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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5418768B2 (ja) * 2009-06-26 2014-02-19 キヤノン株式会社 露光装置、調整方法及びデバイスの製造方法
KR102492603B1 (ko) * 2014-12-01 2023-01-26 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 투영 시스템
JP7340609B2 (ja) * 2019-01-18 2023-09-07 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 投影システム及び投影システムを備えるリソグラフィ装置
JP2022114974A (ja) * 2021-01-27 2022-08-08 キヤノン株式会社 光学系、露光装置および物品製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0645228A (ja) * 1992-07-23 1994-02-18 Nikon Corp 投影露光装置
JPH0829738A (ja) * 1994-07-18 1996-02-02 Nikon Corp 防振ズームレンズ
US5548195A (en) * 1994-12-22 1996-08-20 International Business Machines Corporation Compensated servo control stage positioning apparatus
JPH1012515A (ja) * 1996-06-20 1998-01-16 Nikon Corp 投影露光装置
JPH11150053A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Nikon Corp 露光方法及び装置
JP3631045B2 (ja) * 1999-06-16 2005-03-23 キヤノン株式会社 駆動装置、光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法
CN1462471A (zh) * 2000-09-21 2003-12-17 株式会社尼康 成像特性的测量方法和曝光方法
JP4298305B2 (ja) * 2003-01-20 2009-07-15 キヤノン株式会社 露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP3805323B2 (ja) * 2003-05-21 2006-08-02 キヤノン株式会社 露光装置、収差低減方法及び光学部材調整機構
TWI396225B (zh) * 2004-07-23 2013-05-11 尼康股份有限公司 成像面測量方法、曝光方法、元件製造方法以及曝光裝置
JP2006113414A (ja) * 2004-10-18 2006-04-27 Canon Inc 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
US7221434B2 (en) * 2005-03-01 2007-05-22 Canon Kabushiki Kaisha Exposure method and apparatus
JP4994598B2 (ja) * 2005-03-18 2012-08-08 キヤノン株式会社 駆動装置
JP5069232B2 (ja) * 2005-07-25 2012-11-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ
JP2007281079A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Canon Inc 光学要素駆動装置及び基板露光装置
JP2007317713A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Canon Inc 光学素子駆動装置
JP4366386B2 (ja) * 2006-09-07 2009-11-18 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法

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