JP2011527024A5 - - Google Patents
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Claims (9)
- リソグラフィック投影システムであって、
光源、
該光源から光を受け取って自身の像平面においてレチクルを照明するための照明器、
前記レチクルの画像をサブストレート上に投影するための投影レンズ、ならびに
前記レチクルを照明する光の局部的角度的再配分を行なって前記サブストレートにおけるテレセントリシティに関する目標仕様に一致させるために、前記照明器の前記像平面にまたは該像平面と共役関係にある平面に近接して配置されたテレセントリシティ補正素子、
を備えてなることを特徴とするリソグラフィック投影システム。 - 前記テレセントリシティ補正素子が、前記レチクルのほぼ近傍にまたは該レチクルと共役関係にある位置のほぼ近傍に配置されてなることを特徴とする請求項1記載の投影システム。
- 前記テレセントリシティ補正素子が、前記光の局部的角度的再配分を行なうための局部的勾配変化を有する補正用表面を備え、前記局部的勾配変化率が、前記サブストレートに亘る放射照度の均一性をコントロールするために調整されることを特徴とする請求項1記載の投影システム。
- 1個の照明器および1個の投影レンズを備えたマイクロリソグラフィック投影システムに関するテレセントリシティおよび放射照度の均一性の目標を達成する方法であって、
前記投影レンズの像平面におけるテレセントリシティおよび放射照度の均一性に関する目標を規定するステップ、ならびに
該テレセントリシティおよび放射照度の均一性に関する目標に近付けるために、前記照明器、前記投影レンズ、および前記照明器の像平面または該像平面と共役関係にある平面に近接して配置されたテレセントリシティ補正素子の構造を最適化するステップ、
を含み、
前記テレセントリシティ補正素子の最適化が、前記テレセントリシティに関する目標に近付けるために、前記テレセントリシティ補正素子における局部的変化をコントロールし、かつ前記放射照度の均一性に関する目標に近付けるために、前記テレセントリシティ補正素子における局部的変化の変化率をコントロールすることを含むことを特徴とする前記方法。 - 1個の照明器および1個の投影レンズを備えたマイクロリソグラフィック投影システムにおける実験的に測定された誤差を補正す補償する方法であって、
前記投影レンズの像平面におけるテレセントリシティ誤差を確認するステップ、
前記照明器の像平面における改訂されたテレセントリシティ目標を設定して、前記確認されたテレセントリシティ誤差を補償するステップ、および
前記改訂されたテレセントリシティ目標を満足させるために、前記照明器の像平面または該像平面と共役関係にある平面に近接して配置されたテレセントリシティ補正素子内に変化を組み込むステップ、
を含むことを特徴とする前記方法。 - 前記投影レンズの像平面における放射照度の均一性誤差を確認するステップ、
前記照明器の像平面における改訂された放射照度の均一性目標を設定して、前記確認された放射照度の均一性誤差を補正するステップ、および
前記改訂された放射照度の均一性目標を満足させるために、前記テレセントリシティ補正素子内に変化を組み込むステップ、
を含むことを特徴とする請求項5記載の方法。 - 前記テレセントリシティ補正素子が補正用表面を備え、かつ前記変化を組み込むステップが、(a)前記改訂されたテレセントリシティ目標の近付けるために、前記補正用表面における局部的勾配変化をコントロールし、かつ(b)前記改訂された放射照度の均一性目標に近付けるために、前記補正用表面における局部的勾配変化の変化率をコントロールすることを含むことを特徴とする請求項6記載の方法。
- リソグラフィック投影システムであって、
光源、
該光源から光を受け取って自身の像平面においてレチクルを照明するための照明器、
前記レチクルの画像をサブストレート上に投影するための投影レンズ、
前記サブストレートにおけるテレセントリシティに関する目標仕様に近付けるために、前記レチクルを照明する光の局部的角度的再配分を行なうための第1の補正用表面、
前記レチクルにおける放射照度の均一性に関する目標仕様に近付けるために、前記レチクルを照明する光の局部的空間的再配分を行なうための第2の補正用表面、
を備え、
前記第1の補正用表面は、前記照明器の像平面にまたは該像平面と共役関係にある平面に近接して配置され、
前記第2の補正用表面は、前記照明器の像平面にまたは該像平面と共役関係にある平面から離れて配置され、
てなることを特徴とするリソラフィック投影システム。 - 前記第1の補正用表面は、光の局部的角度的再配分を行なうための局部的勾配変化を備え、前記第2の補正用表面は、光の局部的空間的再配分を行なうための局部的勾配変化率を備え、かつ前記第1の補正用光学素子は、前記サブストレートにおけるテレセントリシティに関する目標仕様に一致させるために、前記第2の補正用表面によってなされた光の局部的空間的再配分を補償することを特徴とする請求項8記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7688808P | 2008-06-30 | 2008-06-30 | |
US61/076,888 | 2008-06-30 | ||
PCT/US2009/003795 WO2010005491A1 (en) | 2008-06-30 | 2009-06-25 | Telecentricity corrector for microlithographic projection system |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011527024A JP2011527024A (ja) | 2011-10-20 |
JP2011527024A5 true JP2011527024A5 (ja) | 2012-06-07 |
JP5763534B2 JP5763534B2 (ja) | 2015-08-12 |
Family
ID=41168460
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011516307A Active JP5763534B2 (ja) | 2008-06-30 | 2009-06-25 | マイクロリソグラフィック投影システムのためのテレセントリシティ補正素子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8314922B2 (ja) |
EP (1) | EP2310914B1 (ja) |
JP (1) | JP5763534B2 (ja) |
KR (1) | KR101624758B1 (ja) |
CN (1) | CN102077143B (ja) |
WO (1) | WO2010005491A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2310914B1 (en) * | 2008-06-30 | 2018-12-26 | Corning Incorporated | Telecentricity corrector for microlithographic projection system |
TWI582408B (zh) | 2011-08-29 | 2017-05-11 | 安美基公司 | 用於非破壞性檢測-流體中未溶解粒子之方法及裝置 |
JP6147058B2 (ja) * | 2013-04-01 | 2017-06-14 | キヤノン株式会社 | ノズルチップの製造方法 |
US9232172B2 (en) | 2013-11-04 | 2016-01-05 | Christie Digital Systems Usa, Inc. | Two-stage light modulation for high dynamic range |
US9188767B2 (en) | 2013-11-04 | 2015-11-17 | Christie Digital Systems Usa, Inc. | Relay lens system for a high dynamic range projector |
CN107636539A (zh) * | 2015-05-21 | 2018-01-26 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 微光刻投射设备的操作方法 |
US10088660B2 (en) | 2017-02-10 | 2018-10-02 | Amgen Inc. | Imaging system for counting and sizing particles in fluid-filled vessels |
JP2018151832A (ja) * | 2017-03-13 | 2018-09-27 | キヤノン株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、および、プログラム |
JP2019079029A (ja) * | 2017-10-24 | 2019-05-23 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
WO2019082727A1 (ja) * | 2017-10-24 | 2019-05-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
EP3486866A1 (en) * | 2017-11-15 | 2019-05-22 | Thomson Licensing | A method for processing a light field video based on the use of a super-rays representation |
CN114391086B (zh) * | 2019-09-04 | 2024-05-24 | ams传感器新加坡私人有限公司 | 设计和构造用于三维传感器模块的点投影仪 |
CN113552774A (zh) * | 2020-04-23 | 2021-10-26 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 照明光学系统、光刻机设备及曝光方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62266513A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-19 | Canon Inc | 投影露光光学系 |
US5461456A (en) | 1992-11-24 | 1995-10-24 | General Signal Corporation | Spatial uniformity varier for microlithographic illuminator |
US5995263A (en) * | 1993-11-12 | 1999-11-30 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5739899A (en) * | 1995-05-19 | 1998-04-14 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus correcting tilt of telecentricity |
US6522386B1 (en) | 1997-07-24 | 2003-02-18 | Nikon Corporation | Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element |
JP2000195778A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Nikon Corp | 露光装置及びテレセントリシティ―ムラ補正部材の製造方法 |
TWI283798B (en) * | 2000-01-20 | 2007-07-11 | Asml Netherlands Bv | A microlithography projection apparatus |
JP2002184676A (ja) | 2000-12-18 | 2002-06-28 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP2003203844A (ja) * | 2002-01-08 | 2003-07-18 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法 |
DE102004035595B4 (de) * | 2004-04-09 | 2008-02-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives |
JP4599936B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2010-12-15 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法 |
WO2006029796A2 (en) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithographic projection exposure apparatus |
US7508489B2 (en) * | 2004-12-13 | 2009-03-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of manufacturing a miniaturized device |
US20090021830A1 (en) * | 2005-09-14 | 2009-01-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection lens of a microlithographic exposure system |
KR101374956B1 (ko) | 2006-05-05 | 2014-03-14 | 코닝 인코포레이티드 | 준-텔레센트릭 이미징 렌즈의 왜곡 조정 |
EP2310914B1 (en) * | 2008-06-30 | 2018-12-26 | Corning Incorporated | Telecentricity corrector for microlithographic projection system |
-
2009
- 2009-06-25 EP EP09788838.2A patent/EP2310914B1/en active Active
- 2009-06-25 KR KR1020117002297A patent/KR101624758B1/ko active IP Right Grant
- 2009-06-25 JP JP2011516307A patent/JP5763534B2/ja active Active
- 2009-06-25 WO PCT/US2009/003795 patent/WO2010005491A1/en active Application Filing
- 2009-06-25 CN CN200980126128.XA patent/CN102077143B/zh active Active
- 2009-06-30 US US12/494,882 patent/US8314922B2/en active Active
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