JP2012012548A

JP2012012548A - ポリビニルブチラール樹脂の着色を抑制するためのフェノール化合物の使用及びポリビニルブチラール樹脂成形物の着色抑制方法

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Publication number: JP2012012548A
Application number: JP2010152777A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Kitamura; 和裕北村
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2010-07-05
Filing date: 2010-07-05
Publication date: 2012-01-19
Also published as: WO2012005127A1; TW201204774A

Abstract

【課題】ポリビニルブチラール樹脂は、光が照射されることにより黄変したり透明性が低下したりすることがあり、かかる光照射後のポリビニルブチラール樹脂及びその成形物の着色を抑制することが求められていた。
【解決手段】光照射後のポリビニルブチラール樹脂の着色を抑制するための、式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物の使用。
【選択図】なし

Description

本発明は、ポリビニルブチラール樹脂の着色を抑制するためのフェノール化合物の使用及びポリビニルブチラール樹脂成形物の着色抑制方法に関する。

ポリビニルブチラール樹脂は、接着性、透明性、膜物性、耐候性等に優れていることから、主に合わせガラス用中間膜に成形して用いられており、建築用窓ガラスや自動車フロントガラスに広く採用されている（非特許文献１）。

「２００８年プラスチックフィルム・シートの現状と将来展望」、株式会社富士キメラ総研、２００８年７月１７日、ｐ．１８５−１９１

ポリビニルブチラール樹脂は、光が照射されることにより黄変したり透明性が低下したりすることがあり、かかる光照射後のポリビニルブチラール樹脂及びその成形物の着色を抑制することが求められていた。

かかる課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の［１］〜［１１］記載の発明に至った。
［１］ポリビニルブチラール樹脂の着色を抑制するための、式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物の使用；

［２］下記工程（Ａ）を含むことを特徴とするポリビニルブチラール樹脂の着色抑制方法；
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを混練する工程
［３］式（１）で表されるフェノール化合物の使用量が、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して０．００１〜５重量部である［２］記載の方法；
［４］式（１）で表されるフェノール化合物が、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンである［２］又は［３］記載の方法；
［５］さらに式（２’）

（式中、Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数１〜２０のアルコキシ基を表し、Ｙは酸素原子又は窒素原子を表す。）
で表される構造を有するピペリジン化合物を混練する［２］〜［４］のいずれか一項記載の方法；
［６］式（２’）で表される構造を有するピペリジン化合物が、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）又はセバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）である［５］記載の方法；
［７］さらに紫外線吸収剤を混練する［２］〜［６］のいずれか一項記載の方法；
［８］紫外線吸収剤が、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルベンゾフェノン又は２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトジルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールである［７］記載の方法；

［９］下記工程（Ａ）及び（Ｂ）を含むことを特徴とする光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の着色抑制方法。
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを混練する工程
（Ｂ）：工程（Ａ）で得られた混練物を成形する工程

［１０］下記工程（Ａ）及び（Ｂ）を含むことを特徴とするポリビニルブチラール樹脂成形物の製造方法；
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

［１１］ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを含有する太陽電池用封止材；
［１２］［１１］記載の太陽電池用封止材を含む太陽電池。

本発明によれば、光照射後のポリビニルブチラール樹脂及びその成形物の着色を抑制することができる。

以下、本発明を詳細に説明する。まず、本発明に用いるポリビニルブチラール樹脂について説明する。

ポリビニルブチラール樹脂は、ビニルブチラールに由来する構造単位を含む樹脂である。通常、ビニルアルコールに由来する構造単位と、酢酸ビニルに由来する構造単位を含んでおり、式（４）で表される組成であることが好ましい。

式中、Ｘは０．００１〜０．５であることが好ましく、Ｙは０．００１〜０．５であることが好ましく、Ｚは０．４〜０．９であることが好ましい。但し、ＸとＹとＺとの合計は１である。

かかるポリビニルブチラール樹脂は、通常、ビニルアルコール重合体をｎ−ブチルアルコールでアセタール化することにより製造される。上記ビニルアルコール重合体は、従来公知の手法、即ち酢酸ビニルを重合し、得られた重合体をけん化することによって得ることができる。酢酸ビニルを重合する方法としては、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法など、従来公知の方法を適用することができる。重合開始剤としては、重合方法に応じて、アゾ系開始剤、過酸化物系開始剤、レドックス系開始剤などが適宜選ばれる。けん化反応は、従来公知のアルカリ触媒または酸触媒を用いる加アルコール分解、加水分解などが適用でき、この中でもメタノールを溶剤とし水酸化ナトリウムを触媒として用いるけん化反応が簡便であり好ましい。

アセタール化に用いる酸触媒としては特に限定されず、有機酸および無機酸のいずれでも使用可能であり、例えば、酢酸、パラトルエンスルホン酸、硝酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。これらの中でも塩酸、硫酸、硝酸が好ましく、塩酸がより好ましい。
アセタール化に用いるアルカリ触媒としては特に限定されず、有機酸および無機酸のいずれでも使用可能であり、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。これらの中でも水酸化ナトリウムがより好ましい。

本発明に用いられるポリビニルブチラール樹脂の原料となるビニルアルコール重合体の重合度は、１５０〜３０００の範囲が好ましい。２００〜２５００の範囲がより好ましく、２５０〜２０００の範囲がさらに好ましい。

ポリビニルブチラール樹脂は、上記の方法により製造して用いてもよいし、市販のものを用いてもよい。市販のポリビニルブチラール樹脂としては、例えば、電気化学工業株式会社製のデンカブチラール＃３０００−１、＃３０００−２、＃３０００−４、＃３０００−Ｋ、＃４０００−２、＃５０００−Ａ、＃５０００−Ｄ、＃６０００−Ｃ、＃６０００−ＥＰ、＃６０００−ＣＳ、＃６０００−ＡＳ、積水化学工業株式会社製のエスレック（登録商標）Ｂシリーズ（ＢＬ−１、ＢＬ−１Ｈ、ＢＬ−２、ＢＬ−２Ｈ、ＢＬ−５、ＢＬ−１０、ＢＬ−Ｓ、ＢＸ−Ｌ、ＢＭ−１、ＢＭ−２、ＢＭ−５、ＢＭ−Ｓ、ＢＨ−３、ＢＨ−６、ＢＨ−Ｓ、ＢＸ−１、ＢＸ−５）、エスレック（登録商標）Ｋシリーズ（ＫＳ−１、ＫＳ−３、ＫＳ−５、ＫＳ−１０、ＫＸ−１、ＫＸ−５、ＫＷ−１、ＫＷ−３、ＫＷ−１０）、エスレック（登録商標）ＳＶシリーズ（ＳＶ−０５、ＳＶ−Ｄ００１、ＳＶ−Ｄ００２）等が挙げられる。

次に、前記式（１）で表されるフェノール系化合物（以下、化合物（１）と記すことがある）について説明する。

式（１）中、Ｒ^１は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基などの炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは、分岐状の炭素数が３〜８のアルキル基、より好ましくは、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基である。

Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３のうち、一方が水素原子である場合、他方は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基であることが好ましく、メチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基であることがより好ましい。Ｒ^２及びＲ^３のいずれもが水素原子でない場合、Ｒ^２及びＲ^３が共にメチル基であることが好ましい。

Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表し、好ましくは、単結合、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊である。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。
Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。炭化水素基としては、炭素数１〜１８のアルキル基、アルキル基が置換されていてもよい炭素数６〜２２のアラルキル基、炭素数１〜１８のアルキレン基などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などが挙げられる。中でも、ヘテロ原子を含む炭素数６〜２２のアラルキル基、ヘテロ原子を含み炭素数３〜２２の環状構造を有する炭化水素基、炭素数３〜２２の環状構造を有する炭化水素基であることが好ましい。

Ｑが単結合であり、ｎが１である場合のＸとしては、下式の基が例示される。

Ｑが−Ｃ_２Ｈ_４ＣＯ_２−＊であり、ｎが２又は４である場合は、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでもよい炭素数１〜１８のｎ価のアルコール残基であることが好ましく、具体的には、トリエチレングリコール残基、ペンタエリスリトール残基、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンの残基がより好ましい。

Ｑが単結合であり、ｎが２である場合のＸとしては、硫黄原子、メチレン基、エチリデン基、ブチリデン基等が好ましい。

Ｑが単結合であり、ｎが３である場合のＸとしては、下式の基が例示される。

本発明において、化合物（１）は単独で使用しても２種類以上を併用してもよい。

化合物（１）としては、例えば、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン、ビス｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオン酸｝トリエチレングリコリルエステル、テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸］ペンタエリスリチルエステル、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート等を挙げることができる。中でも、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンが好ましい。

次に、下記工程（Ａ）を含むことを特徴とするポリビニルブチラール樹脂の着色抑制方法について説明する。
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と化合物（１）とを混練する工程

工程（Ａ）において、化合物（１）の使用量は、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは、０．０５〜３重量部、さらに好ましくは０．０１〜２重量部である。化合物（１）の含有量が０．００１重量部以上であれば、光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の着色が低減する傾向があることから好ましい。また、５重量部以下であれば、光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の光線透過率の低下が抑制される傾向があることから好ましい。

工程（Ａ）において、さらに、上記式（２’）で表される構造を有するピペリジン化合物（以下、ピペリジン化合物と記すことがある）を混練することが好ましい。

式（２’）中、Ｒ^４は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数１〜２０のアルコキシ基を表す。炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましい。具体的なＲ^４としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｎ−ブトキシ基等を挙げることができる。Ｙは酸素原子又は窒素原子を表す。

ピペリジン化合物としては、例えば、式（２）

（式中、Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数１〜２０のアルコキシ基を表し、Ａは、炭素数１〜１０のアルキレン基又は式（３）

（式中、Ｒ^４は前記と同じ意味を表す。）で表される２価の基）
で表されるピペリジン化合物；
例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート；
例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド；

例えば、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール及び１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール及び１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール及び３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール及び３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチルサクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］；

例えば、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物等が挙げられる。

ピペリジン化合物は単独で使用しても２種類以上を併用してもよい。
ピペリジン化合物としては、化合物（２）が好ましい。
化合物（２）としては、例えば、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、セバシン酸ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１−エチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１−ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１−エトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１−ｎ−ブトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１−（オクチルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）等のセバシン酸を含むピペリジン化合物；

アジピン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、アジピン酸ビス（１−エチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、アジピン酸ビス（１−ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、アジピン酸ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、アジピン酸ビス（１−エトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、アジピン酸ビス（１−ｎ−ブトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、アジピン酸ビス（１−（オクチルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）等のアジピン酸を含むピペリジン化合物；
コハク酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、コハク酸ビス（１−エチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、コハク酸ビス（１−ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、コハク酸ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、コハク酸ビス（１−エトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、コハク酸ビス（１−ｎ−ブトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）等のコハク酸を含むピペリジン化合物等を挙げることができる。

中でも、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）とセバシン酸（メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）との混合物、並びにセバシン酸（メチル−４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−エチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−エトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−ｎ−ブトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）、又は、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１−（オクチルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）が好ましく、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、コハク酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）、セバシン酸ビス［１−（オクチルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル］、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）とセバシン酸（メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）との混合物、又は、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）がより好ましく、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）とセバシン酸（メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）との混合物、又は、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）がより好ましい。

工程（Ａ）において、ピペリジン化合物の使用量は、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは、０．０５〜３重量部、さらに好ましくは０．０１〜２重量部である。ピペリジン化合物の含有量が０．００１重量部以上であれば、光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の着色が低減する傾向があることから好ましい。また、５重量部以下であれば、光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の光線透過率の低下が抑制される傾向があることから好ましい。

工程（Ａ）において、さらに紫外線吸収剤を混練することが好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば式（５）

（式中、Ｒ_１１〜Ｒ_１６としては、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。Ｒ_１７は、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（５）と記すことがある）等のシュウ酸ジアニリド系紫
外線吸収剤；

例えば、式（６）

（式中、Ｒ_１８、Ｒ_１９及びＲ_２０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基等を表す。これらアルキル基、フェニル基、ベンジル基、アルコキシ基及びヒドロキシアルキル基の水素原子は、それぞれ炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよい。）
で表される化合物（以下、化合物（６）と記すことがある）等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；

例えば、式（７）

（式中、各Ｒ_２1は独立に、水素原子又はハロゲン原子を表す）
の構造を有する化合物（以下、化合物（７）と記すことがある）等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；

例えば、式（８）

（式中、Ｒ_２２は、水酸基を表し、Ｒ_２３は、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基を表し、Ｒ_２４〜Ｒ_２５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基等を表す。これらアルキル基、フェニル基、ベンジル基、アルコキシ基及びヒドロキシアルキル基の水素原子は炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよい。）
で表される化合物（以下、化合物（８）と記すことがある）等のトリアジン系紫外線吸収剤；

例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等が挙げられる。

化合物（５）としては、例えば、
Ｎ−（２−メチルフェニル）−Ｎ’−（２−メトキシフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ’−（２−エトキシフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ−（２−ｔ−ブチルフェニル）−Ｎ’−（２−ｔ−ブトキシフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ−（５−ｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）−Ｎ’−（４−ｔ−ブチル−２−メチルフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ−（５−ｔ−ブチル−２−エトキシフェニル）−Ｎ’−（４−ｔ−ブチル−２−エチルフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ−（５−ｔ−ブチル−２−ｔ−ブトキシフェニル）−Ｎ’−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−メチルフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エチルフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ｔ−ブチルチルフェニル）シュウ酸ジアミド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−メトキシフェニル）シュウ酸ジアミド
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エトキシフェニル）シュウ酸ジアミド
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ｔ−ブトキシフェニル）シュウ酸ジアミドなどが挙げられる。
中でも、Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ’−（２−エトキシフェニル）シュウ酸ジアミド、又は、
Ｎ−（５−ｔ−ブチル−２−エトキシフェニル）−Ｎ’−（４−ｔ−ブチル−２−エチルフェニル）シュウ酸ジアミドが好ましい。

化合物（６）としては、例えば、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジ（ヒドロキシメチル）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジ（２−ヒドロキシエチル）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメトキシ−５，５’−ジ（ヒドロキシメチル）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメトキシ−５，５’−ジ（２−ヒドロキシエチル）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−３，３’−ジ（ヒドロキシメチル）−５，５’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−３，３’−ジ（２−ヒドロキシエチル）−５，５’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジ（ｎ−オクチルオキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクタデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−５−クロロベンゾフェノン等が挙げられる。

化合物（７）としては、例えば、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトジルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−５’−（ヒドロキシメチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−５’−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−５’−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（ヒドロキシメチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（ヒドロキシメチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−オクチル−５’−（ヒドロキシメチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−オクチル−５’−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−オクチル−５’−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等、あるいは２，２’−メチレンビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（ヒドロキシメチル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（５−ブロモ−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（５−ブロモ−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（４−ヒドロキシブチル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（４−ヒドロキシブチル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（５−ブロモ−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（４−ヒドロキシブチル）フェノール〕、３，３−｛２，２’−ビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−１−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕｝プロパン、２，２−｛２，２’−ビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−１−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕｝ブタン、２，２’−オキシビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕、２，２’−ビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕スルフィド、２，２’−ビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕スルホキシド、２，２’−ビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕スルホン、２，２’−ビス〔６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イル）−４−（２−ヒドロキシエチル）フェノール〕アミン等が挙げられる。

化合物（８）としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルフェニル）−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシブチル）フェニル〕−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシブチル）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル〕−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルフェニル）−４，６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕−４，６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕−４，６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−［４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチロキシ）フェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等が挙げられる。

サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。
シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレート等が挙げられる。

紫外線吸収剤は、単独で使用しても２種類以上を併用してもよい。
好ましい紫外線吸収剤は化合物（６）又は化合物（７）であり、より好ましくは２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルベンゾフェノン又は、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトジルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールである。

紫外線吸収剤の使用量は、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して、好ましくは０〜５重量部、より好ましくは０．００５〜３重量部、さらに好ましくは０．０５〜３重量部である。

工程（Ａ）において、さらに可塑剤を混練してもよい。かかる可塑剤としては、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機系可塑剤や燐酸系可塑剤等を挙げることができる

上記一塩基性有機酸エステル系可塑剤としては特に限定はされないが、例えば、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコールと、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプチル酸、ｎ−オクチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−ノニル酸）、デシル酸等の一塩基性有機酸との反応によって得られたグリコール系エステルが挙げられ、なかでもトリエチレングリコール−ジカプロン酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−２−エチル酪酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクチル酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキシル酸エステル等のトリエチレングリコールのエステルが好ましい。

多塩基性有機酸エステル系可塑剤としては特に限定はされないが、例えば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の多塩基性有機酸と炭素原子数４〜８個の直鎖状又は分岐状アルコールとのエステルが挙げられ、なかでもジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペートが好ましい。

燐酸系可塑剤としては特に限定はされないが、トリブトキシエチルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェート、トリイソプロピルフォスフェート等が好ましい。

可塑剤の使用量は、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して、好ましくは１０〜８０重量部、より好ましくは１０〜６０重量部、さらに好ましくは１５〜４５重量部である。可塑剤の使用量が１０重量部以上であれば成型加工性が向上する傾向にあり、８０重量部以下であれば可塑剤がブリードアウトし難い傾向にあり、それぞれ好ましい。

本発明の課題解決に影響を与えない範囲で、さらに、次の添加剤群に記載された添加剤を含むことができる。添加剤群：接着性付与剤、カップリング剤、界面活性剤、着色剤、脱水剤、消泡剤、帯電防止剤または難燃剤等の各種添加剤の１種類もしくは２種類以上が添加されてもよい。

工程（Ａ）の混練方法としては、特に限定はされない。例えば、ヘンシェルミキサー、スーパーミキサー等のバッチ式混合機を用いて、ポリビニルブチラール樹脂と化合物（１）と、必要に応じてピペリジン化合物、紫外線吸収剤、可塑剤および上記添加剤群に記載された添加剤とをドライブレンドし、単軸、多軸押出機、プラストグラフ、ニーダー、バンバリーミキサー又はカレンダーロール、ミキシングロール等を用いる方法が挙げられる。生産性の観点から、押出機を用いる方法が好ましい。

工程（Ａ）により得られるポリビニルブチラール樹脂を含む混練物は、光が照射された後でもイエローネスインデックス（ＹＩ）値が小さく、黄変が少ない。また、光線透過率が高く、透明度が維持される。したがって、かかる混練物を成形し、例えば太陽電池用の封止材として使用すれば、発電効率の経時的な低下を抑制できる。

次に、さらに下記工程（Ｂ）を含むことを特徴とする光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の製造方法及びその着色抑制方法について説明する。

工程（Ｂ）は、上記工程（Ａ）で得られた混練物を成形する工程である。かかる成形方法としては、加熱成形が好ましい。加熱成形方法としては、例えば、単軸または多軸押出し機を用いて上記工程（Ａ）で得られた混練物を好ましくは６０℃〜２００℃、より好ましくは７０℃〜１８０℃で溶融押出してペレット状に成形する方法、例えば、前記ペレット状の成形物をさらに、好ましくは６０℃〜２００℃、より好ましくは７０℃〜１８０℃で加熱しながら、射出成形する方法、例えば、前記ペレット状の成形物をさらに、好ましくは６０℃〜２００℃、より好ましくは７０℃〜１８０℃で加熱しながら、Ｔダイなどから押出成形する方法、例えば、上記工程（Ａ）で得られた混練物を有機溶媒に溶解したのち、基材等に塗工し、好ましくは６０℃〜２００℃、より好ましくは７０℃〜１８０℃で該有機溶媒を留去して、シート状の成形物を得る方法等を挙げることができる。

工程（Ｂ）により得られるポリビニルブチラール樹脂成形物は、光が照射された後でもイエローネスインデックス（ＹＩ）値が小さく、黄変が少ない。また、光線透過率が高く、透明度が維持される。したがって、かかる成形物を、例えば太陽電池用の封止材として使用すれば、発電効率の経時的な低下を抑制できる。

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明する。各実施例において、「部」は、特に説明がない限り「重量部」を意味する。

（実施例１）
３０ｍｍ径の単軸押出し機（田辺プラスチック社製、ＶＳ３０−２８型押し出し機）を用い、１８０℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍの条件で、ポリビニルブチラール樹脂（エスレック（登録商標）ＢＢＭ−１、積水化学工業株式会社製）１００部と、化合物（１）として３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン（スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０、住友化学株式会社製、以下「化合物（Ｉ）」と記載する）０．２部とを混練した。
次いで、得られた混練物を２００℃で熱プレスし、１ｍｍ厚のシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を得た。

（実施例２）
実施例１において、化合物（Ｉ）の使用量を０．０５部とする以外は実施例１と同様にしてシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を得た。

（比較例１）
実施例１において、化合物（Ｉ）を用いない以外は実施例１と同様にしてシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を得た。

（試験例１）
キセノンウエザーメーター（アトラス社製Ｃｉ３５Ａ）（ブラックパネル温度：６３℃、雨なし）を用い、実施例１、２及び比較例１でそれぞれ得られたシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物にキセノン光を照射した。照射時間が０時間（照射前）、１００時間、５００時間、１０００時間である各成形物のＹＩを、プラスチックの光学的特性試験方法ＪＩＳＫ７１０５に基づいて、ミノルタ社製色差計ＣＭ−３５００ｄを用いて測定した。測定結果を表１に示す。ＹＩの値が小さいほど黄変が小さいことを示している。

（実施例３）
実施例１において、ポリビニルブチラール樹脂と化合物（Ｉ）との混練時に、さらに下記＜添加剤＞群記載の化合物（ＩＩ）０．２部と化合物（ＩＶ）０．３部とを混練する以外は、実施例１と同様にしてシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を得た。
（実施例４〜７）
実施例２において、ポリビニルブチラール樹脂と化合物（Ｉ）との混練時に、さらに下記＜添加剤＞群記載の化合物を表２記載の添加量で混練する以外は、実施例２と同様にしてシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を得た。

（比較例２）
３０ｍｍ径の単軸押出し機（田辺プラスチック社製、ＶＳ３０−２８型押し出し機）を用い、１８０℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍの条件で、ポリビニルブチラール樹脂（エスレック（登録商標）ＢＢＭ−１、積水化学工業株式会社製）１００部と、下記＜添加剤＞群記載の化合物（ＩＩ）０．２部と化合物（ＩＶ）０．３部とを混練した。
次いで、得られた混練物を２００℃で熱プレスし、１ｍｍ厚のシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を得た。

＜添加剤＞
化合物（ＩＩ）：セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）
化合物（ＩＩＩ）：セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）
化合物（ＩＶ）：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルベンゾフェノン
化合物（Ｖ）：２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトジルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール

（試験例２）
キセノンウエザーメーター（アトラス社製Ｃｉ３５Ａ）（ブラックパネル温度：６３℃、雨なし）を用い、実施例３〜７及び比較例２でそれぞれ得られたシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物にキセノン光を照射した。照射時間が０時間（照射前）、５００時間である各成形物の光線透過率を、分光光度計（日本分光社製、Ｖ５６０）を用いて、波長４５０ｎｍ、６００ｎｍで測定した。測定結果を表３に示す。光線透過率の値が大きいほど透明度が高いことを示している。

（実施例８）
実施例１〜７でそれぞれ得られたシート状のポリビニルブチラール樹脂成形物を、太陽電池セルの両面に貼合し、次いで、その一方の面に基材を、他方の面にガラスを、それぞれ貼合し、太陽電池のモジュールを得る。

本発明によれば、光照射後のポリビニルブチラール樹脂の着色を抑制することができる。したがって、本発明により得られるポリビニルブチラール樹脂の成形物を太陽電池用の封止材として使用すれば、発電効率の経時的な低下を抑制できる。

Claims

光照射後のポリビニルブチラール樹脂の着色を抑制するための、式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物の使用。
下記工程（Ａ）を含むことを特徴とする光照射後のポリビニルブチラール樹脂の着色抑制方法。
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを混練する工程
式（１）で表されるフェノール化合物の使用量が、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して０．００１〜５重量部である請求項２記載の方法。
式（１）で表されるフェノール化合物が、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンである請求項２又は３記載の方法。
さらに式（２’）

（式中、Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数１〜２０のアルコキシ基を表し、Ｙは酸素原子又は窒素原子を表す。）
で表される構造を有するピペリジン化合物を混練する請求項２〜４のいずれか一項記載の方法。
式（２’）で表される構造を有するピペリジン化合物が、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）又はセバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）である請求項５記載の方法。
さらに紫外線吸収剤を混練する請求項２〜６のいずれか一項記載の方法。
紫外線吸収剤が、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルベンゾフェノン又は２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトジルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールである請求項７記載の方法。
下記工程（Ａ）及び（Ｂ）を含むことを特徴とする光照射後のポリビニルブチラール樹脂成形物の着色抑制方法。
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを混練する工程
（Ｂ）：工程（Ａ）で得られた混練物を成形する工程
下記工程（Ａ）及び（Ｂ）を含むことを特徴とするポリビニルブチラール樹脂成形物の製造方法。
（Ａ）：ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを混練する工程
（Ｂ）：工程（Ａ）で得られた混練物を成形する工程
ポリビニルブチラール樹脂と式（１）

（式中、Ｒ^１は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方はアルキル基を表す。Ｑは、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２−＊、又は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＮＨ−＊を表す。ここで、＊は当該結合手がＸとの結合手であることを表す。ｎは１〜４の整数を表す。Ｘは、炭素数１〜２２のｎ価の炭化水素基又は硫黄原子を表す。該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。）
で表されるフェノール化合物とを含有する太陽電池用封止材。
請求項１１記載の太陽電池用封止材を含む太陽電池。