JP2012004166A - 配線基板、配線基板組立体及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 アンダーフィル材を用いずに、半導体装置の接合部の耐圧迫性や長期信頼性を改善することができる配線基板を提供することを課題とする。
【解決手段】 電子部品4が実装される配線基板2は、配線を有する基板と、基板の表面に形成され、電子部品4の外部接続端子8に接合される複数の電極パッド2aと、基板の表面において電極パッド2aの各々の周囲に形成された溝2bとを含む。溝2bは基板の各電極パッド2aの下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する。
【選択図】 図2
【解決手段】 電子部品4が実装される配線基板2は、配線を有する基板と、基板の表面に形成され、電子部品4の外部接続端子8に接合される複数の電極パッド2aと、基板の表面において電極パッド2aの各々の周囲に形成された溝2bとを含む。溝2bは基板の各電極パッド2aの下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する。
【選択図】 図2
Description
本発明は、電子部品が実装される配線基板、配線基板組立体及び半導体装置に関する。
電子機器には、半導体装置等の電子部品が実装された配線基板が組み込まれることが多い。近年の電子機器は小型化が進み、組み込まれる配線基板は高密度実装で小型化され、配線基板に搭載される半導体装置等の電子部品も小型化されている。これに伴い、電子部品を配線基板に実装するための実装構造も小型となっている。
半導体装置を配線基板に実装するための接合部材として、はんだバンプが用いられることが多い。はんだバンプによるはんだ接合により電気的接続を得るとともに半導体装置を機械的に配線基板に固定する。上述のように実装構造が小型となり、はんだバンプが小さくなると、はんだ接合部も小さくなるので、熱応力や外部からの圧力により容易にはんだバンプ接合部が変形し損傷してしまい、接続不良が発生しやすくなる。
ここで、実装構造としてはんだバンプ接合部に外力が加わった場合のはんだバンプの変形について、図1(a)、(b)を参照しながら説明する。図1(a)において、半導体装置の電極パッド101がはんだバンプ102により配線基板103の接続パッド104に接合された実装構造が示されている。はんだバンプ102は、はんだリフローの際に溶融してから固化し、電極パッド101及び接続パッド104に密着したはんだ接合部102aが形成されている。図1(a)に示す状態は、はんだバンプ102に外力が加わる前の状態であり、はんだバンプ102は変形していない。
配線基板103の図1(a)に示す位置に外力が作用すると、配線基板103は外力が加わった部分が上に上がるように変形すると同時に、はんだバンプ102も図1(b)に示すように変形する。外力が加わる位置がはんだバンプ102の中心からずれているため、外力が加わる位置に近い側のはんだ接合部102aの端部に応力が集中する。外力が無くなると応力も無くなり、はんだバンプ102の変形も無くなって図1(a)に示すもとの形状にもどる。
このような外力が繰り返し配線基板103に作用すると、はんだ接合部102aと接続パッド104との間に繰り返して応力集中が発生し、はんだ接合部102aの端部が接続パッド104から剥離することがある。この剥離が内部に伝播するとはんだ接合部102aと接続パッド104との電気的接続が無くなり、接続不良となってしまう。
そこで、実装した半導体装置と配線基板との間にアンダーフィル材を充填してはんだ接合部を補強することが行なわれている。すなわち、エポキシ樹脂等からなるアンダーフィル材をはんだ接合部の周囲に充填してはんだ接合部を周囲から補強し、且つ半導体装置の底面と配線基板の表面とをアンダーフィル材で接着して機械的に固定する。これにより、はんだ接合部の耐圧力性や長期信頼性が向上する。
近年、特にノーパソコン等の携帯型コンピュータや携帯電話などの電子機器は、小型化、高機能化が進み、電子機器の筐体に加わった圧力が内部の配線基板や実装構造部分に伝わり易くなっている。そこで、はんだ接合部の耐圧力性や長期信頼性をさらに向上させるために、より高い接着強度とより高いヤング率を有するアンダーフィル材が用いられるようになっている。ところが、このようにアンダーフィル材の接着強度が大きくなると、一旦アンダーフィル材で固定した半導体装置を配線基板から取りはずすことが困難となってしまう。
例えば、半導体装置を配線基板に実装後に半導体装置に機能不良が発生した場合、機能不良を起こした半導体装置のみを配線基板から取り外して交換することができない。したがって、高価な配線基板全体を交換しなければならなくなり、配線基板の仕損費が増大してしまう。また、機能不良が生じていると予測される半導体装置を単体で機能を調べて不良原因の解析を行うことができないため、機能不良の原因を明らかにすることができず、不良率が増大するおそれもある。
そこで、絶縁膜のバンプ電極直下の部分を他の部分より薄くして凹部を形成し、さらにこの凹部を囲うように溝を絶縁膜に形成することで、バンプ電極接合部の周囲における絶縁膜の歪みを緩和することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
上述の特許文献1に開示された実装構造は、バンプ電極接合部の周囲の絶縁膜の部分のみの応力を緩和して絶縁膜破壊を防止するものであり、バンプ電極接合部に発生する応力を緩和するものではない。したがって、バンプ電極接合部の信頼性を確保するためには、やはりアンダーフィル材で半導体装置を基板に固定する必要がある。
そこで、アンダーフィル材を用いずに、半導体装置の接合部の耐圧迫性や長期信頼性を改善することができ、実装した半導体装置を容易に配線基板から取り外すことができる実装構造の開発が望まれている。
一実施態様によれば、電子部品が実装される配線基板であって、配線を有する基板と、該基板の表面に形成され、前記電子部品の外部接続端子に接合される複数の電極パッドと、 前記基板の前記表面において、該電極パッドの各々の周囲に形成された溝とを有し、前記溝は、前記基板の各電極パッドの下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する配線基板が提供される。
また、上述の配線基板と、前記電極パッドに外部接続端子が接合されて実装された半導体装置とを有し、前記半導体装置と前記配線基板との間は、前記外部接続端子以外の部分は空隙である配線基板組立体が提供される。
さらに、半導体基板と、該半導体基板上に形成された再配線基板と、該再配線基板の表面に形成され、前記配線基板の外部接続端子に接合される複数の電極と、前記再配線基板の前記表面において、該電極の各々の周囲に形成された溝とを有する半導体装置であって、前記溝は、前記再配線基板の各電極の下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する半導体装置が提供される。
配線基板の電極パッドの直下の部分が溝により周囲から分離されるので、分離された部分が変形することにより、電極の接合部付近に発生する応力を緩和することができる。これにより、接合部の剥離発生を抑制することができ、電子部品の接合部の耐圧力性及び長期信頼性が改善される。したがって、電子部品をアンダーフィル材を用いて配線基板に接着する必要がなくなり、電子部品を配線基板から容易に取り外すことができる。
次に、実施形態について図面を参照しながら説明する。
図2は一実施形態による配線基板組立体の断面図である。図2に示す配線基板組立体は、配線を有する配線基板2に、半導体装置4と抵抗やコンデンサ等の受動素子6を実装したものである。配線基板2はその表面及び内部に配線を有している。半導体装置4の電極4aは、接合部材としてのはんだバンプ8により、配線基板2の電極パッド2aに接合される。
配線基板2は、例えばガラスエポキシ等の有機基板材で形成された多層基板である。配線基板2の表面には、半導体装置4を実装するための電極パッド2aが配列されている。電極パッド2aの周囲に溝2bが形成されており、配線基板2の各電極パッド2aの下側の部分は、溝2bにより分離されている。すなわち、配線基板2の各電極パッド2aの下側の部分の周囲に溝2bにより空隙が形成されることで、各電極パッド2aの下側の部分は周囲から分離され、僅かではあるが個別に変形可能となっている。
配線基板2に溝2bを形成する方法として、配線基板2を形成するときに、溝2bを形成する部分にレジストを形成しておき、その後レジストを除去して溝2bとするという方法がある。あるいは、配線基板2を形成した後で、配線基板2の表面をダイシングソーで切削して溝2bを形成することもできる。また、配線基板2を形成した後で、配線基板2の表面をレーザ加工により除去して溝2bを形成することもできる。
半導体装置4は、例えばシリコンにより形成される半導体基板4aに再配線基板4bを形成し、再配線基板4bの電極に4cに外部接続端子としてはんだバンプ8を設けたものである。再配線基板4bは、例えばポリイミド樹脂やガラスエポキシ等の基板材料で形成されており、再配線基板4bは半導体基板4aより柔軟である。
再配線基板4bの表面には、外部接続端子としてのはんだバンプ8を接合するための電極4cが配置されている。電極4cの周囲に溝4dが形成されており、再配線基板4bの各電極パッド4dの下側の部分は、溝4cにより分離されている。すなわち、再配線基板4bの各電極4cの下側の部分の周囲に溝4dにより空隙が形成されることで、各電極4cの下側の部分は周囲から分離され、僅かではあるが個別に変形可能となっている。
再配線基板4bに溝4bを形成する方法として、再配線基板4bを形成するときに、溝4dを形成する部分にレジストを形成しておき、その後レジストを除去して溝4dとするという方法がある。あるいは、再配線基板4bを形成した後で、再配線基板4bの表面をダイシングソーで切削して溝4dを形成することもできる。また、再配線基板4bを形成した後で、再配線基板4bの表面をレーザ加工により除去して溝4dを形成することもできる。
図3は、半導体装置4と、配線基板2の半導体装置4が実装される部分とを示す斜視図である。図3に示す構成において、配線基板2の溝2b及び半導体装置4の溝4dは、図2に示す溝2b、4dより幅が大きく描かれているが、溝2b、4dの幅は電極パッド2a及び電極4cの配列間隔に応じて適宜変更することができる。配線基板2に溝2b設ける理由は、配線基板2の電極パッド2aの下側の部分を周囲から分離して変形しやすくすることが目的であり、溝2bの幅は任意の幅に設定することができる。同様に、再配線基板4bに溝4dを設ける理由は、再配線基板4bの電極4cの下側の部分を周囲から分離して変形しやすくすることが目的であり、溝4cの幅は任意の幅に設定することができる。
図3において、四辺形の電極パッド2aはマトリクス状に配列され、溝2bは電極パッド2aの間に格子状に延在する直線状の溝として形成されている。直線状の溝2bは全体として配線基板2の表面から凹んだ凹部が形成された状態となっている。そして、各電極パッド2aは、凹部の底面から突出した部分の上に形成されている。
なお、図3において、電極パッド2aの厚みは溝2bの深さに比較して非常に薄いため、溝2bにより分離された部分(図3において配線基板2から突出したように示された部分)の表面が電極2aとして示されている。溝2bにより形成された空間は配線基板2に形成された凹部とみなすこともでき、凹部の底面から電極パッド2aの下側の部分が突出していると解釈することもできる。半導体装置4についても同様であり、溝4dにより形成された空間は再配線基板4bに形成された凹部とみなすこともでき、凹部の底面から電極4cの下側の部分が突出していると解釈することもできる。ただし、図3に示す例では、再配線基板4bの外周部も溝4dと同じ深さまで除去されており、凹部の底面があたかも再配線基板4bの表面であってその表面から電極4cの下側の部分が突出しているように示されている。
以上のように溝2bを設けて配線基板2の電極パッド2aの下側の部分を周囲から分離して変形しやすくすることにより、配線基板2に外力が作用して配線基板2が変形したときに、変形に起因してはんだバンプ8の接合部に応力集中が生じることを抑制することができる。また、溝4dを設けて再配線基板4bの電極4cの下側の部分を周囲から分離して変形しやすくすることにより、配線基板2に外力が作用して配線基板2が変形したときに、変形に起因してはんだバンプ8の接合部に応力集中が生じることを抑制することができる。
図4は配線基板2が変形したときの配線基板2と再配線基板4bの変形を示す拡大断面図であり、図4(a)は溝2b、4dが設けられていない場合の配線基板2の変形を示し、図4(b)は溝2b、4dが設けられている場合の配線基板2の変形を示す。半導体装置4が実装された部分では、シリコン等で形成された半導体装置4の半導体基板4aが補強材となって、配線基板2の変形は抑制される。これにより、半導体装置4が実装されていない部分と半導体装置4が実装された部分との間の部分で配線基板2が局所的に曲がるように変形し、図4(a)に示すように、半導体装置4の外周部分に位置するはんだバンプ8(図4において最も右側に位置するはんだバンプ)の接合部分に応力集中が生じる。このような応力集中が繰り返し生じると、はんだバンプ8の接合部分に亀裂が生じ破断するおそれがある。
しかし、本実施形態のように配線基板2及び半導体装置4の再配線基板4bに溝2b、4dが設けられていると、図4(b)に示すように、半導体装置4が実装されていない部分と半導体装置4が実装された部分との間の部分が緩やかに変形し、この部分に位置するはんだバンプ8に生じる応力が分散される。すなわち、半導体装置4の外周部分に位置するはんだバンプ8(図4(b)において最も右側に位置するはんだバンプ)の接合部分の応力が緩和され、応力集中が緩和される。これにより、はんだバンプ8(図4(b)において最も右側に位置するはんだバンプ)の接合部分に亀裂が生じなくなり、はんだバンプ8の接合信頼性を得ることができる。このように、アンダーフィル材を用いることなく、はんだバンプの接合部分の耐圧迫性や長期信頼性を改善することができ、実装した半導体装置4を容易に配線基板2から取り外すことができるという効果を得ることができる。なお、半導体装置4と配線基板2との間の間隙にアンダーフィル材を充填しないため、本実施形態による配線基板組立体において、半導体装置4と配線基板との間の間隙においてはんだバンプ8以外の部分は空隙となっている。
以上の実施形態では、配線基板2に溝2bを設け、且つ半導体装置4の再配線基板4bにも溝4dを設けて接合部分に生じる応力を緩和しているが、必ずしも配線基板2側と半導体装置4側の両方に溝2b,4dを設ける必要はなく、どちらか一方に設けることとしても、上述の効果を得ることができる。
図5は溝を形成したことによる効果を調べるためにはんだバンプ8に生じる応力をシミュレーションにより求めた結果を示す図である。シミュレーション条件として、半導体装置の大きさを27mm角とし、配線基板をガラスエポキシで形成し、はんだバンプの直径を0.6mmとし、はんだバンプの間隔を1mmとした。以上の条件で半導体装置を配線基板に実装したものとし、はんだバンプに生じる応力を求めた。また、通常、はんだバンプのうち半導体装置の4隅に設けられたはんだバンプに発生する応力が最も大きくなるので、4隅に設けられたはんだバンプに発生する応力を求めた。また、電極パッドは円形とし、電極パッドの周囲に設ける溝は環状の溝とした。今回のモデルの場合、はんだバンプに生じる応力が500N/mm2以下であれば、十分な接続信頼性が得られることが分っている。
図5において、No.1は配線基板と半導体装置のどちらにも溝を形成しない場合(すなわち、従来の実装構造)におけるシミュレーション結果である。はんだバンプに生じる応力は750N/mm2であった。No.2は、配線基板に形成する溝の幅を0.4mmとし、溝の深さを0.2mmとし、半導体装置に設ける溝の幅を0.4mmとし、溝の深さを0.2mmとしたときのシミュレーション結果である。はんだバンプに生じる応力は500N/mm2よりはるかに低い250N/mm2であった。
図5において、No.3は配線基板のみに溝を設けた場合で、配線基板に形成する溝の幅を0.4mmとし、溝の深さを0.2mmとした場合のシミュレーション結果である。はんだバンプに生じる応力は500N/mm2であった。半導体装置は溝を形成せずに従来のままとし、配線基板にのみ溝を形成した場合でも、十分な接続信頼性が得られることが分った。
図5において、No.4は配線基板のみに溝を設けた場合で、配線基板に形成する溝の幅を0.1mmとし、溝の深さを0.2mmとした場合のシミュレーション結果である。はんだバンプに生じる応力は500N/mm2であった。すなわち、No.4はNo.3の条件において、溝の幅を0.1mmとしたものである。No.4で溝の幅を0.1mmに低減しても、はんだバンプに生じる応力はNo.3における溝の幅が0.4mmの場合と同じ結果となり、応力を低減する効果は溝の幅に依存しないことがわかった。
図5において、No.5は配線基板のみに溝を設けた場合で、配線基板に形成する溝の幅を0.4mmとし、溝の深さを0.5mmとした場合のシミュレーション結果であり、はんだバンプに生じる応力は500N/mm2であった。すなわち、No.5はNo.3の条件において、溝の深さを0.5mmとしたものである。No.5で溝の深さを0.5mmに増大しても、はんだバンプに生じる応力はNo.3における溝の深さが0.2mmの場合と同じ結果となり、応力を低減する効果は溝の深さに依存しないことがわかった。あるいは、溝の深さが0.2mmであれば、配線基板を変形させるのに十分であり、それ以上深くしても効果は変わらないということであると考えられる。
次に、上述の実施形態における溝の形状について、配線基板側の溝2bを例にとって説明する。
配線基板2に形成された電極パッド2aの形状は、図6に示すようにはんだバンプ8の形状に合わせて円形とすることが好ましい。この場合、電極パッド2aの下側の部分を周囲から分離するための溝2bの形状を、図7に示すように円形の電極パッド2aを取り囲むように形成した環状の溝とすることが好ましい。図8は図7に示す環状の溝2bを有する配線基板2に半導体装置4を実装して形成した配線基板組立体の断面図である。環状の溝2bは、図9に示すように全ての電極パッド2aに対して設けてもよい。
電極パッド2aが四辺形である場合は、電極パッド2aの形状に合わせて溝も四辺形の枠状の溝とすることが好ましい。この場合、図10に示すように、溝2bを格子状に形成することができる。図11は図10に示す四辺形状の溝2bを有する配線基板2に半導体装置4を実装して形成した配線基板組立体の断面図である。
マトリクス状に配列された複数のはんだバンプ8のうち、応力が集中しやすいはんだバンプ8は、配線基板2の変形が生じやすい外周部分である。そこで、図12に示すように、特に半導体装置4の4隅部分付近に位置するはんだバンプ8に接合される電極パッド2aにのみ溝2bを設けることとしてもよい。図12に示すように、電極パッド2aは配線基板2の表面において四辺形の領域にマトリクス状に配列されており、環状の溝2bは、電極パッド2aが配置された四辺形の領域の4隅近傍に位置する電極パッド2aにのみ設けられる。図13は図12に示す配線基板2に半導体装置を実装して形成した配線基板組立体の断面図である。
また、マトリクス状に配列された複数のはんだバンプ8のうち、最も応力が集中しやすいはんだバンプ8は、半導体装置4の4隅部分に位置する4個のはんだバンプ8である。そこで、図14に示すように、特に半導体装置4の4隅に位置するはんだバンプ8に接合される電極パッド2aにのみ溝2bを設けることとしてもよい。図14に示すように、電極パッド2aは配線基板2の表面において四辺形の領域にマトリクス状に配列されており、環状の溝2bは、電極パッド2aが配置された四辺形の領域の4隅近傍に位置する電極パッド2aにのみ設けられる。図15は図14に示す配線基板2に半導体装置を実装して形成した配線基板組立体の断面図である。
以上の実施形態では、配線基板2の溝2bについて説明したが、半導体装置4の溝4dについても同様な構成とすることができる。
本明細書は以下の事項を開示する
(付記1)
電子部品が実装される配線基板であって、
配線を有する基板と、
該基板の表面に形成され、前記電子部品の外部接続端子に接合される複数の電極パッドと、
前記基板の前記表面において、該電極パッドの各々の周囲に形成された溝と
を有し、
前記溝は、前記基板の各電極パッドの下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する配線基板。
(付記2)
付記1記載の配線基板であって、
前記電極パッドの平面形状は四辺形であり、四辺形の電極パッドはマトリクス状に配列され、前記溝は前記電極パッドの間に格子状に延在する直線状の溝である配線基板。
(付記3)
付記2記載の配線基板であって、
前記直線状の溝は全体として前記基板の表面から凹んだ凹部を形成し、前記電極パッドは該凹部の底面から突出した部分の上に形成されている配線基板。
(付記4)
付記1記載の配線基板であって、
前記電極パッドの平面形状は円形であり、円形の電極パッドはマトリクス状に配列され、前記溝は前記電極パッドの各々を個別に包囲する環状の溝である配線基板。
(付記5)
付記4記載の配線基板であって、
前記電極パッドは四辺形の領域にマトリクス状に配列されており、
前記環状の溝は、前記電極パッドが配置された前記四辺形の領域の4隅近傍に位置する電極パッドにのみ設けられる配線基板。
(付記6)
付記4記載の配線基板であって、
前記電極パッドは四辺形の領域内にマトリクス状に配列されており、
前記環状の溝は、前記電極パッドが配置された前記四辺形の領域の4隅に位置する4個の電極パッドにのみ設けられる配線基板。
(付記7)
付記1乃至6のうちいずれか一項記載の配線基板と、
前記電極パッドに外部接続端子が接合されて実装された半導体装置と
を有し、
前記半導体装置と前記配線基板との間は、前記外部接続端子以外の部分は空隙である配線基板組立体。
(付記8)
付記7記載の配線基板組立体であって、
前記半導体装置は半導体基板と再配線基板とを含み、
該再配線基板の表面に形成された複数の電極の各々の周囲に溝が形成され、前記溝は、前記再配線基板の各電極の下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する配線基板組立体。
(付記9)
半導体基板と、
該半導体基板上に形成された再配線基板と、
該再配線基板の表面に形成され、前記配線基板の外部接続端子に接合される複数の電極と、
前記再配線基板の前記表面において、該電極の各々の周囲に形成された溝と
を有する半導体装置であって、
前記溝は、前記再配線基板の各電極の下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する半導体装置。
(付記1)
電子部品が実装される配線基板であって、
配線を有する基板と、
該基板の表面に形成され、前記電子部品の外部接続端子に接合される複数の電極パッドと、
前記基板の前記表面において、該電極パッドの各々の周囲に形成された溝と
を有し、
前記溝は、前記基板の各電極パッドの下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する配線基板。
(付記2)
付記1記載の配線基板であって、
前記電極パッドの平面形状は四辺形であり、四辺形の電極パッドはマトリクス状に配列され、前記溝は前記電極パッドの間に格子状に延在する直線状の溝である配線基板。
(付記3)
付記2記載の配線基板であって、
前記直線状の溝は全体として前記基板の表面から凹んだ凹部を形成し、前記電極パッドは該凹部の底面から突出した部分の上に形成されている配線基板。
(付記4)
付記1記載の配線基板であって、
前記電極パッドの平面形状は円形であり、円形の電極パッドはマトリクス状に配列され、前記溝は前記電極パッドの各々を個別に包囲する環状の溝である配線基板。
(付記5)
付記4記載の配線基板であって、
前記電極パッドは四辺形の領域にマトリクス状に配列されており、
前記環状の溝は、前記電極パッドが配置された前記四辺形の領域の4隅近傍に位置する電極パッドにのみ設けられる配線基板。
(付記6)
付記4記載の配線基板であって、
前記電極パッドは四辺形の領域内にマトリクス状に配列されており、
前記環状の溝は、前記電極パッドが配置された前記四辺形の領域の4隅に位置する4個の電極パッドにのみ設けられる配線基板。
(付記7)
付記1乃至6のうちいずれか一項記載の配線基板と、
前記電極パッドに外部接続端子が接合されて実装された半導体装置と
を有し、
前記半導体装置と前記配線基板との間は、前記外部接続端子以外の部分は空隙である配線基板組立体。
(付記8)
付記7記載の配線基板組立体であって、
前記半導体装置は半導体基板と再配線基板とを含み、
該再配線基板の表面に形成された複数の電極の各々の周囲に溝が形成され、前記溝は、前記再配線基板の各電極の下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する配線基板組立体。
(付記9)
半導体基板と、
該半導体基板上に形成された再配線基板と、
該再配線基板の表面に形成され、前記配線基板の外部接続端子に接合される複数の電極と、
前記再配線基板の前記表面において、該電極の各々の周囲に形成された溝と
を有する半導体装置であって、
前記溝は、前記再配線基板の各電極の下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する半導体装置。
2 配線基板
2a 電極パッド
2b 溝
4 半導体装置
4a 半導体基板
4b 再配線基板
4c 電極
4d 溝
6 受動素子
8 はんだバンプ
2a 電極パッド
2b 溝
4 半導体装置
4a 半導体基板
4b 再配線基板
4c 電極
4d 溝
6 受動素子
8 はんだバンプ
Claims (7)
- 電子部品が実装される配線基板であって、
配線を有する基板と、
該基板の表面に形成され、前記電子部品の外部接続端子に接合される複数の電極パッドと、
前記基板の前記表面において、該電極パッドの各々の周囲に形成された溝と
を有し、
前記溝は、前記基板の各電極パッドの下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する配線基板。 - 請求項1記載の配線基板であって、
前記電極パッドの平面形状は四辺形であり、四辺形の電極パッドはマトリクス状に配列され、前記溝は前記電極の間に格子状に延在する直線状の溝である配線基板。 - 請求項1記載の配線基板であって、
前記電極パッドの平面形状は円形であり、円形の電極パッドはマトリクス状に配列され、前記溝は前記電極パッドの各々を個別に包囲する環状の溝である配線基板。 - 請求項3記載の配線基板であって、
前記電極パッドは四辺形の領域にマトリクス状に配列されており、
前記環状の溝は、前記電極パッドが配置された前記四辺形の領域の4隅近傍に位置する電極パッドにのみ設けられる配線基板。 - 請求項3記載の配線基板であって、
前記電極パッドは四辺形の領域内にマトリクス状に配列されており、
前記環状の溝は、前記電極パッドが配置された前記四辺形の領域の4隅に位置する4個の電極パッドにのみ設けられる配線基板。 - 請求項1乃至6のうちいずれか一項記載の配線基板と、
前記電極パッドに外部接続端子が接合されて実装された半導体装置と
を有し、
前記半導体装置と前記配線基板との間は、前記外部接続端子以外の部分は空隙である配線基板組立体。 - 半導体基板と、
該半導体基板上に形成された再配線基板と、
該再配線基板の表面に形成され、前記配線基板の外部接続端子に接合される複数の電極と、
前記再配線基板の前記表面において、該電極の各々の周囲に形成された溝と
を有する半導体装置であって、
前記溝は、前記再配線基板の各電極の下側の部分をその周囲の部分から分離する空隙を形成する半導体装置。
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