JP2009170681A - 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスクに設けられたパターンの全領域を高精度に感光基板に転写することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクMに設けられたパターンを該パターンに照射される露光光によってプレートPに転写する露光装置において、前記パターンに対する前記露光光の照射領域とマスクMとを所定方向へ相対的に移動させる保持部駆動部10と、前記所定方向におけるマスクMの前部および後部を保持して上下動させるマスク保持部MHと、保持部駆動部10によるマスクMと前記照射領域との相対移動に対応してマスク保持部MHを駆動させ、前記照射領域内のマスクMのプレートPに対するマスク高さを調整する制御部12とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】マスクMに設けられたパターンを該パターンに照射される露光光によってプレートPに転写する露光装置において、前記パターンに対する前記露光光の照射領域とマスクMとを所定方向へ相対的に移動させる保持部駆動部10と、前記所定方向におけるマスクMの前部および後部を保持して上下動させるマスク保持部MHと、保持部駆動部10によるマスクMと前記照射領域との相対移動に対応してマスク保持部MHを駆動させ、前記照射領域内のマスクMのプレートPに対するマスク高さを調整する制御部12とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、マスクに設けられたパターンを感光基板に転写する露光装置、露光方法及びデバイス製造方法に関するものである。
従来、半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをフォトリソグラフィ技術を利用して製造するために露光装置が用いられている。この露光装置には、例えばマスクと感光基板とのギャップ(間隔)を100μm程度に設定して、マスクを露光光により照明することによって、マスクに形成されたパターンを感光基板に転写するプロキシミティ露光装置がある。
特開平7−106230号公報
近年、プロキシミティ露光装置においては、液晶表示素子等の大面積化に対応するため、感光基板と共にマスクの大型化が必要とされている。ところが、マスクを大型化した場合、その自重による撓み量が増大しマスクと感光基板とのギャップがマスクの中央部に比べて周辺部において大きくなる。このためマスクの周辺部では、パターンの転写を行う際にマスクと感光基板とのギャップを適正な範囲内に設定することができず、高精度にパターンの転写を行うことができないという問題があった。
本発明の目的は、マスクに設けられたパターンの全領域を高精度に感光基板に転写することができる露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供することである。
本発明の露光装置は、マスクに設けられたパターンを該パターンに照射される露光光によって感光基板に転写する露光装置において、前記パターンに対する前記露光光の照射領域と前記マスクとを所定方向へ相対的に移動させる相対移動手段と、前記所定方向における前記マスクの前部および後部を保持して上下動させる保持手段と、前記相対移動手段による前記マスクと前記照射領域との相対移動に対応して前記保持手段を駆動させ、前記照射領域内の前記マスクの前記感光基板に対するマスク高さを調整する制御手段とを備えたことを特徴とする。
また、本発明の露光方法は、マスクに設けられたパターンを該パターンに照射される露光光によって感光基板に転写する露光方法において、前記パターンに対する前記露光光の照射領域と前記マスクとを所定方向へ相対的に移動させる相対移動ステップと、前記相対移動ステップによる前記マスクと前記照射領域との相対移動に対応して該所定方向における前記マスクの前部および後部を上下動させ、前記照射領域内の前記マスクの前記感光基板に対するマスク高さを調整する調整ステップとを含むことを特徴とする。
また、本発明のデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いて、マスクに形成されているパターンを感光基板に転写する露光工程と、前記パターンが転写された前記感光基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記感光基板の表面に生成する現像工程と、前記転写パターン層を介して前記感光基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とする。
本発明の露光装置、露光方法及びデバイス製造方法によれば、マスクに設けられたパターンの全領域を高精度に感光基板に転写することができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係る露光装置、露光方法及びデバイス製造方法について説明する。本実施形態においては、マスクとプレート(感光基板)とを近接配置し、露光光の照射領域と、マスク及びプレートとを走査方向に相対的に移動させることにより、マスクに設けられたパターンを露光光によってプレートに転写するスキャン型プロキシミティ露光装置を例に挙げて説明する。
図1は第1の実施形態に係る露光装置EX1の構成を示す側面図であり、図2は露光装置EX1の構成を示す平面図である。なお、以下の説明においては、露光装置EX1に対してXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を適宜参照する。XYZ直交座標系は、X軸及びY軸がプレートPに対して平行となるよう設定され、Z軸がプレートPに対して直交する方向に設定されている。図中のXYZ座標系は、実際にはXY平面が水平面に平行な面に設定され、Z軸が鉛直上方向に設定される。また、この実施形態ではマスクM及びプレートPを移動させる方向(走査方向)をX軸方向に設定している。
露光装置EX1においては、マスク保持部MHにより保持されたマスクMとプレートステージPSにより保持されたプレートPとが近接配置されている。マスク保持部MHは、マスクMの走査方向における前端部を前端部保持部MH1により走査方向に直交する方向に沿って保持すると共に、後端部を後端部保持部MH2により走査方向に直交する方向に沿って保持している。前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2は、保持部駆動部10が接続されており、制御部12による制御の下、それぞれ独立に上下動することにより、マスクMの前端部及び後端部を上下動させる。また、前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2は、制御部12による制御の下、保持部駆動部10により走査方向に移動されることにより、後述の露光光の照射領域50(図2参照)に対してマスクMを相対的に移動させる。前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2は、マスクMの前端部及び後端部を上下動させると同時に、マスクMを照射領域50に対して走査方向に相対的に移動させる。また、プレートステージPSには、ステージ駆動部14が接続されている。ステージ駆動部14は、制御部12による制御の下、マスク保持部MHの走査方向への移動に同期させて、プレートステージPSを走査方向に移動させる。これによって、マスクMとプレートPとは走査方向に同期して移動される。
マスクMの上部には照明装置ILが配置されている。照明装置ILは、g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)などを含む露光光をマスクMに照射する。照明装置ILは、視野絞り16を有しており、図2に示すような非走査方向(Y方向)に延びる矩形状の照射領域50をマスクM上に形成する。なお、視野絞り16は、マスクの撓み量に対応する露光光の照射領域50を設定する。即ち、マスクの撓み量が大きい場合には、露光光の照射領域50の走査方向の幅が狭くなるように視野絞り16の開口の走査方向の幅を設定し、マスクの撓み量が小さい場合には、露光光の照射領域50の走査方向の幅が広くなるように視野絞り16の開口の走査方向の幅を設定する。
プレートステージPSの非走査方向の両側部(+Y側の側部及び−Y側の側部)には、マスクMの高さを検出する斜入射型のAFセンサ17がそれぞれ設けられている。ここで斜入射型のAFセンサ17は、マスクMの下面に対して所定の入射角で検出光を入射させる送光光学系18と、マスクMの下面で反射した検出光を受光する受光光学系19とを備え、受光光学系19に対する検出光の入射位置に基づいて、マスクMの高さを検出する。AFセンサ17は、プレートステージPS上に保持されているマスクMの露光光の照射領域50の両側部(図2において×で示す位置)の高さの検出を行い、検出信号を制御部12に対して出力する。
次に、露光装置EX1を用いて、マスクMに設けられたパターンをプレートPへ転写する露光方法について説明する。まず、制御部12は、図3に示すように、マスクMの走査方向における前端部および後端部をそれぞれ前端部保持部MH1および後端部保持部MH2により保持させる(ステップS10)。次に、制御部12は、マスクMの後端部に照射領域50が位置するように、保持部駆動部10により前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2を走査方向に移動させると共に、ステージ駆動部14によりプレートステージPSを走査方向に移動させる(ステップS11)。これによって、図4(a)に示すように、照明装置IL下にマスクMおよびプレートPの後端部を配置させる。
次に、制御部12は、AFセンサ17により照射領域50の両側部におけるマスクMの高さを検出する(ステップS12)。制御部12は、この検出結果に基づいて照射領域50内のマスクMの高さを算出し、この算出結果に基づいて保持部駆動部10を駆動させ、前端部保持部MH1と後端部保持部MH2とを相対的に上下動させることにより、照射領域50内のマスクMのプレートPに対する高さ(マスク高さ)を調整し、プロキシミティ露光に適した所定高さ範囲(以下、適正ギャップと呼ぶ。)内に設定する(ステップS13)。
そして、制御部12は、照明装置ILから露光光を照射させ、照射領域50に対してマスクM及びプレートPを走査方向へ移動させる(ステップS14)。このとき、制御部12は、保持部駆動部10により前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2を走査方向に移動させることでマスクMを照射領域50に対して相対的に移動させると共に、保持部駆動部10と同期してステージ駆動部14によりプレートステージPSを走査方向に移動させることでマスクMとプレートPとを同期して走査方向に移動させる。
その後、制御部12は、AFセンサ17により照射領域50の両側部におけるマスク高さの検出を行い(ステップS15)、この検出結果に基づいてステップS13と同様に照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に設定する(ステップS16)。
そして、制御部12は、照明装置IL下にマスクMおよびプレートPの前端部が位置したか否かの判断を行い(ステップS17)、前端部が位置していない場合には(ステップS17:No)、ステップS14からの処理を繰り返す。これによって、制御部12は、図4(b)に示すように、照射領域50に対してマスクMとプレートPとを同期して走査方向に移動させ、照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に維持しながら走査露光を行う。なお、制御部12は、前端部保持部MH1、後端部保持部MH2およびプレートステージPSの位置(移動位置)を、図示しないセンサ(干渉計等)を用いて検出する。一方、制御部12は、図4(c)に示すように、照明装置IL下にマスクMおよびプレートPの前端部が位置したと判断した場合には(ステップS17:Yes)、マスクMに対する露光光の照射を停止させて走査露光を終了する。
このようにして制御部12は、照射領域50とマスクM及びプレートPとを走査方向に相対的に移動させながら、照射領域50内のマスクMに設けられたパターンを露光光によってプレートPに順次転写することで、マスクMに設けられたパターンの全領域をプレートPに転写する。このとき、制御部12は、AFセンサ17の検出結果に基づいてマスク高さを調整し、照射領域50内のマスク高さを常に適正ギャップ内に設定することができるため、マスクMに設けられたパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。このため、露光装置EX1によれば、マスクMとして大型のマスクを用いる場合にも、そのマスクに形成されているパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図5は、第2の実施形態に係る露光装置EX2の構成を示す図である。露光装置EX2は、露光装置EX1において、露光光の照射領域50を固定し、照射領域50におけるマスクMのプレートPに対する高さを制御しつつ、照射領域50に対してマスクM及びプレートPを走査方向に移動させていたのを、マスクM及びプレートPの走査方向の位置を固定し、照明装置ILによる露光光の照射領域50を走査方向に移動させつつ、露光光の照射領域50におけるマスクMのプレートPに対する高さを制御するように変更したものであるが、その他の点は、露光装置EX1と同一の構成を有する。従って、第2の実施形態の説明においては、露光装置EX1の構成と同一の構成の詳細な説明は省略し、露光装置EX1の構成と同一の構成には第1の実施形態で用いたのと同一の符号を用いて説明を行う。
露光装置EX2は、図5に示すように、制御部12の制御の下、照明装置ILを走査方向へ移動させる照明駆動部30と、AFセンサ17が設置されているセンサステージ31を照明装置ILの走査方向への移動に同期させて走査方向に移動させるセンサ駆動部32とが設けられている。ここでAFセンサ17は、露光装置EX1と同様に、照射領域50のY方向の両側部を検出できるように2つ設けられている。センサステージ31は、この2つのAFセンサ17を一体に保持している。制御部12は、センサステージ31を照明装置ILに同期させて走査方向に移動させることにより、照射領域50が走査方向に移動した場合においてもAFセンサ17により、照射領域50の両側部におけるマスク高さを検出することができる。
次に、露光装置EX2を用いて、マスクMに設けられたパターンをプレートPへ転写する露光方法について説明する。まず、制御部12は、図6に示すように、マスクMの走査方向における前端部および後端部をそれぞれ前端部保持部MH1および後端部保持部MH2により保持させる(ステップS20)。次に、制御部12は、マスクMの後端部に照射領域50が位置するように、照明駆動部30により照明装置ILを走査方向に移動させるとともに、センサ駆動部32によってセンサステージ31を走査方向に移動させる(ステップS21)。これによって、図7(a)に示すように、照明装置IL下にマスクMおよびプレートPの後端部を配置させるとともに、AFセンサ17によるマスク高さの検出位置を照射領域50の両側部に移動させる。
次に、制御部12は、第1の実施形態におけるステップS12,S13と同様にステップS22,S23を行い、照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に設定する。その後、制御部12は、照明装置ILから露光光を照射させ、照射領域50及びAFセンサ17をマスクM及びプレートPに対して走査方向へ移動させる(ステップS24)。このとき、制御部12は、照明駆動部30により照明装置ILを走査方向に移動させることで照射領域50をマスクM及びプレートPに対して相対的に移動させると共に、照明駆動部30と同期してセンサ駆動部32によりセンサステージ31を走査方向に移動させることでAFセンサ17によるマスク高さの検出位置を照射領域50の両側部に追随させる。そして、制御部12は、AFセンサ17により照射領域50の両側部におけるマスク高さの検出を行い(ステップS25)、この検出結果に基づいてステップS23と同様に照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に設定する(ステップS26)。
次に、制御部12は、照明装置ILがマスクMおよびプレートPの前端部上に位置したか否かの判断を行い(ステップS27)、前端部上に位置していない場合には(ステップS27:No)、ステップS24からの処理を繰り返す。これによって、制御部12は、図7(b)に示すように、マスクMおよびプレートPに対して照射領域50とAFセンサ17とを同期して走査方向に移動させ、照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に維持しながら走査露光を行う。なお、制御部12は、照明装置ILおよびセンサステージ31の位置(移動位置)を、図示しないセンサ(干渉計等)を用いて検出する。一方、制御部12は、図7(c)に示すように、照明装置ILがマスクMおよびプレートPの前端部上に位置したと判断した場合には(ステップS27:Yes)、マスクMに対する露光光の照射を停止させて走査露光を終了する。
このようにして制御部12は、第1の実施形態と同様に、マスクMに設けられたパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。このため、露光装置EX2によれば、露光装置EX1と同様に、マスクMとして大型のマスクを用いる場合、そのマスクに形成されているパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。図8は、第3の実施形態に係る露光装置EX3の構成を示す図である。露光装置EX3は、露光装置EX2において、露光光の照射領域50の走査方向への移動に伴い、AFセンサ17が設置されるセンサステージ31を走査方向に移動させていたのに代え、走査方向における複数点のマスク高さを検出するための複数のAFセンサを備えているが、その他の点は、露光装置EX2と同一の構成を有する。従って、第3の実施形態の説明においては、露光装置EX2の構成と同一の構成の詳細な説明は省略し、露光装置EX2の構成と同一の構成には第2の実施形態で用いたのと同一の符号を用いて説明を行う。
露光装置EX3は、図8に示すように、マスクMの両側部の走査方向における3点の高さを検出する6つのAFセンサ17を備えている。図8においては、マスクMの−Y方向の側部を検出する3つのAFセンサ17のみを図示しているが、この3つのAFセンサ17に対応してマスクMの+Y方向の側部を検出する3つのAFセンサ17も備えている。
制御部12は、照明装置ILの走査方向への移動に伴い照射領域50が走査方向に移動した場合に、6つのAFセンサ17の中の少なくとも1つのAFセンサ17を用いてマスク高さの検出を行う。例えば、照射領域50の走査方向の位置が何れかのAFセンサ17の検出点に一致した場合には、そのAFセンサ17により照射領域50の両側部におけるマスク高さを検出し、照射領域50の走査方向の位置が2つのAFセンサの検出点の間にある場合には、その2つのAFセンサ17によりマスク高さを検出する。
制御部12は、このようにして検出された照射領域50の両側部におけるマスク高さから照射領域50内のマスク高さを算出し、この算出結果に基づいて保持部駆動部10を駆動させ、前端部保持部MH1と後端部保持部MH2とを上下動させることにより、照射領域50内のマスクMのプレートPに対するマスク高さを適正ギャップ内に設定する。露光装置EX3では、このようにして照射領域50の両側部におけるマスク高さを検出する以外には、第2の実施形態と同様にして、マスクMに設けられたパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。このため、露光装置EX3によれば、露光装置EX2と同様に、マスクMとして大型のマスクを用いる場合、そのマスクに設けられたパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。またAFセンサ17を走査方向に移動させるセンサステージを設ける必要がないため、ステージの構成を簡略化することができる。
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。図9は、第4の実施形態に係る露光装置EX4の構成を示す図である。露光装置EX4は、露光装置EX1と同様に、露光光の照射領域50の走査方向の位置を固定し、マスクM及びプレートPを走査方向に移動させる構成を有するが、マスクMを走査方向へ移動させる構成が露光装置EX1と異なる。その他の点は、露光装置EX1と同一の構成を有する。従って、第4の実施形態の説明においては、露光装置EX1の構成と同一の構成の詳細な説明は省略し、露光装置EX1の構成と同一の構成には第1の実施形態で用いたのと同一の符号を用いて説明を行う。
露光装置EX4では、マスクMを所定量撓ませた状態で前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2によりそれぞれマスクMの前端部及び後端部を保持し、所定の回転軸Cを回転中心として前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2を回転させ、この回転に同期させてプレートステージPSによりプレートPを走査方向に移動させることにより、照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に設定する。ここで回転軸Cは仮想的なものであり、実際には回転軸Cと前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2とが連結されているものではない。ただし回転軸Cを実際に設け、回転軸Cと前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2とを接続部材などにより連結してもよい。また、前端部保持部MH1及び後端部保持部MH2に代えて、走査方向に曲率を持ちマスクMの4辺を保持するマスクホルダによりマスクMを保持し、回転軸Cを回転中心としてマスクホルダを回転させるようにしてもよい。
露光装置EX4では、このようにして照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に設定する以外には、第1の実施形態と同様にして、マスクMに設けられたパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。このため、露光装置EX4によれば、露光装置EX1と同様に、マスクMとして大型のマスクを用いる場合、そのマスクに設けられたパターンの全領域を高精度に感光基板に転写することができる。
次に、本発明の第5の実施形態について説明する。この第5の実施形態では、露光装置EX2を用い、上述した第2の実施形態とは異なる露光方法によって、マスクMに設けられたパターンをプレートPに転写する。その際、制御部12は、照明装置ILを走査方向へ移動させるとともに、その走査方向の位置(移動位置)に対応して上下方向へも移動させる。また、照明装置ILの上下方向への移動に同期させて、マスクMの前端部と、プレートPと、AFセンサ17とをそれぞれ上下動させる。
具体的には、制御部12は、図6に示した第2の実施形態のおける露光手順と同様に処理を行う。まず、ステップS20〜S23と同様の処理を行う。これによって、図10(a)に示すように、照明装置ILをマスクMおよびプレートPの後端部上に配置させるとともに、照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に設定する。そして、制御部12は、ステップS24と同様に走査露光を開始し、ステップS25と同様にAFセンサ17によって照射領域50の両側部におけるマスク高さの検出を行う。
次に、制御部12は、ステップS26に対応する処理において、AFセンサ17によるマスク高さの検出結果に基づいて照射領域50内のマスク高さを算出し、この算出結果に基づいて照明装置IL、前端部保持部MH1、プレートステージPSおよびAFセンサ17を上下動させ、照射領域50内のマスク高さを調整して適正ギャップ内に設定する。この際、制御部12は、照明駆動部30によって照明装置ILを上下動させ、保持部駆動部10によって前端部保持部MH1を上下動させるとともに、後端部保持部MH2の高さを一定の高さ(図10における破線Hの高さ)に保持する。また、図示しないステージ上下駆動機構によってプレートステージPSを上下動させるとともに、センサ駆動部32によってセンサステージ31を介してAFセンサ17を上下動させる。
その後、制御部12は、ステップS27と同様に、照明装置ILがマスクMおよびプレートPの前端部上に位置したか否かの判断を行い、前端部上に位置していない場合には、ステップS24に対応する処理からの一連の処理を繰り返す。これによって、制御部12は、図10(b)に示すように、マスクMおよびプレートPに対して照射領域50とAFセンサ17とを同期して走査方向に移動させるとともに、照明装置IL、マスクM、プレートPおよびAFセンサ17を上下動させ、照射領域50内のマスク高さを適正ギャップ内に維持しながら走査露光を行う。なお、制御部12は、照明装置IL、前端部保持部MH1、プレートステージPSおよびセンサステージ31の位置(移動位置)を、図示しないセンサ(干渉計等)を用いて検出する。一方、制御部12は、図10(c)に示すように、照明装置ILがマスクMおよびプレートPの前端部上に位置したと判断した場合には、マスクMに対する露光光の照射を停止させて走査露光を終了する。
このようにして第5の実施形態に係る露光方法では、第2の実施形態と同様に、マスクMに設けられたパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができ、マスクMとして大型のマスクを用いる場合、そのマスクに形成されているパターンの全領域を高精度にプレートPに転写することができる。
なお、上述の第1〜第5実施形態においては、スキャン型プロキシミティ露光装置を例に挙げて説明したが、投影光学系に対してマスクMとプレートPとを同期移動させつつ、マスクMに形成されたパターンの像をプレートP上に転写する走査型露光装置に本発明を適用することも可能である。その場合に、投影光学系として、例えば、複数の反射屈折型の投影光学ユニットからなる投影光学系を用いることができる。ここで投影光学系を用いる場合には、投影光学系内に設けられる視野絞りを用いて、照射領域50内のマスクMのパターンのうち、プレートPに一度に転写されるパターン領域をマスクMの撓み量に対応して設定することができる。この場合、視野絞りによって設定されるパターン領域内のマスク高さが、投影光学系を用いた露光に適切な所定高さ範囲内となるように制御を行うとよい。
また、上述の第1〜第5の実施形態においては、AFセンサ17によるマスク高さの検出位置を照射領域50の両側部としているが、照射領域50内を検出してもよく、走査方向における照射領域50の前後を検出するようにしてもよい。ここで走査方向における照射領域50の前後のマスクの高さを検出する場合、制御部12は、その検出結果をもとに照射領域50内のマスクの高さを演算によって求めることができる。
また、上述の第1〜第5の実施形態においては、AFセンサ17をマスクMの下方に設け、マスクMの下側からマスク高さの検出を行っているが、マスクMの上側からマスクMを介してその下面の高さをマスク高さとして検出するようにしてもよい。さらに、プレートPの上面(露光面)の高さも検出し、プレートPの上面の高さを基準にマスク高さを検出するようにしてもよい。プレートPの上面の高さの検出を行わない場合には、所定のキャリブレーション用部材に設けられる基準平面の高さを基準にマスク高さの検出を行うとよい。なお、AFセンサ17は、斜入射型のAFセンサに限らず、干渉式または静電容量式等、周知の高さ検出装置あるいは面位置検出装置を用いることができる。
また、上述の第1〜第5の実施形態においては、逐次マスク高さを検出しながらマスク高さの調整を行うものとして説明したが、走査方向におけるマスクMと照射領域50との相対位置と、この相対位置に対応する照射領域50内のマスク高さとを、制御情報として記憶部20に予め記憶させ、この制御情報に基づいて、マスク高さの調整を行うようにしてもよい。なお、かかる制御情報は、本発明の露光装置自身が取得する構成としてもよく、あるいは図示しない入力装置を介して外部から取得する構成としてもよい。
また、上述の第1〜第4の実施形態においては、マスクMを上下動させることで照射領域50内のマスク高さを調整しているが、これと同時に、図示しない上下動機構によってプレートステージPSを上下動させることでマスク高さを調整するようにしてもよい。さらに、マスクMの上下動に同期してプレートステージPSを傾斜させることでマスク高さを調整するようにしてもよい。これによって、一層高精度にマスク高さの調整を行うことができる。
また、上述の第1〜第5の実施形態においては、走査方向と照射領域50の長手方向とを直交させているが、走査方向と照射領域50の長手方向とは必ずしも直交していなくてもよい。また、前端部保持部MH1および後端部保持部MH2によって、それぞれマスクMの前端部および後端部を走査方向と直交する方向に沿って保持しているが、必ずしも直交する方向に沿って保持していなくてもよい。照射領域50は、マスクMの撓み量が所定量以下の領域に設定されていれば、走査方向や前端部保持部MH1および後端部保持部MH2の保持方向などに依存せずに設定することができる。なお、マスクMの撓み量が所定量以下とは、例えばマスクMの撓み量が適正ギャップ以下、もしくは投影光学系の焦点深度以下である場合に相当する。
更に、上述の第1〜第5の実施形態においては、走査露光の際、照射領域50と、マスクM及びプレートPの走査方向の位置との少なくとも一方を固定しているが、照射領域50を走査方向に移動させつつ、マスクM及びプレートPを走査方向に移動させて走査露光を行うようにしてもよい。
また、露光光として、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)またはF2レーザ(157nm)から発する光を使うことができる。
次に、本発明に係る露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図11は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。この図に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウエハに金属膜を蒸着し(ステップS40)、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する(ステップS42)。つづいて、本発明に係る露光装置を用いてマスクM設けられたパターンをプレートPとしてのウエハ上の各ショット領域に転写し(ステップS44:露光工程)、この転写が終了したウエハの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う(ステップS46:現像工程)。その後、ステップS46によってウエハ上に形成されたレジストパターンを加工用のマスクとし、ウエハに対してエッチング等の加工を行う(ステップS48:加工工程)。
ここで、レジストパターンとは、本発明にかかる露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が形成されたフォトレジスト層(転写パターン層)であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップS48では、このレジストパターンを介してウエハ表面の加工を行う。ステップS48で行われる加工には、例えばウエハ表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップS44では、本発明にかかる露光装置は、フォトレジストが塗布されたウエハを感光基板としてパターンの転写を行う。
図12は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。この図に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程(ステップS50)、カラーフィルタ形成工程(ステップS52)、セル組立工程(ステップS54)およびモジュール組立工程(ステップS56)を順次行う。
ステップS50のパターン形成工程では、感光基板としてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、本発明にかかる露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、本発明にかかる露光装置を用いてフォトレジスト層に、マスクMに設けられたパターンを転写する露光工程と、パターンが転写された感光基板の現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、転写したパターンに対応する形状のフォトレジスト層を形成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板を加工する加工工程とが含まれている。
ステップS52のカラーフィルタ形成工程では、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応する3つのドットの組をマトリクス状に多数配列するか、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。
ステップS54のセル組立工程では、ステップS50によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップS52によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。
ステップS56のモジュール組立工程では、ステップS54によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。
10…保持部駆動部、12…制御部、14…ステージ駆動部、16…視野絞り、18…送光光学系、19…受光光学系、20…記憶部、30…照明駆動部、32…センサ駆動部、50…照射領域、IL…照明装置、MH…マスク保持部、MH1…前端部保持部、MH2…後端部保持部、M…マスク、P…プレート
Claims (27)
- マスクに設けられたパターンを該パターンに照射される露光光によって感光基板に転写する露光装置において、
前記パターンに対する前記露光光の照射領域と前記マスクとを所定方向へ相対的に移動させる相対移動手段と、
前記所定方向における前記マスクの前部および後部を保持して上下動させる保持手段と、
前記相対移動手段による前記マスクと前記照射領域との相対移動に対応して前記保持手段を駆動させ、前記照射領域内の前記マスクの前記感光基板に対するマスク高さを調整する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記制御手段は、前記マスク高さを所定高さ範囲内に調整することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記マスクの前記前部および前記後部を相対的に上下動させることを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記保持手段は、前記所定方向と交差する交差方向に沿って前記マスクの前記前部および前記後部を保持することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記保持手段は、前記所定方向と直交する直交方向に沿って前記所定方向における前記マスクの前端部および後端部を保持することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記マスク高さを検出する検出手段を備え、
前記制御手段は、前記検出手段の検出結果に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記検出手段は、前記照射領域内の前記マスク高さを検出することを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記検出手段の検出結果をもとに前記照射領域内の前記マスク高さを算出し、この算出結果に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記所定方向における前記マスクと前記照射領域との相対位置と、該相対位置に対応する前記照射領域内の前記マスク高さとに基づく制御情報を記憶した記憶手段を備え、
前記制御手段は、前記制御情報に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記相対移動手段は、前記保持手段とともに前記マスクを前記所定方向へ移動させるマスク移動手段を有し、
前記制御手段は、前記マスク移動手段による前記マスクの移動位置に対応して前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記感光基板を前記所定方向へ移動させる基板移動手段を備え、
前記制御手段は、前記マスク移動手段と前記基板移動手段とを同期して駆動させ、前記マスクと前記感光基板とを前記所定方向へ同期して移動させることを特徴とする請求項10に記載の露光装置。 - 前記相対移動手段は、前記照射領域を前記所定方向へ移動させる照明移動手段を有し、
前記制御手段は、前記照明移動手段による前記照射領域の移動位置に対応して前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記所定方向の複数の検出領域における前記マスク高さを検出する検出手段を備え、
前記制御手段は、少なくとも1つの前記検出領域に対応する前記検出手段の検出結果に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項12に記載の露光装置。 - 前記制御手段は、前記照明移動手段による前記照射領域の移動位置に応じた前記検出領域に対応する前記検出手段の検出結果に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項13に記載の露光装置。
- 前記検出手段の検出領域を前記所定方向へ移動させる検出移動手段を備え、
前記相対移動手段は、前記照射領域を前記所定方向へ移動させる照明移動手段を有し、
前記制御手段は、前記照明移動手段による前記照射領域の移動位置に対応して前記検出移動手段を駆動させるとともに、該移動位置に対応する前記検出手段の検出結果に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記マスクの撓み量に対応して前記照射領域を設定する照射領域設定手段を備えたことを特徴とする請求項1〜15のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記相対移動手段による前記マスクと前記照射領域との相対移動に対応して前記感光基板を上下動させる基板上下動手段を備えたことを特徴とする請求項1〜16のいずれか一項に記載の露光装置。
- 当該露光装置は、プロキシミティ露光装置であることを特徴とする請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置。
- マスクに設けられたパターンを該パターンに照射される露光光によって感光基板に転写する露光方法において、
前記パターンに対する前記露光光の照射領域と前記マスクとを所定方向へ相対的に移動させる相対移動ステップと、
前記相対移動ステップによる前記マスクと前記照射領域との相対移動に対応して該所定方向における前記マスクの前部および後部を上下動させ、前記照射領域内の前記マスクの前記感光基板に対するマスク高さを調整する調整ステップと、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記調整ステップは、前記マスク高さを所定高さ範囲内に調整することを特徴とする請求項19に記載の露光方法。
- 前記調整ステップは、前記マスクの前記前部および前記後部を相対的に上下動させることを特徴とする請求項19または20に記載の露光方法。
- 前記マスク高さを検出する検出ステップを含み、
前記調整ステップは、前記検出ステップの検出結果に基づいて前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項19〜21のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記相対移動ステップは、前記マスクを前記所定方向へ移動させ、
前記調整ステップは、前記相対移動ステップによる前記マスクの移動位置に対応して前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項19〜22のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記相対移動ステップによる前記マスクの移動位置に対応して前記感光基板を前記所定方向へ移動させる基板移動ステップを含むことを特徴とする請求項23に記載の露光方法。
- 前記相対移動ステップは、前記照射領域を前記所定方向へ移動させ、
前記調整ステップは、前記相対移動ステップによる前記照射領域の移動位置に対応して前記マスク高さを調整することを特徴とする請求項19〜24のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記相対移動ステップによる前記マスクと前記照射領域との相対移動に対応して前記感光基板を上下動させる基板上下動ステップを含むことを特徴とする請求項19〜25のいずれか一項に記載の露光方法。
- 請求項1乃至請求項18のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、マスクに形成されているパターンを感光基板に転写する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記感光基板の表面に生成する現像工程と、
前記転写パターン層を介して前記感光基板の表面を加工する加工工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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