JP2011527024A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5763534B2 (ja) * 2008-06-30 2015-08-12 コーニング インコーポレイテッド マイクロリソグラフィック投影システムのためのテレセントリシティ補正素子
TWI708052B (zh) 2011-08-29 2020-10-21 美商安美基公司 用於非破壞性檢測-流體中未溶解粒子之方法及裝置
JP6147058B2 (ja) * 2013-04-01 2017-06-14 キヤノン株式会社 ノズルチップの製造方法
US9188767B2 (en) 2013-11-04 2015-11-17 Christie Digital Systems Usa, Inc. Relay lens system for a high dynamic range projector
US9232172B2 (en) 2013-11-04 2016-01-05 Christie Digital Systems Usa, Inc. Two-stage light modulation for high dynamic range
JP2018519535A (ja) * 2015-05-21 2018-07-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法
US10088660B2 (en) 2017-02-10 2018-10-02 Amgen Inc. Imaging system for counting and sizing particles in fluid-filled vessels
JP2018151832A (ja) * 2017-03-13 2018-09-27 キヤノン株式会社 情報処理装置、情報処理方法、および、プログラム
JP2019079029A (ja) * 2017-10-24 2019-05-23 キヤノン株式会社 露光装置および物品の製造方法
WO2019082727A1 (ja) * 2017-10-24 2019-05-02 キヤノン株式会社 露光装置および物品の製造方法
EP3486866A1 (en) * 2017-11-15 2019-05-22 Thomson Licensing A method for processing a light field video based on the use of a super-rays representation
JP7273249B2 (ja) 2019-09-04 2023-05-12 エイエムエス-オスラム エイジア パシフィック プライヴェット リミテッド 3次元センサモジュールのためのドットプロジェクタの設計および作製
CN113552774A (zh) * 2020-04-23 2021-10-26 上海微电子装备(集团)股份有限公司 照明光学系统、光刻机设备及曝光方法
EP4650875A1 (en) 2024-05-13 2025-11-19 ASML Netherlands B.V. Illumination uniformity correction apparatus with a transmissive correction plate with a varying parameter profile

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62266513A (ja) * 1986-05-14 1987-11-19 Canon Inc 投影露光光学系
US5461456A (en) 1992-11-24 1995-10-24 General Signal Corporation Spatial uniformity varier for microlithographic illuminator
US5995263A (en) * 1993-11-12 1999-11-30 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
KR960042227A (ko) * 1995-05-19 1996-12-21 오노 시게오 투영노광장치
US6522386B1 (en) * 1997-07-24 2003-02-18 Nikon Corporation Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element
JP2000195778A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Nikon Corp 露光装置及びテレセントリシティ―ムラ補正部材の製造方法
TWI283798B (en) * 2000-01-20 2007-07-11 Asml Netherlands Bv A microlithography projection apparatus
JP2002184676A (ja) * 2000-12-18 2002-06-28 Nikon Corp 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
JP2003203844A (ja) * 2002-01-08 2003-07-18 Nikon Corp 投影露光装置及び露光方法
DE102004035595B4 (de) * 2004-04-09 2008-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives
JP4599936B2 (ja) * 2004-08-17 2010-12-15 株式会社ニコン 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法
WO2006029796A2 (en) * 2004-09-13 2006-03-23 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure apparatus
US7508489B2 (en) * 2004-12-13 2009-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing a miniaturized device
US20090021830A1 (en) * 2005-09-14 2009-01-22 Carl Zeiss Smt Ag Projection lens of a microlithographic exposure system
JP2009536370A (ja) 2006-05-05 2009-10-08 コーニング インコーポレイテッド 擬テレセントリック結像レンズの歪調整
JP5763534B2 (ja) * 2008-06-30 2015-08-12 コーニング インコーポレイテッド マイクロリソグラフィック投影システムのためのテレセントリシティ補正素子

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