JP2010192471A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての照明光学系は、光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、前記被照明面に入射する光の入射角度分布を調整するための反射率分布もしくは透過率分布を有する複数の調整部を有し、前記複数の調整部は、前記被照明面に入射する光の入射角度分布の第１の方向の光量と、前記第１の方向とは異なる第２の方向の光量との差を調整する調整部と、前記被照明面に入射する光の入射角度分布の前記第１の方向における光量差及び前記第２の方向における光量差のうち少なくとも一方を調整する調整部と、を含むことを特徴とする。

Claims (11)

1. 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
   前記被照明面に入射する光の入射角度分布を調整するための反射率分布もしくは透過率分布を有する複数の調整部を有し、
   前記複数の調整部は、
   前記被照明面に入射する光の入射角度分布の第１の方向の光量と、前記第１の方向とは異なる第２の方向の光量との差を調整する調整部と、
   前記被照明面に入射する光の入射角度分布の前記第１の方向における光量差及び前記第２の方向における光量差のうち少なくとも一方を調整する調整部と、
   を含むことを特徴とする照明光学系。
2. 前記第２の方向は、前記第１の方向に垂直な方向であることを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
3. 前記被照明面における照明領域を規定する視野絞りを更に有し、
   前記複数の調整部のうち、前記照明領域に入射する主光線が通過する領域の反射率が１．０％以上である調整部は、前記光源と前記視野絞りとの間に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の照明光学系。
4. 前記被照明面における照明領域を規定する視野絞りを更に有し、
   前記複数の調整部のうち、前記照明領域に入射する主光線が通過する領域の反射率が１．０％未満である調整部は、前記被照明面と前記視野絞りとの間に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の照明光学系。
5. 前記複数の調整部は、光の入射位置に応じて異なる反射率分布もしくは透過率分布となる調整膜を有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の照明光学系。
6. 前記複数の調整部のそれぞれは、前記光源からの光の可干渉距離の１／２以上の間隔を有して配置されていることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の照明光学系。
7. 前記複数の調整部は、前記被照明面の近傍、又は、前記被照明面の共役面の近傍に配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の照明光学系。
8. 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
   前記被照明面における照明領域を規定する視野絞りと、
   前記被照明面に入射する光の入射角度分布を調整するための反射率分布もしくは透過率分布を有する複数の調整部と、
   を有し、
   前記複数の調整部のうち、前記照明領域に入射する主光線が通過する領域の反射率が１．０％以上である調整部は、前記光源と前記視野絞りとの間に配置されていることを特徴とする照明光学系。
9. 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
   前記被照明面における照明領域を規定する視野絞りと、
   前記被照明面に入射する光の入射角度分布を調整するための反射率分布もしくは透過率分布を有する複数の調整部と、
   を有し、
   前記複数の調整部のうち、前記照明領域に入射する主光線が通過する領域の反射率が１．０％未満である調整部は、前記視野絞りと前記被照明面との間に配置されていることを特徴とする照明光学系。
10. 光源からの光を用いてマスクを照明する請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の照明光学系と、
    前記マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系と、
    を有することを特徴とする露光装置。
11. 請求項１０に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
    露光された前記基板を現像するステップと、
    を有することを特徴とするデバイスの製造方法。