24 Nissha Printing Co Ltd 透光性電磁波シールド材料とその製造方法
JPH1058593A (ja) 1996-08-27 1998-03-03 Hitachi Chem Co Ltd 銅張積層板
JPH10173385A (ja) 1996-12-09 1998-06-26 Kitagawa Ind Co Ltd 電線等の電磁シールド部材及び電磁シールド方法
US6143399A (en) * 1997-03-03 2000-11-07 Ube Industries, Ltd. Aromatic polyimide film
JP4122541B2 (ja) 1997-07-23 2008-07-23 松下電器産業株式会社 シ−ルド材
JP3346265B2 (ja) * 1998-02-27 2002-11-18 宇部興産株式会社 芳香族ポリイミドフィルムおよびその積層体
JP3009383B2 (ja) 1998-03-31 2000-02-14 日鉱金属株式会社 圧延銅箔およびその製造方法
JP3434711B2 (ja) 1998-09-24 2003-08-11 株式会社巴川製紙所 放熱シート
JP4147639B2 (ja) 1998-09-29 2008-09-10 宇部興産株式会社 フレキシブル金属箔積層体
JP3856582B2 (ja) 1998-11-17 2006-12-13 日鉱金属株式会社 フレキシブルプリント回路基板用圧延銅箔およびその製造方法
JP3850155B2 (ja) 1998-12-11 2006-11-29 日本電解株式会社 電解銅箔、二次電池の集電体用銅箔及び二次電池
JP4349690B2 (ja) 1999-06-29 2009-10-21 日本電解株式会社 電解銅箔の製造方法
JP2002019023A (ja) 2000-07-03 2002-01-22 Toray Ind Inc 金属箔積層フィルム
JP3994696B2 (ja) * 2000-10-02 2007-10-24 宇部興産株式会社 線膨張係数を制御したポリイミドフィルム及び積層体
JP2002144510A (ja) 2000-11-08 2002-05-21 Toray Ind Inc 樹脂シートおよび金属積層シート
JP3768104B2 (ja) * 2001-01-22 2006-04-19 ソニーケミカル株式会社 フレキシブルプリント基板
CN1195395C (zh) * 2001-01-30 2005-03-30 日鉱金属股份有限公司 积层板用铜合金箔
JPWO2002067641A1 (ja) 2001-02-21 2004-06-24 鐘淵化学工業株式会社 配線基板およびその製造方法、並びに該配線基板に用いられるポリイミドフィルムおよび該製造方法に用いられるエッチング液
US6884936B2 (en) 2001-03-02 2005-04-26 Hitachi Chemical Co., Ltd. Electromagnetic shield film, electromagnetic shield unit and display
JP2002319319A (ja) 2001-04-23 2002-10-31 Sumitomo Electric Ind Ltd 平行2心シールド電線
JP3962291B2 (ja) 2001-07-17 2007-08-22 日鉱金属株式会社 銅張積層板用圧延銅箔およびその製造方法
CN1229001C (zh) * 2001-08-10 2005-11-23 日矿金属加工株式会社 层叠板用铜合金箔
JP2003193211A (ja) 2001-12-27 2003-07-09 Nippon Mining & Metals Co Ltd 銅張積層板用圧延銅箔
JP2004060018A (ja) 2002-07-30 2004-02-26 Hitachi Cable Ltd 電子部品用銅箔
US7304250B2 (en) 2002-08-08 2007-12-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic shielding sheet
US6703114B1 (en) 2002-10-17 2004-03-09 Arlon Laminate structures, methods for production thereof and uses therefor
JP2004256832A (ja) 2003-02-24 2004-09-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 黒色化処理面を備える表面処理銅箔及びその表面処理銅箔を用いたプラズマディスプレイの前面パネル用の磁気遮蔽導電性メッシュ
JP4059150B2 (ja) 2003-06-05 2008-03-12 日立電線株式会社 プリント配線用銅合金箔及びその製造方法
JP3879850B2 (ja) 2003-06-10 2007-02-14 ソニー株式会社 光ピックアップ装置とその製造方法
JP4202840B2 (ja) 2003-06-26 2008-12-24 日鉱金属株式会社 銅箔及びその製造方法
JP4162087B2 (ja) 2003-08-22 2008-10-08 日鉱金属株式会社 高屈曲性圧延銅箔及びその製造方法
JP2005191443A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Hitachi Chem Co Ltd 電磁波シールド用積層体
JP4458521B2 (ja) 2004-03-02 2010-04-28 三井金属鉱業株式会社 灰色化処理面を備える表面処理銅箔、その表面処理銅箔の製造方法及びその表面処理銅箔を用いたプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュ
JP4734837B2 (ja) * 2004-03-23 2011-07-27 宇部興産株式会社 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製造方法および積層体
KR100633790B1 (ko) 2004-06-02 2006-10-16 일진소재산업주식회사 전자파 차폐용 흑화표면처리 동박의 제조방법과 그 동박및 이를 사용하여 제조된 복합재료
JP4371234B2 (ja) 2005-03-03 2009-11-25 信越化学工業株式会社 フレキシブル金属箔ポリイミド積層板
JP4695421B2 (ja) 2005-03-29 2011-06-08 新日鐵化学株式会社 積層体の製造方法
KR101137274B1 (ko) 2005-04-04 2012-04-20 우베 고산 가부시키가이샤 구리박 적층 기판
JP4522972B2 (ja) 2005-04-28 2010-08-11 日鉱金属株式会社 銅張積層基板用高光沢圧延銅箔
JP4681936B2 (ja) 2005-05-20 2011-05-11 福田金属箔粉工業株式会社 プラズマディスプレイ電磁波シールドフィルター用銅箔
JP2007110010A (ja) 2005-10-17 2007-04-26 Shindo Denshi Kogyo Kk フレキシブルプリント配線板、フレキシブルプリント回路板、およびそれらの製造方法
JP2007146258A (ja) 2005-11-30 2007-06-14 Furukawa Circuit Foil Kk 電解銅箔、プリント配線板および多層プリント配線板
JP4683640B2 (ja) * 2006-01-31 2011-05-18 Jx日鉱日石金属株式会社 プリント配線基板用銅箔及びそれを用いたプリント配線基板
JP2008053789A (ja) 2006-08-22 2008-03-06 Sanyo Electric Co Ltd Icカード付き携帯電話機
JP2008088492A (ja) 2006-09-29 2008-04-17 Nikko Kinzoku Kk 銅合金箔および銅−樹脂有機物フレキシブル積層体
WO2008050584A1 (fr) 2006-10-24 2008-05-02 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Feuille de cuivre enroulee presentant une excellente resistance a la flexion
US7789977B2 (en) 2006-10-26 2010-09-07 Hitachi Cable, Ltd. Rolled copper foil and manufacturing method thereof
JP5024930B2 (ja) 2006-10-31 2012-09-12 三井金属鉱業株式会社 表面処理銅箔、極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔及びその表面処理銅箔の製造方法並びに極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔の製造方法
JP4629717B2 (ja) 2006-11-11 2011-02-09 ジョインセット株式会社 軟性金属積層フィルム及びその製造方法
JP2008166655A (ja) 2007-01-05 2008-07-17 Nippon Denkai Kk 電磁波シールド材用銅箔
JP5181618B2 (ja) * 2007-10-24 2013-04-10 宇部興産株式会社 金属箔積層ポリイミド樹脂基板
JP5057932B2 (ja) * 2007-10-31 2012-10-24 Jx日鉱日石金属株式会社 圧延銅箔及びフレキシブルプリント配線板
JP5055088B2 (ja) 2007-10-31 2012-10-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔及びそれを用いたフレキシブルプリント基板
JP2009161068A (ja) 2008-01-08 2009-07-23 Toyota Central R&D Labs Inc 車両用安全装置
JP2009286868A (ja) 2008-05-28 2009-12-10 Jfe Chemical Corp 線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミド、その熱硬化物、製造方法、接着剤および銅張積層板
CN102046854B (zh) 2008-05-30 2013-09-25 Jx日矿日石金属株式会社 Sn或Sn合金镀敷被膜、具有该被膜的复合材料、以及复合材料的制备方法
WO2010004988A1 (ja) 2008-07-07 2010-01-14 古河電気工業株式会社 電解銅箔および銅張積層板
EP2319960A4 (en) 2008-07-22 2013-01-02 Furukawa Electric Co Ltd LAMINATED COPPER LAMINATE LAMINATE
JP5185066B2 (ja) * 2008-10-23 2013-04-17 Jx日鉱日石金属株式会社 屈曲性に優れた銅箔、その製造方法及びフレキシブル銅貼積層板
JP5349076B2 (ja) 2009-02-23 2013-11-20 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 蓄電デバイス容器用樹脂被覆ステンレス鋼箔
CN102369794B (zh) 2009-03-31 2016-05-25 Jx日矿日石金属株式会社 电磁波屏蔽材料及电磁波屏蔽材料的制造方法
JP4563495B1 (ja) 2009-04-27 2010-10-13 Dowaメタルテック株式会社 銅合金板材およびその製造方法
JP5461089B2 (ja) 2009-07-13 2014-04-02 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体
JP2010006071A (ja) 2009-08-21 2010-01-14 Furukawa Electric Co Ltd:The 表面処理銅箔、キャリア付き極薄銅箔、フレキシブル銅張積層板及びポリイミド系フレキシブルプリント配線板
KR101363183B1 (ko) 2010-03-30 2014-02-13 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 전자파 실드용 복합체
CN102241950A (zh) 2010-05-14 2011-11-16 3M创新有限公司 电磁屏蔽胶带
JP5325175B2 (ja) 2010-07-15 2013-10-23 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、及び成形体の製造方法
CN103429424B (zh) 2011-03-31 2015-12-02 Jx日矿日石金属株式会社 金属箔复合体和使用其的挠性印刷基板、以及成形体及其制造方法
JP5705311B2 (ja) 2011-05-13 2015-04-22 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体及びそれに使用される銅箔、並びに成形体及びその製造方法
JP5822838B2 (ja) 2012-01-13 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5822842B2 (ja) 2012-01-13 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59162044A (ja) * 1983-01-15 1984-09-12 アクゾナ・インコ−ポレ−テッド 厚いポリイミドと支持基材とから成る剥離強度の大きいラミネート
JP2002249835A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Nippon Mining & Metals Co Ltd 積層板用銅合金箔
JP4859262B2 (ja) * 2009-07-07 2012-01-25 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014217992A (ja) * 2013-05-07 2014-11-20 Jx日鉱日石金属株式会社 積層体、銅張積層体、フレキシブル配線板及び立体成型体
US10842058B2 (en) 2013-07-04 2020-11-17 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Metal foil for electromagnetic shielding, electromagnetic shielding material, and shielding cable
US10221487B2 (en) 2014-05-30 2019-03-05 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Metal foil for electromagnetic shielding, electromagnetic shielding material and shielded cable
JP2018171741A (ja) * 2017-03-31 2018-11-08 Jx金属株式会社 積層体及び成形品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN102985252B (zh) 2014-12-10
US9549471B2 (en) 2017-01-17
KR101443542B1 (ko) 2014-09-22
JP5325175B2 (ja) 2013-10-23
EP2581220A1 (en) 2013-04-17
WO2012008260A1 (ja) 2012-01-19
US20130071676A1 (en) 2013-03-21
CN102985252A (zh) 2013-03-20
TWI435803B (zh) 2014-05-01
EP2581220A4 (en) 2014-05-14
KR20130039325A (ko) 2013-04-19
TW201217157A (en) 2012-05-01
EP2581220B1 (en) 2016-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5325175B2 (ja) 銅箔複合体、及び成形体の製造方法
JP5822838B2 (ja) 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5822842B2 (ja) 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5475196B2 (ja) 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JPWO2012132814A1 (ja) 金属箔複合体及びそれを用いたフレキシブルプリント基板、並びに成形体及びその製造方法
JP5770113B2 (ja) 金属箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5546571B2 (ja) 銅箔、銅張積層体、フレキシブル配線板及び立体成型体

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120112

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120330

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20120903

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20120927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121009

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130225

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130425

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130716

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130719

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5325175

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250