JP2011527024A5 - - Google Patents

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  1. リソグラフィック投影システムであって、
    光源、
    該光源から光を受け取って自身の像平面においてレチクルを照明するための照明器、
    前記レチクルの画像をサブストレート上に投影するための投影レンズ、ならびに
    前記レチクルを照明する光の局部的角度的再配分を行なって前記サブストレートにおけるテレセントリシティに関する目標仕様に一致させるために、前記照明器の前記像平面にまたは該像平面と共役関係にある平面に近接して配置されたテレセントリシティ補正素子、
    を備えてなることを特徴とするリソグラフィック投影システム。
  2. 前記テレセントリシティ補正素子が、前記レチクルのほぼ近傍にまたは該レチクルと共役関係にある位置のほぼ近傍に配置されてなることを特徴とする請求項1記載の投影システム。
  3. 前記テレセントリシティ補正素子が、前記光の局部的角度的再配分を行なうための局部的勾配変化を有する補正用表面を備え、前記局部的勾配変化率が、前記サブストレートに亘る放射照度の均一性をコントロールするために調整されることを特徴とする請求項1記載の投影システム。
  4. 1個の照明器および1個の投影レンズを備えたマイクロリソグラフィック投影システムに関するテレセントリシティおよび放射照度の均一性の目標を達成する方法であって、
    前記投影レンズの像平面におけるテレセントリシティおよび放射照度の均一性に関する目標を規定するステップ、ならびに
    該テレセントリシティおよび放射照度の均一性に関する目標に近付けるために、前記照明器、前記投影レンズ、および前記照明器の像平面または該像平面と共役関係にある平面に近接して配置されたテレセントリシティ補正素子の構造を最適化するステップ、
    を含み、
    前記テレセントリシティ補正素子の最適化が、前記テレセントリシティに関する目標に近付けるために、前記テレセントリシティ補正素子における局部的変化をコントロールし、かつ前記放射照度の均一性に関する目標に近付けるために、前記テレセントリシティ補正素子における局部的変化の変化率をコントロールすることを含むことを特徴とする前記方法。
  5. 1個の照明器および1個の投影レンズを備えたマイクロリソグラフィック投影システムにおける実験的に測定された誤差を補正す補償する方法であって、
    前記投影レンズの像平面におけるテレセントリシティ誤差を確認するステップ、
    前記照明器の像平面における改訂されたテレセントリシティ目標を設定して、前記確認されたテレセントリシティ誤差を補償するステップ、および
    前記改訂されたテレセントリシティ目標を満足させるために、前記照明器の像平面または該像平面と共役関係にある平面に近接して配置されたテレセントリシティ補正素子内に変化を組み込むステップ、
    を含むことを特徴とする前記方法。
  6. 前記投影レンズの像平面における放射照度の均一性誤差を確認するステップ、
    前記照明器の像平面における改訂された放射照度の均一性目標を設定して、前記確認された放射照度の均一性誤差を補正するステップ、および
    前記改訂された放射照度の均一性目標を満足させるために、前記テレセントリシティ補正素子内に変化を組み込むステップ、
    を含むことを特徴とする請求項5記載の方法。
  7. 前記テレセントリシティ補正素子が補正用表面を備え、かつ前記変化を組み込むステップが、(a)前記改訂されたテレセントリシティ目標の近付けるために、前記補正用表面における局部的勾配変化をコントロールし、かつ(b)前記改訂された放射照度の均一性目標に近付けるために、前記補正用表面における局部的勾配変化の変化率をコントロールすることを含むことを特徴とする請求項6記載の方法。
  8. リソグラフィック投影システムであって、
    光源、
    該光源から光を受け取って自身の像平面においてレチクルを照明するための照明器、
    前記レチクルの画像をサブストレート上に投影するための投影レンズ、
    前記サブストレートにおけるテレセントリシティに関する目標仕様に近付けるために、前記レチクルを照明する光の局部的角度的再配分を行なうための第1の補正用表面、
    前記レチクルにおける放射照度の均一性に関する目標仕様に近付けるために、前記レチクルを照明する光の局部的空間的再配分を行なうための第2の補正用表面、
    を備え、
    前記第1の補正用表面は、前記照明器の像平面にまたは該像平面と共役関係にある平面に近接して配置され、
    前記第2の補正用表面は、前記照明器の像平面にまたは該像平面と共役関係にある平面から離れて配置され、
    てなることを特徴とするリソラフィック投影システム。
  9. 前記第1の補正用表面は、光の局部的角度的再配分を行なうための局部的勾配変化を備え、前記第2の補正用表面は、光の局部的空間的再配分を行なうための局部的勾配変化率を備え、かつ前記第1の補正用光学素子は、前記サブストレートにおけるテレセントリシティに関する目標仕様に一致させるために、前記第2の補正用表面によってなされた光の局部的空間的再配分を補償することを特徴とする請求項記載のシステム。
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