JP2006222222A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006222222A5 JP2006222222A5 JP2005033424A JP2005033424A JP2006222222A5 JP 2006222222 A5 JP2006222222 A5 JP 2006222222A5 JP 2005033424 A JP2005033424 A JP 2005033424A JP 2005033424 A JP2005033424 A JP 2005033424A JP 2006222222 A5 JP2006222222 A5 JP 2006222222A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- projection optical
- optical element
- projection
- object side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Claims (14)
- 第一の物体のパターンを第二の物体に投影する投影光学系において、
当該投影光学系の、前記第二の物体に最も近い光学素子に設けられ、前記投影時に前記パターンが投影される前記第二の物体の領域の外部に入射する光を遮蔽するための視野絞りを有することを特徴とする投影光学系。 - 前記視野絞りは、遮光性の膜によって形成される遮蔽部を含むことを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
- 前記光学素子の前記パターンを反映する光が通過する開口部の前記第二の物体側の面と前記視野絞りの前記遮蔽部の前記第二の物体側の面の段差は100μm以下であることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
- 前記光学素子の前記開口部は前記開口部以外の部分よりも前記第二の物体側に突出していることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
- 前記視野絞りは前記光学素子の内部に配置されていることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
- 前記光学素子は、
前記パターンを前記第二の物体に投影するための光学部と、
前記光学部の前記第二の物体側の面に、前記視野絞りが露出しないように前記視野絞りに接して配置されている貼り合わせ板を含むことを特徴とする請求項1記載の投影光学系。 - 前記光学素子は、
前記パターンを前記第二の物体に投影するための光学部と、
前記光学部を被覆すると共に、前記視野絞りを被覆する反射防止膜を含むことを特徴とする請求項1記載の投影光学系。 - 前記光学素子の前記第二の物体側の面は曲面であって、前記光学素子の第二の物体側には遮光部材と透明な平行平板が同一の面をなすように配置されていることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。
- 前記光学素子の前記第二の物体側の面と前記遮光部材、前記平行平板の間には液体が満たされていることを特徴とする請求項8記載の投影光学系。
- 前記遮光部材に温調素子が設けられていることを特徴とする請求項9記載の投影光学系。
- 前記遮光部材に液体注入口と排出口が設けられていることを特徴とする請求項10記載の投影光学系。
- 請求項1乃至11のうちいずれか一項記載の投影光学系を有し、前記第一の物体としてのマスクのパターンの像を前記投影光学系を介して前記第二の物体としての被露光体に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記被露光体と前記投影光学系との間の液体及び前記投影光学系を介して、前記被露光体を露光することを特徴とする請求項12記載の露光装置。
- 請求項12記載の露光装置を用いて前記被露光体を露光するステップと、
該露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005033424A JP2006222222A (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | 投影光学系及びそれを有する露光装置 |
US11/349,897 US20060176461A1 (en) | 2005-02-09 | 2006-02-09 | Projection optical system and exposure apparatus having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005033424A JP2006222222A (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | 投影光学系及びそれを有する露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006222222A JP2006222222A (ja) | 2006-08-24 |
JP2006222222A5 true JP2006222222A5 (ja) | 2008-03-27 |
Family
ID=36779570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005033424A Withdrawn JP2006222222A (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | 投影光学系及びそれを有する露光装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060176461A1 (ja) |
JP (1) | JP2006222222A (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4646575B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2011-03-09 | キヤノン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US7324185B2 (en) | 2005-03-04 | 2008-01-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8248577B2 (en) | 2005-05-03 | 2012-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20090046268A1 (en) | 2005-05-12 | 2009-02-19 | Yasuhiro Omura | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
KR101890082B1 (ko) * | 2005-06-02 | 2018-08-20 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래피 투영 대물 렌즈 |
KR20080063304A (ko) * | 2005-11-01 | 2008-07-03 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
US20070127135A1 (en) * | 2005-11-01 | 2007-06-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method |
WO2007132862A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
TW200801578A (en) | 2006-06-21 | 2008-01-01 | Canon Kk | Projection optical system |
JP4310349B2 (ja) * | 2007-04-20 | 2009-08-05 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
DE102008001800A1 (de) | 2007-05-25 | 2008-11-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie, Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Projektionsobjektiv, mikrolithographisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement |
KR101510493B1 (ko) * | 2007-10-02 | 2015-04-08 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래피용 투사 대물렌즈 |
US8467032B2 (en) * | 2008-04-09 | 2013-06-18 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and electronic device manufacturing method |
EP2853891B1 (en) * | 2009-08-24 | 2017-01-04 | Life Technologies Corporation | Electrophoresis gel cassette and comb |
USD794823S1 (en) | 2010-08-24 | 2017-08-15 | Life Technologies Corporation | Electrophoresis tank with a base and cassette inserted in |
USD719277S1 (en) | 2010-08-24 | 2014-12-09 | Life Technologies Corporation | Electrophoresis wedge-well comb |
JP6401510B2 (ja) * | 2014-06-12 | 2018-10-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
US10446728B2 (en) * | 2014-10-31 | 2019-10-15 | eLux, Inc. | Pick-and remove system and method for emissive display repair |
CN113050381B (zh) * | 2019-12-27 | 2022-04-26 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种拼接物镜的剂量控制装置、方法和曝光设备 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60196335A (ja) * | 1984-03-21 | 1985-10-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 積層フイルム |
JP3747958B2 (ja) * | 1995-04-07 | 2006-02-22 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系 |
US5642183A (en) * | 1993-08-27 | 1997-06-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Spatial filter used in a reduction-type projection printing apparatus |
JPH08106043A (ja) * | 1994-10-05 | 1996-04-23 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 内視鏡用対物レンズ |
JP3459773B2 (ja) * | 1998-06-24 | 2003-10-27 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP3658209B2 (ja) * | 1998-10-08 | 2005-06-08 | キヤノン株式会社 | 円弧照明光学系及びそれを用いた露光装置 |
JP2001264626A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Canon Inc | 回折光学素子を有する光学系 |
JP3710724B2 (ja) * | 2001-05-14 | 2005-10-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 結像光学装置 |
US6791668B2 (en) * | 2002-08-13 | 2004-09-14 | Winbond Electronics Corporation | Semiconductor manufacturing apparatus and method |
WO2004019128A2 (en) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Nikon Corporation | Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
DE10258715B4 (de) * | 2002-12-10 | 2006-12-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Herstellung eines optischen Abbildungssystems |
CN1307456C (zh) * | 2003-05-23 | 2007-03-28 | 佳能株式会社 | 投影光学系统、曝光装置及器件的制造方法 |
US6954256B2 (en) * | 2003-08-29 | 2005-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Gradient immersion lithography |
US7460206B2 (en) * | 2003-12-19 | 2008-12-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective for immersion lithography |
JP2005191381A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
-
2005
- 2005-02-09 JP JP2005033424A patent/JP2006222222A/ja not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-02-09 US US11/349,897 patent/US20060176461A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006222222A5 (ja) | ||
TW528921B (en) | Lenticular lens sheet with light shielding layer and method for producing the same | |
US7672067B2 (en) | Optical device, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
WO2005059641A1 (ja) | フレネル光学素子及び投写型表示装置 | |
US11228741B2 (en) | Seamless tiled displays | |
JP2012168543A5 (ja) | 投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
WO2006100857A1 (ja) | 照明装置 | |
JP2010536057A5 (ja) | ||
JP2008203540A5 (ja) | ||
JP2020511688A5 (ja) | ||
KR20060127423A (ko) | 마이크로 렌즈 어레이 및 그 제조 방법 | |
JP2010020017A5 (ja) | ||
JP2005141158A5 (ja) | ||
JP2009038152A5 (ja) | ||
JP2013250541A5 (ja) | ||
US9429836B2 (en) | Exposure mask, exposure apparatus, and method for manufacturing display substrate | |
JP2004363571A5 (ja) | ||
JP2008032809A (ja) | プロジェクタ及び覆部材 | |
TWI267687B (en) | Method for inhibiting stray light of a projection display device and integration rod | |
TWI747017B (zh) | 攝影裝置 | |
JP3293489B2 (ja) | レンチキュラーシート露光装置 | |
WO2016112856A1 (zh) | 滤光片和摄像模组及其制造方法 | |
TW201740179A (zh) | 一種投影螢幕的製作方法及相關投影螢幕 | |
JP2005037896A5 (ja) | ||
JP2006154252A (ja) | 拡散レンズアレイシート、透過型スクリーン、背面投射型ディスプレイ装置及び拡散レンズアレイシートの製造方法 |