JP2009117556A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
   前記投影光学系を通過する光の結像状態が調整されるように前記投影光学系を構成する複数の光学素子を駆動する駆動部と、
   前記駆動部が前記複数の光学素子のうち第１の光学素子を駆動したときの駆動誤差を検出する検出部と、
   前記駆動誤差に起因する前記投影光学系を通過する光の結像状態の変化が低減されるように、前記複数の光学素子のうち前記第１の光学素子とは異なる第２の光学素子を前記駆動部で駆動する制御部と、
   を有することを特徴とする露光装置。
2. レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
   前記投影光学系を通過する光の結像状態が調整されるように前記投影光学系を構成する複数の光学素子を駆動する駆動部と、
   前記複数の光学素子のうち第１の光学素子を駆動したときの駆動誤差に起因する前記投影光学系を通過する光の結像状態の変化が低減されるように、前記複数の光学素子のうち前記第１の光学素子とは異なる第２の光学素子を前記駆動部で駆動する制御部と、
   を有することを特徴とする露光装置。
3. 前記第１の光学素子および前記第２の光学素子は、前記駆動部による駆動のされ方が互いに異なることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記駆動部による前記第１の光学素子および前記第２の光学素子の駆動は、前記投影光学系の光軸に垂直な平面に対して傾斜させること、前記投影光学系の光軸方向に駆動すること、または、前記第１の光学素子および前記第２の光学素子を変形させることを含むことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 前記制御部は、前記駆動誤差に起因する前記投影光学系を通過する光の結像状態の変化量と、その変化量を低減するために必要な前記第２の光学素子の駆動量と、の関係を示す情報を有し、
   前記検出部によって検出された駆動誤差及び前記情報に基づいて、前記第２の光学素子を前記駆動部で駆動することを特徴とする請求項１、３、４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記制御部は、前記駆動誤差と、その駆動誤差に起因する前記投影光学系を通過する光の結像状態の変化を低減するために必要な前記第２の光学素子の駆動量と、の関係を示す情報を有し、
   前記検出部によって検出された駆動誤差及び前記情報に基づいて、前記第２の光学素子を前記駆動部で駆動することを特徴とする請求項１、３、４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記制御部は、前記第１の光学素子の駆動量と、その駆動量だけ前記第１の光学素子を駆動したときの駆動誤差に起因する前記投影光学系を通過する光の結像状態の変化を低減するために必要な前記第２の光学素子の駆動量と、の関係を示す情報を有し、
   前記第１の光学素子の駆動量及び前記情報に基づいて、前記第２の光学素子を前記駆動部で駆動することを特徴とする請求項２乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
8. 前記制御部は、前記第１の光学素子を駆動したときの駆動誤差に起因する前記投影光学系を通過する光の結像状態の変化が低減されるように、前記複数の光学素子のうち前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子を前記駆動部で駆動することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置。
9. 請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
   露光した前記基板を現像するステップと、
   を有することを特徴とするデバイス製造方法。