JP7340609B2 - 投影システム及び投影システムを備えるリソグラフィ装置 - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
[001] 本出願は、２０１９年１月１８日出願の、欧州出願第１９１５２４９７．４号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

[002] 本発明は、リソグラフィ装置のための投影システム、投影システムを備えるリソグラフィ装置、及び投影システムを制御するための方法に関する。

[003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又はいくつかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。

[004] リソグラフィは、ＩＣ及びその他のデバイス及び／又は構造を製造する際の主要なステップの１つとして広く認識されている。しかし、リソグラフィを使用して製造される特徴の寸法がより微細になると共に、リソグラフィは小型ＩＣ又はその他のデバイス、及び／又は構造の製造を可能にするためのより決定的なファクタになってきている。

[005] パターン印刷の限界の理論的な推定値は式（１）に示すようなレイリーの解像基準によって得られる。

ただし、λは使用される放射の波長、ＮＡはパターンを印刷するために使用される投影システムの開口数、ｋ_１はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、ＣＤは印刷される特徴のフィーチャサイズ（又は、限界寸法）である。式（１）から、特徴の印刷可能な最小サイズの縮小は３つの方法で達成できることが分かる。すなわち、露光波長λの短縮によるもの、開口数ＮＡの増加によるもの、又はｋ_１の値の減少によるものである。

[006] 露光波長を短縮するため、及びしたがって最小印刷可能サイズを縮小させるために、極端紫外線（ＥＵＶ）放射源を使用することが提案されてきた。ＥＵＶ放射は、５～２０ｎｍの範囲内、例えば１３～１４ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である。１０ｎｍ未満の波長を伴うＥＵＶ放射は、例えば、６．７ｎｍ又は６．８ｎｍなどの５～１０ｎｍの範囲内で使用可能であることが、更に提案されてきた。可能な放射源にはレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源が含まれるが、他のタイプの放射源も可能である。

[007] ＥＵＶリソグラフィのためのＬＰＰ源の開発における現在の進展の一例は、Benjamin Szu-Min、David Brandt、Nigel Farrarによる「High power LPP EUV source system development status」と題する論文、SPIE Proceedings Vol.7520、Lithography Asia 2009、2009年12月（SPIE Digital Library reference DOI:10.1117/12.839488）に記載されている。リソグラフィ装置において、放射源装置は、典型的にはそれ自体の真空ハウジング内に格納されるが、放射が使用されるべき光学システムにＥＵＶ放射ビームを結合するために小さな出口開口が提供される。

[008] リソグラフィのための高解像度パターニングにおいて有用とするために、ＥＵＶ放射ビームは、レチクルに達するときに、強度及び角度分布の均一性などの望ましいパラメータを取得するように調節しなければならない。照明システムの例は、米国特許出願公開第２００５／０２７４８９７Ａ１号（Carl Zeiss/ASML）及び米国特許出願公開第２０１１／００６３５９８Ａ（Carl Zeiss）に記載されている。例示のシステムは、ＥＵＶ源の非常に不均一な強度プロファイルをより均一で制御可能な放射源に変換する、「フライアイ（fly’s eye）」イルミネータを含む。

[009] 良好な結像パフォーマンスのために、ＥＵＶ放射ビームを基板上に正確に位置決めすることが重要である。これを達成するために、リソグラフィ装置は、複数の光学要素、例えばミラー、及び、１つ以上の光学要素の位置を制御するためのドライブシステムを備える、投影システムを備えることができる。

[0010] 本発明の実施形態の態様の目的は、リソグラフィ装置のための改良された又は少なくとも代替の投影システム、及び、投影システムを制御するための方法を提供することである。

[0011] 一実施形態において、本発明は、経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素と、複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成され、また、入力信号に基づいて、複数の光学要素のうちの少なくとも第２の光学要素の位置を制御するための出力信号を生成するように構成された、制御システムとを備える、リソグラフィ装置のための投影システムに関する。

[0012] 一実施形態において、本発明は、経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素であって、オブジェクトサポート上に配置されたオブジェクト上にビームを位置決めするように構成された複数の光学要素と、複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成され、また、入力信号に基づいて、オブジェクトサポートの位置を制御するための出力信号を生成するように構成された、制御システムとを備える、リソグラフィ装置のための投影システムに関する。

[0013] 一実施形態において、本発明は、経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素であって、ビームは、複数の光学要素がビームを受信する前に、支持構造によって支持されたパターニングデバイスによって付与されたパターンを有するように構成される、複数の光学要素と、複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成され、また、入力信号に基づいて、支持構造の位置を制御するための出力信号を生成するように構成された、制御システムとを備える、リソグラフィ装置のための投影システムに関する。

[0014] 一実施形態において、本発明は、基板を保持するように構成された基板サポートと、ビームを生成するように構成された放射源と、ビームにパターンを付与するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、ビームを基板上に位置決めするように構成された本発明の１つ以上の実施形態に従った投影システムとを備える、リソグラフィ装置に関する。

[0015] 一実施形態において、本発明は、経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素を備える投影システムを制御するための方法に関し、方法は、複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を決定するステップと、入力信号に基づいて、複数の光学要素のうちの少なくとも第２の光学要素の位置を制御するステップとを含む。

[0016] 一実施形態において、本発明は、経路に沿ってビームをオブジェクト上に誘導するように構成された複数の光学要素を備える投影システムを制御するための方法に関し、方法は、複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を決定するステップと、入力信号に基づいて、オブジェクトの位置を制御するステップとを含む。

[0017] 一実施形態において、本発明は、経路に沿ってビームをオブジェクト上に誘導するように構成された複数の光学要素を備える投影システムを制御するための方法に関し、方法は、複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を決定するステップ、入力信号に基づいて、オブジェクトの位置を制御するステップを含む。

[0018] 本発明のこれらの態様及び様々な任意選択の特徴及びそれらの実装は、当業者であれば、下記の例の説明から理解されよう。

[0019] 対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。

[0020]本発明の一実施形態に従った、リソグラフィシステムを示す概略図である。 [0021]図１の装置のより詳細な図であり、ＥＵＶ放射源のための新規な監視及び制御システムを示す図である。 [0022]本発明に従った、投影システムの一実施形態を示す概略図である。 [0023]本発明の一実施形態を示す概略図である。

[0024] 図１は、本発明の一実施形態に従ったリソグラフィシステム１００を概略的に示し、リソグラフィシステムは、リソグラフィ装置、及びＥＵＶ放射、例えばＥＵＶ放射ビームを生成するために構成された、ＥＵＶ放射源を備える。図に示される実施形態において、ＥＵＶ放射源はソースコレクタモジュールＳＯを備える。図に示される実施形態において、リソグラフィスキャン装置は、放射ビームＢ（例えば、ＥＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク又はレチクル）ＭＡを支持するように構築され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された、支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、基板を正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された、投影システム（例えば、反射型投影システム）ＰＳと、を備える。

[0025] 照明システムＩＬは、放射を誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。

[0026] 支持構造ＭＴは、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計及び、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否か等の条件に応じた手法でパターニングデバイスＭＡを保持する。支持構造は、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を用いて、パターニングデバイスを保持することができる。支持構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動式にできるフレーム又はテーブルであってもよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置に来るようにしてもよい。

[0027] 本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。

[0028] パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型（alternating）位相シフトマスク、ハーフトーン型（attenuated）位相シフトマスクのようなマスクタイプ、更には様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小型ミラーのマトリクス配列を使用し、ミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを付与する。

[0029] 投影システムは、照明システムと同様に、使用する露光放射、又は真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折、反射、磁気、電磁、静電型等の光学コンポーネント、又はその任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。その他のガスは放射を吸収しすぎるため、ＥＵＶ放射用には真空を使用することが望ましいことがある。したがって、真空環境は、真空壁及び真空ポンプを用いてビーム経路全体に提供してもよい。投影システムＰＳは、本発明による投影システムＰＳであり得る。

[0030] 本明細書で示すように、装置は反射タイプである（例えば反射マスクを使用する）。

[0031] リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ以上の他のテーブルを露光に使用している間に１つ以上のテーブルで予備工程を実行することができる。

[0032] 図１を参照すると、イルミネータＩＬはソースコレクタモジュールＳＯから極端紫外線放射ビームを受ける。ＥＵＶ光を生成する方法は、必ずしも限定ではないが、例えばキセノン、リチウム、又はスズのような、ＥＵＶ範囲内に１つ以上の輝線を持つ少なくとも１つの元素を有する材料を、プラズマ状態に変換することを含む。しばしばレーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれる１つのそのような方法では、必要な線発光元素を有する材料の小滴、流れ、又はクラスタのような燃料を、レーザビームで照射することにより、必要なプラズマを生成できる。ソースコレクタモジュールＳＯは、図１には示されていない、レーザビームを提供し燃料を励起するためのレーザを含むＥＵＶ放射システムの一部とすることができる。これによって生じるプラズマは、例えばＥＵＶ放射のような出力放射を放出し、この出力放射はソースコレクタモジュール内に配置された放射コレクタを用いて収集される。例えばＣＯ_２レーザを使用して燃料励起のためのレーザビームを提供する場合、レーザとソースコレクタモジュールは別個の構成要素である可能性がある。

[0033] そのような場合には、レーザは、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また放射ビームは、レーザからソースコレクタモジュールへ、例えば、適切な誘導ミラー及び／又はビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムを使って送られる。その他の場合、例えば、放射源がしばしばＤＰＰ源と呼ばれる放電生成プラズマＥＵＶジェネレータである場合においては、放射源は、ソースコレクタモジュールの一体部分であってもよい。

[0034] イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するためのアジャスタを備えていてもよい。一般に、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス及び瞳ミラーデバイスなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。

[0035] 放射ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴに保持されたパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターン付与される。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡから反射された後に、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過する。投影システムＰＳは放射ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに合焦させる。第２のポジショナＰＷ及び位置センサＰＳ２（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）の助けによって、基板テーブルＷＴを（例えば、放射ビームＢの経路に様々なターゲット部分Ｃを位置決めするように）正確に移動させることができる。同様に、第１のポジショナＰＭ及び別の位置センサＰＳ１を使用して、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを正確に位置決めすることができる。マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ及び基板Ｗを位置合わせすることができる。

[0036] 図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモードでは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。
２．スキャンモードでは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。
３．別のモードでは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。

[0037] 前述の使用モード又は全く異なる使用モードの組み合わせ及び／又は変形も採用可能である。例示する実施形態は、前述のモード２及び３のようなスキャンを含む。

[0038] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板プロセスツールに適用することができる。更に基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。

[0039] 図２は、ソースコレクタモジュールＳＯを備えるＥＵＶ放射源、並びに、照明システムＩＬ及び投影システムＰＳを備えるリソグラフィスキャン装置を含む、システム１００をより詳細に示す。ＥＵＶ放射源のソースコレクタモジュールＳＯは、ソースコレクタモジュールＳＯの閉鎖構造２２０内で真空環境が維持できるように構築及び配置される。システムＩＬ及びＰＳは、それら自体の真空環境内に同様に格納される。ＥＵＶ放射放出プラズマ２１０は、レーザ生成ＬＰＰプラズマ源によって形成可能である。ソースコレクタモジュールＳＯの機能は、ＥＵＶ放射ビーム２０が仮想光源点に合焦するように、ＥＵＶ放射ビーム２０をプラズマ２１０から搬送することである。仮想光源点は、通常、中間焦点（ＩＦ）と呼ばれ、ソースコレクタモジュールは、中間焦点（ＩＦ）が閉鎖構造２２０内の開口２２１に、又は開口２２１近くに位置するように配置される。仮想光源点ＩＦは放射放出プラズマ２１０の像である。

[0040] 中間焦点ＩＦにある開口２２１から、放射は、この例ではファセットフィールドミラーデバイス２２及びファセット瞳ミラーデバイス２４を含む、照明システムＩＬを横断する。これらのデバイスは、いわゆる「フライアイ」イルミネータを形成し、フライアイイルミネータは、パターニングデバイスＭＡで放射ビーム２１の望ましい角度分布を、並びに、パターニングデバイスＭＡで望ましい放射強度の均一性提供するように、配置される。支持構造（マスクテーブル）ＭＴによって保持される、パターニングデバイスＭＡでのビーム２１の反射時に、パターン付与されたビーム２６が形成され、パターン付与されたビーム２６は、投影システムＰＳによって、反射要素２８、３０を介して、ウェーハステージ又は基板テーブルＷＴによって保持される基板Ｗ上に結像される。

[0041] 各システムＩＬ及びＰＳは、閉鎖構造２２０と同様の閉鎖構造によって画定される、それ自体の真空又は近真空環境内に配置される。一般に、照明システムＩＬ及び投影システムＰＳ内には、図に示されたよりも多くの要素が存在可能である。更に、図に示されたよりも多くのミラーが存在可能である。例えば、照明システムＩＬ及び／又は投影システムＰＳ内には、図２に示される反射要素に加えて、１から６つの追加の反射要素が存在可能である。上記で言及した米国特許出願公開は、例えば、照明システム内に３つの追加要素を示している。

[0042] ソースコレクタモジュールＳＯをより詳細に考察すると、レーザエネルギー２２４をキセノン（Ｘｅ）、スズ（Ｓｎ）、又はリチウム（Ｌｉ）などの燃料内に蓄積させ、数十ｅＶの電子温度を伴う高度にイオン化されたプラズマ２１０を生み出すために、レーザ２２３を備えるレーザエネルギー源が配置される。より高エネルギーのＥＵＶ放射を、他の燃料材料、例えばＴｂ及びＧｄで生成することができる。脱励起中に生成されたエネルギー放射及びこれらのイオンの再組み合わせが、近法線入射コレクタＣＯによって集められ、開口２２１上に合焦される。プラズマ２１０及び開口２２１は、それぞれ、コレクタの第１及び第２の焦点又はコレクタミラーＣＯに位置する。

[0043] 燃料、例えば液体スズを搬送するために、液滴ジェネレータ２２６は、液滴の高周波数ストリーム２２８をプラズマ２１０の望ましいロケーションに向けて発火させるように配置された、エンクロージャ２２０内に配置される。動作中、レーザエネルギー２２４は、各燃料液滴をプラズマ２１０に変えるために放射のインパルスを搬送するために、液滴ジェネレータ２２６の動作と同期して搬送される。液滴の搬送の周波数は、数キロヘルツ、例えば５０ｋＨｚとすることができる。実際に、レーザエネルギー２２４は少なくとも２つのパルスで搬送され、エネルギーが制限されたプリパルスは、燃料材料を小さなクラウドに気化させるために、プラズマロケーションに達する前に液滴に搬送され、その後レーザエネルギー２２４のメインパルスが、プラズマ２１０を生成するために、望ましいロケーションのクラウドに搬送される。何らかの理由でプラズマに変換されない燃料をキャプチャするために、閉鎖構造２２０の反対側にトラップ２３０が提供される。

[0044] ソースコレクタモジュール及びリソグラフィ装置内の多数の追加コンポーネントは典型的な装置内に存在するが、ここでは図示されていない。これらは、例えば、コレクタ又はコレクタミラーＣＯ及び他の光学系のパフォーマンスに損害を与えるか又は損なう、燃料材料の堆積を防止するために、閉鎖真空内のコンタミの影響を低減又は軽減させるための配置を含む。また、１つ以上のスペクトル純度フィルタが、ソースコレクタモジュールＳＯ及び／又は照明システムＩＬに含まれることになる。これらのフィルタは、ＵＶ放射の望ましくない波長に加えて、レーザ及び／又はプラズマ２１０によって生成された望ましくない波長の放射をできる限り取り除くためのものである。スペクトル純度フィルタは、仮想光源点近く、又は、コレクタと仮想光源点との間の任意のポイントに、位置決めすることができる。フィルタは、放射経路内の他のロケーション、例えば仮想光源点ＩＦのダウンストリームに置くことができる。複数のフィルタが採用可能である。当業者はこれらの手段の必要性及びこれらの手段が実施可能な様式に精通しており、本開示のために更なる詳細は必要ない。

[0045] 図２からのレーザ２２３をより詳細に参照すると、提示される実施形態におけるレーザは、ＭＯＰＡ（主発振器パワー増幅器）タイプである。これは、図内でＭＯと標示された「メイン」レーザ又は「シード」レーザと、その後のパワー増幅器（ＰＡ）からなる。レーザエネルギー２２４をモジュールＳＯ内に搬送するために、ビームデリバリシステム２４０が提供される。実際には、レーザエネルギーのプリパルス要素は、図内では別々に示されていない別のレーザによって搬送されることになる。レーザ２２３、燃料源（すなわち、液滴ジェネレータ）２２６、及び他のコンポーネントは、例えばソース制御モジュール２４２によって制御可能である。

[0046] 当業者であればわかるように、基準軸Ｘ、Ｙ、及びＺは、装置のジオメトリ及び挙動、その様々なコンポーネント、及び放射ビーム２０、２１、２６を、測定及び記述するために画定することができる。装置の各部分において、Ｘ、Ｙ、及びＺ軸のローカル基準フレームを画定することができる。Ｚ軸は広義には、システム内の所与のポイントで光軸の方向と一致し、一般には、パターニングデバイス（レチクル）ＭＡの平面に垂直であり、基板Ｗの平面に垂直である。ソースコレクタモジュールにおいて、Ｘ軸は広義には、燃料ストリーム（２２８、下記で説明）の方向と一致し、Ｙ軸はそれに対して直角であって、図２に示されるようにページの外を示している。他方で、レチクルＭＡを保持している支持構造ＭＴの近くで、Ｘ軸は一般に、Ｙ軸と位置合わせされたスキャン方向を横断する。便宜上、図２の概略図のこのエリアでは、再度マークされるように、Ｘ軸はページの外を示す。これらの指示は当分野では従来通りであり、便宜上本明細書で採用される。原則として、装置及びその挙動を説明するために、任意の基準フレームを選択することができる。

[0047] 照明システムをもう少し詳細に参照すると、ファセットフィールドミラーデバイス２２は、ＥＵＶ放射ビーム２０がいくつかのサブビームに分割されるような個々のファセットのアレイを備え、図内ではサブビームの１つが２６０と標示されている。各サブビームは、ファセット瞳ミラーデバイス２４上の個々のファセットに向かって誘導される。瞳ミラーデバイス２４のファセットは、それら個々のサブビームを、パターニングデバイスＭＡのスリット型エリアであるターゲット上に誘導するように配置される。サブビーム２６０への分割及び単一のビーム２１への組み合わせは、ソースコレクタモジュールから到達する照明がその角度分布において非常に不均一であるとき、スリットエリアにわたって非常に均一な照明を生み出すように設計される。同じく周知のように、デバイス２２及び／又は２４のファセットは、異なる照明モードを実装するために、ステアリング可能及び／又はマスク可能であり得る。

調節されたＥＵＶ放射ビーム２１は、調節及びマスキングモジュール２６２を介してパターニングデバイスＭＡに搬送される。このモジュールは、Ｘ及びＹ方向に照明スリットの範囲を画定する可動ブレードを有し得る、レチクルマスク（ＲＥＭＡ）とも呼ばれるマスキングユニットを含む。典型的には、ＥＵＶ型のリソグラフィ装置内に印加される照明スリットは湾曲可能である。

ＲＥＭＡの前は、照度均一性補正モジュール（ＵＮＩＣＯＭ）でもあり得る。

[0048] 基板Ｗ上のターゲット部分Ｃを露光するために、放射のパルスが基板テーブルＷＴ上に生成され、マスクテーブルＭＴは、照明のスリットを介してパターニングデバイスＭＡ上のパターンをスキャンするために、同期化運動２６６、２６８を実行する。

[0049] ＲＥＭＡ及びＵＮＩＣＯＭ機能を含む照明システムの例は、米国特許出願公開第２００５／０２７４８９７Ａ１号及び第２０１１／００６３５９８Ａ号に記載されている。

[0050] 多くの手段がソースコントローラ２４２において適用される。こうした手段は、仮想光源点ＩＦが、ソースコレクタモジュールＳＯからの出口で開口２２１と位置合わせされていることを保証するために、監視することを含む。ＬＰＰ源に基づくシステムにおいて、アライメントの制御は一般に、コレクタ光学系ＣＯを移動させることではなく、プラズマ２１０のロケーションを制御することによって達成される。コレクタ光学系、出口開口２２１、及びイルミネータＩＬは、セットアッププロセス中に正確に位置合わせされ、開口２２１はコレクタ光学系の第２の焦点に位置するようになる。しかしながら、ＥＵＶ放射によってソース光学系の出口に形成される仮想光源点ＩＦの正確なロケーションは、コレクタ光学系の第１の焦点に対して、プラズマ２１０の正確なロケーションに依存する。このロケーションを、十分なアライメントを十分維持するように正確に固定するためには、一般にアクティブな監視及び制御を必要とする。

[0051] このために、この例におけるソース制御モジュール（コントローラ）２４２は、燃料の噴射、及び、例えばレーザからのパルスにエネルギーを与えるタイミングも制御することによって、プラズマ２１０（ＥＵＶ放射源）のロケーションを制御する。典型的な例では、レーザ放射２２４のエネルギーを与えるパルスは、５０ｋＨｚのレート（２０μｓ周期）で搬送され、バーストでは、例えば２０ｍｓから２０秒のいずれかで持続する。各メインレーザパルスの持続時間はおよそ１μｓであってよく、結果として生じるＥＵＶ放射パルスは、およそ２μｓ持続することができる。適切な制御によって、ＥＵＶ放射ビームがコレクタＣＯによって開口２２１上に精密に合焦されることが維持される。これが達成されない場合、ビームのすべて又は一部は閉鎖構造の周囲の材料に衝突することになる。

[0052] ソース制御モジュール２４２には、プラズマのロケーションに関する情報についての第１のフィードバック経路を提供する、１つ以上のセンサのアレイ（図示せず）からの監視データが供給される。センサは、例えば前述の米国特許出願公開第２００５／０２７４８９７Ａ１号に記載されたような、様々なタイプであってよい。センサは、放射ビーム経路に沿った複数の位置に位置し得る。それらは例えば、純粋に例示の目的で、フィールドミラーデバイス２２の周囲及び／又は後ろに位置し得る。今説明したセンサ信号は、イルミネータＩＬ及び投影システムＰＳの光学システムの制御に使用可能である。センサ信号は、フィードバック経路を介して、ソースコレクタモジュールＳＯの制御モジュール２４２を支援し、ＥＵＶプラズマ源２１０の強度及び位置を調整するためにも使用可能である。センサ信号は、例えば仮想光源ＩＦの観察されたロケーションを決定するために、処理可能であり、これはＥＵＶ源のロケーションを間接的に決定するために推定される。センサ信号によって示されるように仮想光源ロケーションがドリフトする場合、開口２２１内のビームを再度中心に置くために、制御モジュール２４２によって補正が適用される。

[0053] イルミネータセンサからの信号に完全に依拠するのではなく、一般に、放射源のより迅速、直接的、及び／又は自己完結型の制御を提供するために、ソースコレクタモジュールＳＯ自体に追加のセンサ及びフィードバック経路を提供することができる。こうしたセンサは、例えばプラズマのロケーションを監視する、１つ以上のカメラを含むことができる。このようにして、ロケーションビーム２０は開口２２１内に維持され、機器への損傷が回避され、放射の効率的な使用が維持される。

[0054] ＥＵＶ放射ビームの基板Ｗ上への正確な位置決めを達成するために、本明細書で説明する本発明に従って、投影システムＰＳを具体化することができる。

[0055] 本発明は、リソグラフィ装置のための投影システム３００に関する。こうした投影システム３００の実施形態が、図３に概略的に示される。投影システム３００は、ビーム３１１を経路に沿って誘導するように構成された複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４、及び制御システム３０５を備える。制御システム３０５は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第１の光学要素３０１の変形を示す入力信号３５１を受信するように構成される。制御システム３０５は、入力信号３５１に基づいて、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第２の光学要素３０２の位置を制御するための出力信号３５２を生成するように、更に構成される。

一実施形態において、制御システム３０５はしたがって、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの１つの光学要素の変形を示す入力信号３５１を受信するように構成可能であり、また、入力信号３５１に基づいて、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第２の光学要素３０２の位置を制御するための出力信号３５２を生成するように構成可能である。こうした実施形態において、制御システム３０５は、任意選択として、１つの光学要素の位置を制御するための出力信号を生成するようにも構成可能である。こうした実施形態において、１つの光学要素の変形は、ビーム３１１がオブジェクト３０８上に位置決めされる際の正確さに誤差を生じさせる可能性がある。少なくとも第２の光学要素３０２の位置を制御することによって、ビーム３１１の経路を適合させることが可能であり、誤差を少なくとも部分的に軽減することができる。一実施形態において、制御システム３０５は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の２つ以上の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成可能であり、また、入力信号に基づいて、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも１つの他の光学要素の位置を制御するための出力信号を生成するように構成可能である。こうした実施形態において、制御システム３０５は、任意選択として、２つ以上の光学要素の位置を制御するための出力信号を生成するようにも構成可能である。

２つ以上の光学要素の変形は、ビーム３１１がオブジェクト３０８上に位置決めされる際の正確さに誤差を生じさせる可能性がある。少なくとも１つの他の光学要素３０２の位置を制御することによって、ビーム３１１の経路を適合させることが可能であり、誤差を少なくとも部分的に軽減することができる。

[0056] 図示された例において、例えばレチクル又はマスクであり得るパターニングデバイス３１３によって、例えばＥＵＶ放射を含み得るビーム３１１に、パターンが付与される。次いで、ビーム３１１は、任意選択として、真空又は近真空環境が提供されたハウジング３０７に入る。ビーム３１１は、第４の光学要素３０４から第３の光学要素３０３へと誘導され、続いて、第２の光学要素３０２及び第１の光学要素３０１へと誘導される。光学要素３０１、３０２、３０３、３０４は、例えばミラー及び／又はレンズであり得る。最終的に、ビーム３１１は第１の光学要素３０１から、例えば基板又はウェーハであり得るオブジェクト３０８上へと誘導される。図示された例において、投影システム３００は４つの光学要素３０１、３０２、３０３、３０４を備えるが、実際には、任意数の、例えば２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０の適切な光学要素が提供可能である。一実施形態において、投影システムの光学要素のうちの１つ以上は、複数の離散的光学要素からなるか、又はそれらを備えることができる。一例として、本発明に従って投影システム内に印加される光学要素は、複数のより小さなミラーからなるミラーとすることができる。こうしたミラーは、例えばファセットミラーと呼ぶことができる。同様に、本発明に従って投影システム内に印加される光学要素は、複数のレンズからなるか又はそれらを備えることができる。光学要素３０１、３０２、３０３、３０４は図３では概略的に示されており、実際には、ビーム３１１を適切な方向に誘導するために回転させるか、及び／又は湾曲表面を備えることができることに留意されたい。

[0057] 正確なリソグラフィプロセス、例えば、オブジェクト３０８上の特定のロケーションへのパターンの正確な投影を達成するために、ビーム３１１の正確な位置決めが必要である。オブジェクト３０８上のビーム３１１の位置決めは、とりわけ、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の形状及び位置によって影響を受ける。特に発明者らは、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の変形が、投影パターンにかなりの影響を与える可能性があることを発見した。例えば露光中、リソグラフィプロセスにおいて、ＸＹ面内でビーム３１１を逸脱させる不正確さは、結果としてオーバーレイ誤差を生じさせる可能性がある。ビーム３１１が進行する距離も変形によって影響を受ける可能性があり、結果としてＺ方向における逸脱を生じさせる。これは例えば、結果としてビーム３１１がオブジェクト３０８に達したときに、ビーム３１１の焦点外れを生じさせる可能性がある。

[0058] 光学要素３０１の形状における変化は、収差も生じさせる可能性がある。例えば、投影システム３００の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の変形に起因してより優勢になる収差のタイプは、例えばディストーション、非点収差、及びコマである。こうした収差はいわゆるより高次の結像誤差を生じさせる可能性がある。より高次の明示的意味は、ゼルニケ多項式を使用する数学的方法でビーム３１１を記述することから導出される。オーバーレイ及び合焦は、１次ゼルニケ多項式を使用して記述され、例えば、ディストーション、非点収差、及びコマは、より高次の多項式を使用して記述される。

[0059] 前述の誤差は、例えば半導体業界における需要が増え続けると共に、最新のリソグラフィ装置にとって重要となる可能性がある。

[0060] 光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の変形は、例えば光学要素３０１、３０２、３０３、３０４に及ぼされる力から生じる可能性がある。この力は、例えば、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４から、及び／又は、例えば振動を生じさせる外部ソースから起こる可能性がある。温度及び圧力などの環境ファクタも、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の変形を生じさせる可能性がある。例えば、圧力の変動は、結果として、変形を生じさせ得る光学要素３０１、３０２、３０３、３０４に及ぼされる力の変動を生じさせる可能性がある。投影システムの光学要素の変形の影響を少なくとも軽減させることが望ましい。

[0061] 本発明は、入力信号３５１を制御システム３０５に提供することによって、解決策を与える。入力信号３５１は、第１の光学要素３０１の変形を示す。このコンテキストが示す意味において、入力信号３５１は、第１の光学要素３０１の変形が少なくとも部分的に決定可能な情報を含む。例えば入力信号３５１は、変形に寄与する１つ以上のファクタに関する情報を含むことができる。例えば入力信号３５１は、第１の光学要素３０１に及ぼされる力に関する情報を含むことができる。例えば入力信号３５１は、第１の光学要素３０１がさらされる振動に関する情報を含むことができる。例えば入力信号３５１は、温度及び／又は圧力などの環境ファクタに関する情報を含むことができる。

[0062] 受信した入力信号３５１に基づいて、第２の光学要素３０２の位置を制御するために、制御システム３０５によって出力信号３５２が生成される。したがって、第２の光学要素３０２の位置は、第１の光学要素３０１の変形を考慮して制御される。したがってオブジェクト３０８上のビーム３１１の位置決めの正確さを向上させることができる。例えば、第１の光学要素３０１の変形は、ビーム３１１がオブジェクト３０８上に位置決めされる際の正確さにおける誤差を生じさせる可能性がある。第２の光学要素３０２の位置を制御することによって、ビーム３１１の経路を適合させることが可能であり、誤差を少なくとも部分的に軽減することができる。

[0063] 図３は、任意選択の実施形態において、制御システム３０５が、入力信号に基づいて、第１の光学要素３０１ではなく、複数の光学要素３０２、３０３、３０４のうちの複数の位置を制御するために、１つ以上の出力信号３５２を生成するように構成されることを示している。図示された例において、これは、ドライブシステム３０６によって受信される単一の出力信号３５２に含まれる。ドライブシステム３０６は、下記で更に詳しく述べる。しかしながら、例えば、それぞれの複数のドライブシステム３０６によって受信される、複数の出力信号３５２を生成することも可能である。例えば、第２の光学要素３０２及び第３の光学要素３０３は、出力信号３５２に基づいて制御可能である。したがって、オブジェクト３０８上のビーム３１１の位置決めの正確さを、更に向上させることができる。

[0064] 本実施形態において、複数の光学要素３０２、３０３の各々の位置を調整することが可能である。これが、第１の光学要素３０１の変形を軽減するための更なるオプションを与える。したがって、複数の光学要素３０２、３０３の各々の位置は、相対的に小さな距離で調整することが可能であり得る。特に、この距離は、入力信号３５１に基づいて第２の光学要素の位置のみを制御する実施形態において、第２の光学要素３０２の位置を調整しなければならない距離よりも小さい可能性がある。したがって、光学要素３０２、３０３に及ぼされる力も小さくなり、したがって、光学要素３０２、３０３の変形も小さくなる可能性がある。光学要素３０２、３０３の変形３０２、３０３によって生じるビーム３１１の位置決めにおいて起こり得る不正確さも小さくなる可能性がある。

[0065] 複数の光学要素３０２、３０３の位置が制御されるこの実施形態は、第１の光学要素３０１の変形の結果として生じ得るより高次の結像誤差を軽減させるためにも有利であり得る。ビーム３１１の方向を調整することに加えて、複数の光学要素３０２、３０３の位置を制御することによって、ビーム３１１の収差を調整することもできる。したがって、オブジェクト３０８上に投影されるビーム３１１の品質、及び例えばビーム３１１に付与されるパターンを、向上させることができる。

[0066] 図３に示される任意選択の実施形態において、制御システム３０５は、入力信号に基づいて、第１の光学要素３０１以外の複数の光学要素３０２、３０３、３０４の各々の位置を制御するために、１つ以上の出力信号３５２を生成するように構成される。したがって、オブジェクト３０８上のビーム３１１の位置決めの正確さは、更に向上させることが可能であり、またより高次の結像誤差を更に軽減させることが可能である。

[0067] 図示された例において、投影システム３００は、第１の光学要素３０１の位置を制御するように構成された任意選択のドライブシステム３０６を備える。図示された例において、入力信号３５１は、例えば第１の光学要素３０１に及ぼされ、ドライブシステム３０６によって制御される力を、表すことが可能である。この力は変形の少なくとも一部を生じさせることができるため、この力は第１の光学要素３０１の変形を示すことができる。したがって、及ぼされる力を表す入力信号３５１は、変形を表すものとみなすことができ、また、変形を少なくとも部分的に軽減させるために入力として使用することができる。図示された例において、ドライブシステム３０６は、出力端子３０５．２及び入力端子３０６．１を介して、制御システム３０５から出力信号３５２を受信する。

[0068] 任意選択として、ドライブシステム３０６は、第１の光学要素３０１の位置と所望の位置との間の差を少なくとも部分的に補償するために、第１の光学要素３０１に及ぼされるべき力を制御するように構成される。例えば、第１の光学要素３０１の位置を測定することが可能であり、この測定を第１の光学要素３０１の所望の位置と比較できるように、フィードバックループを提供することができる。第１の光学要素３０１の位置と所望の位置との間の差は、例えば振動によって発生する可能性がある。こうした振動は、例えば外部ファクタによって発生すること、並びに、フロア及び／又はベースフレームを介して伝達又は励振することができる。一実施形態において、投影システム３００は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル（及び／又は２つ又はそれ以上のマスクテーブル）を有する、「マルチステージ」リソグラフィ装置において使用可能である。追加のテーブル又はステージは、並列に使用可能であるか、又はその上で、１つ以上の他のテーブル又はステージが露光に使用されている間に、予備ステップが実施される。これらの追加のテーブル又はステージ、及び／又はそこで実施される予備ステップは、第１の光学要素３０１の位置に影響を与える振動を発生させる可能性がある。

[0069] これらの実施形態において、第１の光学要素３０１に及ぼされる力は、したがって実際の状況を表すフィードバック情報に基づく。実際の状況は、高周波数で変化し得る。力は先験的に既知ではなく、フィードバック力と呼ばれることもある。フィードバック力を考慮することによって、第１の光学要素３０１の実際の変形が考慮され、オブジェクト３０８上のビーム３１１の位置決めの正確さを向上させることができる。

[0070] 図示された例において、ドライブシステム３０６は、第１の光学要素３０１の位置を制御するために第１のアクチュエータ３２１を制御する。本発明の意義の範囲内で、アクチュエータは、単一アクチュエータ、又は複数アクチュエータの配置又はセットと呼ぶことができる。こうしたアクチュエータの配置又はセットは、例えば、複数の自由度で光学要素の位置を制御するように構成可能である。一例として、こうしたアクチュエータのセットは、例えば６自由度（ＤＯＦ）、すなわちＸ、Ｙ、Ｚでの並進及び回転Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚで、光学要素の位置を制御するように構成可能である。第１のアクチュエータ３２１は、出力端子３０６．３から制御信号３５４を受信する。第１のアクチュエータ３２１によって第１の光学要素３０１上に及ぼされる力は、出力端子３０６．２及び入力端子３０５．１を介して、入力信号３５１として、ドライブシステム３０６から制御システム３０５に伝達される。

[0071] 図示された例において、ドライブシステム３０６は、第２の光学要素３０２の位置を制御するために、第２のアクチュエータ３２２も制御する。第２のアクチュエータ３２２は、出力端子３０６．６を介して制御信号３５７を受信する。図示された例において、ドライブシステム３０６は、第３の光学要素３０３の位置を制御するために、第３のアクチュエータ３２３も制御する。第３のアクチュエータ３２３は、出力端子３０６．４を介して制御信号３５５を受信する。図示された例において、ドライブシステム３０６は、第４の光学要素３０４の位置を制御するために、第４のアクチュエータ３２４も制御する。第４のアクチュエータは、出力端子３０６．５を介して制御信号３５６を受信する。しかしながら、第１の光学要素３０１以外の光学要素３０２、３０３、３０４の位置を制御するために、別のドライブシステムが提供されることも可能である。光学要素３０２、３０３、３０４のうちの１つ以上の位置を制御しないことも可能である。

[0072] 光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々について、コントローラ帯域幅を任意選択で定義することができる。光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のコントローラ帯域幅は、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４が制御されるように構成される周波数レンジを表す。コントローラ帯域幅は、例えば、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の駆動が共振周波数に近過ぎるのを避けるように、制限することができる。コントローラ帯域幅は、例えばエレクトロニクス及び／又はソフトウェアのレベルで、例えばドライブシステム３０６内に実装可能である。光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの２つ以上のコントローラ帯域幅は、互いに異なってよい。

[0073] 出力信号３５２は、第２の光学要素３０２の制御可能な位置に基づく情報を含む。例えば図示された例において、情報は、第２の光学要素３０２の所望の位置を表すことができる。例えば図示された例において、情報は、第２の光学要素３０２の位置の所望の補正を表すことができる。したがって図示された例において、制御システム３０５によって、所望の位置又は所望の補正が決定され、出力信号３５２の一部としてドライブシステム３０６に伝送される。出力信号３５２は、更なる情報、例えば他の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの１つ以上の位置の所望の位置又は所望の補正を含むことができる。ドライブシステム３０６は、含まれる情報を、出力信号３５２によって、アクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４のための制御信号３５４、３５５、３５６、３５７に変換するための計算機能を含むことができる。

[0074] しかしながら、本発明の範囲内で多くの他の実装が可能である。例えば、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの１つ以上に対して、別々のドライブシステムが提供可能であり、例えば制御システム３０５は、それらのドライブシステムの各々についての入力信号である別々の出力信号を生成する。例えば、制御システム３０５及びドライブシステム３０６は単一コンポーネントに組み合わせ可能であり、任意選択として、出力信号３５２及び入力信号３５１はこのコンポーネント内の内部信号を表す。例えば、出力信号３５２は、第２の光学要素３０２に及ぼされるべき所望の力を含む情報を含むことができる。例えば出力信号３５２は、アクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４のうちの１つ以上を制御するための制御信号を含むこと、及び／又は制御信号とすることができる。例えば制御システム３０５は、任意選択として中間ステップにおいて、第１の光学要素３０１の変形を決定することができる。

[0075] 図３に示される実施形態において、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４は、ビーム３１１をオブジェクト３０８上に位置決めするように構成される。オブジェクト３０８はオブジェクトサポート３０９上に配置される。制御システム３０５は、任意選択として、入力信号３５１に基づいて、オブジェクトサポート３０９の位置を制御するために、出力信号３５３を生成するように更に構成される。この実施形態において、オブジェクトサポート３０９の位置、並びに、光学要素３０２、３０３、３０４のうちの１つ以上の位置を制御することができる。したがって、ビーム３１１がオブジェクト３０８上に位置決めされる際の正確さを向上させることが可能であり、特に、オーバーレイ及び合焦にとっては有益であり得る。本実施形態は、オブジェクトサポート３０９がすでに、リソグラフィプロセス中の露光中に高速で移動するように構成可能であるため、特に有利であり得る。オブジェクトサポート３０９の位置は、例えばオブジェクトサポートドライブシステム３１０によって制御可能である。オブジェクトサポートドライブシステム３１０は、任意選択として、任意選択のオブジェクトサポートアクチュエータ３２９を、及びしたがってオブジェクトサポート３０９を制御する。オブジェクトサポート３０９は、特定のコントローラ帯域幅を伴うオブジェクトサポートドライブシステム３１０によって制御可能である。適用されるコントローラ帯域幅は、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４についてのコントローラ帯域幅と同様に定義され得る。オブジェクトサポート３０９のコントローラ帯域幅は、オブジェクトサポート３０９が制御されるように構成される、周波数レンジを表すことができる。コントローラ帯域幅は、例えば、オブジェクトサポート３０９の駆動が共振周波数に近過ぎるのを避けるように、制限することができる。コントローラ帯域幅は、例えばエレクトロニクス及び／又はソフトウェアのレベルで、例えばオブジェクトサポートドライブシステム３１０内に実装可能である。オブジェクトサポート３０９は、例えば光学要素３０１、３０２、３０３、３０４に比べて、相対的に高いコントローラ帯域幅で制御可能である。これは、光学要素よりも高い共振周波数を有するオブジェクトサポートによって発生可能である。これによって、第１の光学要素３０１の変形をより正確及び高速に軽減することができる。

[0076] しかしながら、ビーム３１１がオブジェクト３０８上に位置決めされる際の正確さは、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の位置を制御することなく、オブジェクトサポート３０９の位置を制御することによって高めることができることも予想される。これは、オブジェクトサポート３０９の位置が相対的に高いコントローラ帯域幅で制御可能であり得るため、有利であり得る。したがって本発明は、ビーム３１１を経路に沿って誘導するように構成された複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４を備える、リソグラフィ装置のための投影システム３００にも関する。複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４は、ビーム３１１をオブジェクト３０８上に位置決めするように構成され、オブジェクト３０８はオブジェクトサポート３０９上に配置される。投影システム３００は更に制御システム３０５を備え、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の少なくとも第１の光学要素３０１の変形を示す入力信号３５１を受信するように構成される。制御システム３０５は更に、入力信号３５１に基づいて、オブジェクトサポート３０９の位置を制御するために出力信号３５３を生成するように構成される。

[0077] 図示された例において、投影システム３００は、任意選択のオブジェクトサポートドライブシステム３１０を備える。オブジェクトサポートドライブシステム３１０は、オブジェクトサポート３０９の位置を制御するように構成され、制御システム３０５の出力端子３０５．３及びオブジェクトサポートドライブシステム３１０の入力端子３１０．１を介して、出力信号３５３を受信する。図示された例において、オブジェクトサポートドライブシステム３１０は、出力端子３１０．２に接続された任意選択のオブジェクトサポートアクチュエータ３２９を制御する。いくつかの実施形態において、オブジェクトサポートドライブシステム３１０及びドライブシステム３０６は、単一のドライブシステムとして組み込まれることが可能である。オブジェクトサポートアクチュエータ３２９は、オブジェクトサポート３０９のＸ、Ｙ、及び／又はＺ方向の位置を制御すること、及び、オブジェクトサポート３０９のＲｘ、Ｒｙ、及び／又はＲｚ方向の回転を制御することが可能であり得る。

[0078] 図示された例において、ビーム３１１は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４がビーム３１１を受信する前に、パターニングデバイス３１３によって付与されたパターンを有するように構成される。パターニングデバイス３１３は、支持構造３１２によってサポートされる。一実施形態において、制御システム３０５は更に、入力信号３５１に基づいて、支持構造３１２の位置を制御するために、出力信号３５９を生成するように構成される。したがって、パターンをオブジェクト３０８上に投影する正確さを向上させることが可能であり、特に、オーバーレイ及び合焦のために有利である。例えば、支持構造３１２の位置は、支持構造ドライブシステム３１４によって制御可能である。支持構造ドライブシステム３１４は、出力端子３０５．５及び入力端子３１４．１を介して出力信号３５９を受信する。支持構造ドライブシステム３１４は、支持構造３１２の位置を制御するための支持構造アクチュエータ３３０を制御するために、出力端子３１４．２を備える。コントローラ帯域幅は、上記の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４及びオブジェクトサポート３０９と同様に、支持構造３１２について定義可能である。

[0079] しかしながら、ビーム３１１及びパターンのオブジェクト３０８上への投影の正確さは、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４及び／又はオブジェクトサポート３０９の位置を制御することなく、支持構造３１２の位置を制御することによって高めることができることも予想される。したがって本発明は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４を備えるリソグラフィ装置のための投影システム３００にも関する。複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４は、経路に沿ってビーム３１１を誘導するように構成される。ビーム３１１は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４がビーム３１１を受信する前に、パターニングデバイス３１３によって付与されたパターンを有するように構成される。パターニングデバイス３１３は支持構造３１２によって支持される。投影システム３００は更に制御システム３０５を備え、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の少なくとも第１の光学要素３０１の変形を示す入力信号３５１を受信するように構成される。制御システム３０５は更に、入力信号３５１に基づいて、支持構造３１２の位置を制御するための出力信号３５９を生成するように構成される。

[0080] いくつかの実施形態において、オブジェクトサポートドライブシステム３１０及び／又はドライブシステム３０６及び／又は支持構造ドライブシステム３１４は、単一のドライブシステムとして組み込むことが可能である。

[0081] 図示された例において、制御システム３０５は、オブジェクトサポート３０９及び／又は支持構造３１２の位置の所望の位置又は所望の補正を決定する。出力信号３５３及び出力信号３５９はそれぞれ、所望の位置又は所望の補正に関する情報を含む。この情報に基づき、オブジェクトサポートドライブシステム３１０及び支持構造ドライブシステム３１４はそれぞれ、オブジェクトサポートアクチュエータ３２９及び支持構造アクチュエータ３３０をそれぞれ制御するための制御信号を生成する。しかしながら、ドライブシステム３０６に関して上記で説明したのと同様に、他の配置が可能である。例えば、出力信号３５３及び／又は出力信号３５９は、オブジェクトサポート３０９及び支持構造３１２それぞれに及ぼされるべき所望の力に関する情報を含むことができる。例えば、出力信号３５３及び／又は出力信号３５９は、オブジェクトサポートアクチュエータ３２９及び支持構造アクチュエータ３３０それぞれについての制御信号を含むこと及び／又は制御信号であることが可能である。

[0082] アクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４、３２９、３３０は、一実施形態において、ピエゾ、機械、電気、電磁、及び／又は磁気のアクチュエータとすることができる。

[0083] 図示された例において、第１の光学要素３０１は、ビーム３１１の経路内の複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの最後に配置される光学要素である。これは例えば、第１の光学要素３０１のコントローラ帯域幅が相対的に小さいときに有利であり得る。これは例えば、これが相対的に大きい光学要素３０１及び／又は重い光学要素３０１であるとき、及び／又は、光学要素３０１が相対的に低い共振周波数を有するときに、当てはまる可能性がある。これは例えば、ビーム３１１の経路の最後に配置される光学要素は、相対的に大きい角度範囲にわたってビーム３１１を誘導できるべきであるため、当てはまる可能性がある。第２の光学要素３０２、第３の光学要素３０３、及び／又は、第４の光学要素３０４、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２のコントローラ帯域幅は、例えばより高くてもよい。この場合、第１のアクチュエータ３２１は、第１の光学要素３０１の変形を軽減するのに十分高速に反応できない可能性がある。有利には、この変形は、他の光学要素３０２、３０３、３０４、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２のうちの１つ以上の位置を制御することによって、軽減することができる。もちろん他の実施形態において、第１の光学要素は、ビーム３１１の経路内の複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの最後以外の光学要素とすることができる。

[0084] 一実施形態において、投影システムは、第１の光学要素３０１の変形を、およそ３０、４０、又は５０Ｈｚまで、少なくとも部分的に軽減するように構成される。この周波数レンジにおいて、アクチュエータ３２１によって及ぼされる力、及び／又は外部擾乱力は、本発明を使用して軽減可能な変形の最も重要な原因であり得る。

[0085] 任意選択の実施形態において、制御システム３０５は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの複数又は各々の変形を示す、１つ以上の入力信号３５１を受信するように構成される。制御システム３０５は、入力信号３５１に基づいて、１つ以上の出力信号３５２、３５３、３５９を決定するように構成される。複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の変形を考慮することによって、ビーム３１１がオブジェクト３０８上に投影される際の正確さを更にまた高めることができる。図示された例において、ドライブシステム３０６は、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々の位置を制御する。したがって入力信号３５１は、アクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４の各々に関する情報、及び、各アクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４がそれぞれの光学要素３０１、３０２、３０３、３０４に及ぼす力に関する情報を、含むことができる。

[0086] 更なる実施形態において、制御システム３０５は、１つ以上の入力信号３５１に基づいて、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々の位置を制御するために、１つ以上の出力信号３５２を生成するように構成可能である。この実施形態において、それらの光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々の変形も考慮に入れながら、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々の位置を制御することによって、正確さが更にまた高められる。図示された例において、ドライブシステム３０６は、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々の位置を制御する。したがって出力信号３５２は、アクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４を伴う光学要素３０１、３０２、３０３、３０４の各々の位置を制御するために使用可能である。しかしながら、制御システム３０５は、光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの１つ以上の位置を別々に制御するために、１つ以上の追加の出力信号を生成することも可能である。

[0087] 図３は、図示された実施形態において、投影システム３００が任意選択の測定システム３７１を備えることを概略的に示す。測定システム３７１は、少なくとも第１の光学要素３０１の位置を決定するように構成される。測定システム３７１によって取得された測定値は、例えば制御システム３０５及び／又はドライブシステム３０６によって使用可能である。測定値は、例えば測定信号３５８として伝送可能である。測定信号３５８は、例えば出力端子３７１．１及び入力端子３０５．４を介して、例えば測定信号３５８ａとして制御システム３０５に伝送され得る。測定信号３５８は、例えば出力端子３７１．１及び入力端子３０６．７を介して、例えば測定信号３５８ｂとしてドライブシステム３０６に伝送され得る。測定システム３７１によって取得された測定値は、例えば第１の光学要素３０１の位置と所望の位置との間の差を決定するために使用可能である。測定システム３７１を用いて位置を決定するために、第１の光学要素３０１のいずれのロケーションが使用されるかに依存して、測定値は第１の光学要素３０１の変形によって影響を受ける可能性がある。例えば、第１の光学要素３０１のいくつかのロケーションは、変形によって大きく影響を受ける可能性があるが、他のロケーションはそれほどでもないかまったく影響を受けない可能性がある。影響を受けるロケーションは、第１の光学要素３０１が変形しない状況に比べて、異なる位置にある可能性がある。測定システム３７１がこうしたロケーションの位置を測定した場合、変形が考慮されなければ測定値は不正確な可能性がある。制御システム３０５は、第１の光学要素３０１の変形を示す入力信号３５１及び測定信号３５８の両方に基づいて、出力信号３５２、３５３、３５９のうちの１つ以上を生成するように構成可能である。

[0088] 測定システム３７１は、例えば１つ以上の干渉計システム、関連するエンコーダ、及び／又は静電容量センサを備えることができる。

[0089] 任意選択として、測定システム３７１は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの複数又は各々の位置を決定するように構成される。任意選択として、投影システムは、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの複数又は各々の位置を決定するように構成された、複数の測定システムを備える。測定システムは、任意選択として、同じフレーム上又は別々のフレーム上に配置される。

[0090] 一実施形態において、投影システムは、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４が、例えばアクチュエータ３２１、３２２、３２３、３２４を介して配置される、任意選択の第１のフレーム３６１を備える。投影システム３００は、任意選択の第２のフレーム３６２を更に備え、任意選択の測定システム３７１は、第２のフレーム３６２上に配置される。第１の光学要素３０１の位置は、第２のフレーム３６２に関して測定される。わかりやすくするために、図３では、第１のフレーム３６１、第２のフレーム３６２、及び測定システム３７１は、第１のアクチュエータ３２１及び第１の光学要素３０１に関してのみ示される。

[0091] 任意選択として、第１のフレーム３６１及び第２のフレーム３６２は、例えば振動分離システムを使用して、例えば特定の周波数レンジより上の、相対運動のために機械的に分離することができる。したがって、第１のフレーム３６１及びしたがって第１の光学要素３０１がさらされる振動は、第２のフレーム３６２にそれほど伝達されないか、又は伝達されない。第１の光学要素３０１の位置は第２のフレーム３６２に対して決定されるため、本実施形態において決定される位置の正確さは向上する。

[0092] 任意選択の実施形態において、制御システム３０５は更に、例えば測定システム３７１を用いて第１の光学要素３０１の位置を決定するように構成される。制御システム３０５は更に、第１の光学要素３０１の位置に更に基づいて、少なくとも第２の光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２の位置を制御するために、出力信号３５２、３５３、３５９を生成するように構成される。本実施形態において、第１の光学要素３０１の変形及び位置の両方が考慮され、軽減可能であるため、それによってビーム３１１の位置決めの正確さが更にまた高められる。

[0093] いくつかの実施形態において、第１の光学要素３０１の位置は、他の光学要素３０２、３０３、３０４を位置決めするための基準として採用することができる。すなわち、他の光学要素３０２、３０３、３０４は、概して、第１の光学要素３０１に対して位置決めされる。第１の光学要素３０１の変形に起因して、第１の光学要素３０１の位置に関して測定システム３７１によって取得された測定値は、変形が反映されない場合、不正確であり得る。これが結果として、他の光学要素３０２、３０３、３０４の不正確な位置決め、及びしたがって、ビーム３１１の位置決めの不正確さを生じさせる可能性がある。第１の光学要素３０１の変形を考慮することによって、本発明は、ビーム３１１の位置決めにおける正確さを向上させる。

[0094] 図４は、本発明の一実施形態を概略的に示す。図４の下端に、第１の光学要素３０１の位置を制御するための制御アルゴリズムの一実施形態が示されている。所望の位置ｒ_３０１が、制御ユニット３０５の出力信号３５２ａとして伝送され、制御アルゴリズムのための入力として働く。第１の光学要素３０１が配置される測定位置ｙ_３０１は、例えば測定システム３７１によって決定される。測定位置ｙ_３０１は、測定信号３５８ｂとしてフィードバックされ、所望の位置ｒ_３０１から差し引かれ、結果として差ｅ_３０１が生じる。差ｅ_３０１は、第１の光学要素ドライブブロック３０６ａのための入力として働く。第１の光学要素ドライブブロック３０６ａは、第１のアクチュエータ３２１のための制御信号３５４を決定する。第１のアクチュエータ３２１は、例えばミラー３０１を所望の位置ｒ_３０１の近くに移動させるために、アクチュエータ力Ｆ_ａを及ぼす。いくつかの実施形態において、第１の光学要素３０１に及ぼされる合力Ｆ_ｔｏｔを生じさせる、擾乱力Ｆ_ｄが存在し得る。擾乱力Ｆ_ｄは、例えば振動するフロア又はベースフレームなどの、外部ファクタから生じる可能性がある。擾乱力Ｆ_ｄは、例えば、マルチステージリソグラフィ装置内の別のステージから生じる可能性がある。合力Ｆ_ｔｏｔは、第１の光学要素３０１の位置を決定する。次いで測定システム３７１は、例えば、第１の光学要素３０１の測定位置ｙ_３０１を決定するために使用可能であり、これが測定信号３５８ａ、３５８ｂの一部としてフィードバックされる。

[0095] 図に示される制御アルゴリズムは、振動などの外的影響の結果であり得る、差ｅ_３０１を補償するために、アクチュエータ力Ｆ_ａを使用する。アクチュエータ力Ｆ_ａは実際の状況に基づくものであり、先験的に既知ではない。

[0096] 図４は、所望の位置ｒ_３０１が、オブジェクト上のビームの所望の位置を入力として使用することが可能な、例えば任意選択の計算ブロック３０５ｘによって決定されることを、更に示す。所望の位置ｒ_３０１は、例えばビームのための所望の経路に依存する。任意選択として、測定位置ｙ_３０１を含む測定信号３５８ａは、位置計算ブロック３０５ａ内で入力として使用される。位置計算ブロック３０５ａは、位置ｙ_３０１に基づいて、他の光学要素（例えば、光学要素３０２）、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２のうちの１つ以上の所望の位置ｒ_３０２、ｒ_３０９、ｒ_３１２を決定するように構成される。位置ｙ_３０１は、第１の光学要素３０１の位置における望ましくない逸脱を表すことができる。この逸脱の結果としてビームの位置決めに生じる可能性のある不正確さは、本実施形態において少なくとも部分的に軽減される。この軽減は、他の光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２の位置を適合させることによって、特に達成される。位置計算ブロック３０５ａのための入力として差ｅ_３０１を使用することも可能であることに留意されたい。図４では、簡略化するために、第２の光学要素３０２のみが示されていることに留意されたい。しかしながら、いくつかの実施形態において、複数の光学要素のうちの複数あるいは各々について、差ｅ_３０１に基づいて所望の位置を計算することができる。計算ブロック３０５ｘのような計算ブロックは、例えばビームの所望の経路に基づいて、各光学要素の所望の位置を決定するために光学要素の各々に対して提供することも可能である。任意選択として、次いで位置計算ブロック３０５ａは、第１の光学要素の測定位置ｙ_３０１に基づいて、所望の位置を調節することができる。

[0097] オブジェクト上でのビームの位置決めの不正確さの、別の考えられる原因は、第１の光学要素３０１の変形である。変形はアクチュエータ力Ｆ_ａによって少なくとも部分的に発生する。図４は、本発明の一実施形態において、アクチュエータ力Ｆ_ａを代表する第１の光学要素ドライブブロック３０６ａからの制御信号が、変形補償ブロック３０５ｂに対する入力３５１ａとして使用されることを示す。変形補償ブロック３０５ｂは、入力３５１ａに基づいて、他の光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２のうちの１つ以上の位置の、所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２を決定するように構成される。

[0098] 所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２は、第１の光学要素３０１の変形の結果としてビームの位置決めにおいて生じる可能性のある不正確さを、少なくとも部分的に軽減する。この軽減は、他の光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２の位置を制御することによって、達成される。第１の光学要素３０１の変形は、結果として第１の光学要素３０１の測定位置ｙ_３０１における誤差も生じさせる可能性がある。測定位置ｙ_３０１は位置計算ブロック３０５ａのための入力として使用されるため、次いで位置計算ブロック３０５ａによる所望の位置ｒ_３０２、ｒ_３０９、ｒ_３１２の決定において、誤差が発生する可能性がある。この誤差は、所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２を用いて少なくとも部分的に軽減可能である。

[0099] 次いで所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２は、それぞれの光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２の所望の位置ｒ_３０２、ｒ_３０９、ｒ_３１２に追加される。この結果として、補正された所望の位置ｒ’_３０２、ｒ’_３０９、ｒ’_３１２が生じる。補正された所望の位置ｒ’_３０２は、例えば第２のアクチュエータ３２２を伴う第２の光学要素３０２の位置を制御するために制御アルゴリズムのための入力として使用される、出力信号３５２ｂとして伝送される。特に、入力３５２ｂは、第２のアクチュエータ３２２のための制御信号３５７を決定する、第２の光学要素ドライブブロック３０６ｂによって受信することができる。補正された所望の位置ｒ’_３０９は、例えばオブジェクトサポートアクチュエータ３２９を伴う、オブジェクトサポート３０９の位置を制御するために制御アルゴリズムのための入力として使用される、出力信号３５３を形成する。補正された所望の位置ｒ’_３１２は、例えば支持構造アクチュエータ３３０を伴う、支持構造３１２の位置を制御するために制御アルゴリズムのための入力として使用される、出力信号３５９を形成する。

[00100] 図４は、わかりやすくするために簡略化された他の光学要素３０２の制御アルゴリズムを示す。しかしながらこれらは、一実施形態において、第１の光学要素３０１と同様であり得る。すなわち、擾乱力は、他の光学要素３０２の位置決めに影響を与える可能性があり、及び／又は任意選択として、他の要素３０２の変形も軽減される可能性がある。例えば、他の光学要素３０２に及ぼされる力は、例えば入力３５１ａに加えて、又は入力３５１ａの代替として、変形補償ブロック３０５ｂのための入力として使用可能である。任意選択として、例えば所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２のうちの１つ以上に加えて、又はそれらの代替として、第１の光学要素３０１のための所望の補正も決定可能である。いくつかの実施形態において、所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２は、光学要素３０２のうちの１つ以上についてのみ、又はオブジェクトサポート３０９及び／又は支持構造３１２についてのみ、決定可能であることに、更に留意されたい。

[00101] 変形補償ブロック３０５ｂは、例えば補正マトリクスを利用することができる。補正マトリクスは結果として、アクチュエータ力Ｆ_ａを表す入力３５１ａに基づいて、所望の補正ｒｃ_３０２、ｒｃ_３０９、ｒｃ_３１２を生じさせる。補正マトリクスは一定値を含むことができる。代替又は組み合わせとして、周波数に依存する値を含むことができる。代替又は組み合わせとして、より複雑なアルゴリズムを使用して、他の光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２の補正を決定することができる。補正マトリクスにおける値及び／又はアルゴリズムは、例えば有限要素を適用する、モデルを用いて決定可能であり、また、例えば実際的な実験を用いて、又は使用中に、検証又は微調整可能である。

[00102] 図４において、第１に、測定位置ｙ_３０１に基づいて、所望の位置ｒ_３０２、ｒ_３０９、ｒ_３１２が決定される。しかしながら、測定位置ｙ３０１及びアクチュエータ力３５１ａの両方を、補正された所望の位置ｒ’_３０２、ｒ’_３０９、ｒ’_３１２を直接決定するための入力として使用することも可能である。これは例えば、補正マトリクスを少なくとも暗黙的に含むマトリクスを使用して行うことができる。これは有利には、例えば、必要な非線形計算の数を減少させることができるため、補正された所望の位置ｒ’_３０２、ｒ’_３０９、ｒ’_３１２を決定するために必要な計算及び計算リソースを制限することができる。

[00103] 一実施形態において、第１の光学要素３０１の所望の位置ｒ_３０１は、使用中、例えばリソグラフィプロセス中、例えば基板の露光中、一定であり得る。本実施形態において、ビームの経路は相対的に一定に維持することが可能であり、ビームが位置決めされるオブジェクトの位置を変更するために、オブジェクトサポート３０９を移動させることができる。

[00104] 任意選択として、計算ブロック、及び／又は位置計算ブロック３０５ａ、及び／又は変形補償ブロック３０５ｂは、図３に示される制御システム３０５によって含まれ得ることに留意されたい。図４に示される第１の光学要素ドライブブロック３０６ａ及び第２の光学要素ドライブブロック３０６ｂは、図３に示されるドライブシステム３０６の一部とすることができる。図４に示される入力３５１ａは、図３に示される入力信号３５１によって含まれ得る。図４に示される出力３５２ａ及び出力３５２ｂは、図３に示される出力信号３５２によって含まれ得る。図４に示される測定信号３５８ａ及び３５８ｂは、図３に示される測定信号３５８によって含まれ得る。

[00105] 一実施形態において、変形補償ブロック３０５ｂは、例えば第１の光学要素の所望の位置ｒ_３０１を補正するために使用可能な、第１の光学要素３０１の所望の補正を決定するように構成可能である。変形補償ブロック３０５ｂについて、第１の光学要素３０１の変形、及び／又は、変形に起因して第１の光学要素３０１の位置ｙ_３０１の位置決め及び／又は測定において生まれる誤差を、決定することも可能である。次いでこれを使用して、第１の光学要素３０１の位置を調節すること、及び／又は、所望の位置ｒ_３０１及び／又は測定位置ｙ_３０１を調節することが可能である。本段落で説明する実施形態は、他の光学要素３０２、及び／又はオブジェクトサポート３０９、及び／又は支持構造３１２の、位置を調節することと組み合わせて、又はその代替として、使用可能である。例えば、いくつかの実施形態において、例えば第１の光学要素の変形を軽減するために、入力信号３５１ａに基づいて、第１の光学要素３０１の位置を制御するのみで十分であり得る。

[00106] 本発明は更に、リソグラフィ装置に関する。こうしたリソグラフィ装置の実施形態が、図１及び図２に示される。本発明に従ったリソグラフィ装置は、基板Ｗを保持するように構成された基板サポートＷＴと、ビームを生成するように構成された放射源とを備える。リソグラフィ装置は更に、本発明に従った、例えば本明細書に示された実施形態のうちの１つ以上に従った、投影システムＰＳを備える。本実施形態において、本発明に従った投影システム内でビームが投影されるオブジェクトは、基板Ｗに対応する。本発明に従ったリソグラフィ装置を用いて、パターンをより正確に基板上に投影することができる。

[00107] 更なる実施形態において、リソグラフィ装置は、更なる基板を保持するように構成された更なる基板サポートを備える。リソグラフィ装置は、パターンが基板サポートＷＴ上の基板Ｗ上で露光される間に、更なる基板の後続の露光の準備において、更なる基板上でステップを実施するように構成される。例えば、リソグラフィ装置は、上記で説明したように、「マルチステージ」機械とすることができる。本発明は、本実施形態に従ったリソグラフィ装置で適用されるとき、更なる基板上で実施されるステップが投影システムＰＳ上に振動を発生させる可能性があるため、特に有利であり得る。これらの振動は、第１の光学要素及び他の光学要素の位置に影響を与える可能性があるため、第１の光学要素の位置は、例えば振動を補償するように調節可能である。第１の光学要素の位置を調節するために、例えばアクチュエータを用いて第１の光学要素に力を及ぼすことができ、結果として第１の光学要素の変形が生じる。本発明に従った投影システムにおいて、これらの変形を軽減させ、それによって、パターンが基板上に投影される正確さを高めることが可能である。

[00108] 一実施形態において、本発明に従ったリソグラフィ装置は、パターンをビームに付与するように構成された、パターニングデバイス（例えば、マスク又はレチクル）ＭＡを支持するように構成された、支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴを更に備える。投影システムの制御システムは、入力信号に基づいて、支持構造ＭＴの位置を制御するための出力信号を生成するように構成可能である。本実施形態において、第１の光学要素の変形は、支持構造ＭＴの位置を制御することによって、例えば第１のポジショナＰＭを用いて少なくとも部分的に補償することができる。

[00109] 一実施形態において、図３及び図４に示されるオブジェクトサポートドライブシステム３１０は、図１に示される第２のポジショナＰＷに対応する、ＰＷを備える、又はＰＷの一部であることが可能である。一実施形態において、図３及び図４に示される支持構造ドライブシステム３１４は、図１に示される第１のポジショナＰＭに対応する、ＰＭを備える、又はＰＭの一部であることが可能である。

[00110] 本発明は更に、図３を参照しながら下記で詳述する、投影システム３００を制御するための方法に関する。方法は、本発明に従った投影システム及び／又はリソグラフィ装置を用いて実行可能であるが、本方法はこれらに限定されない。本発明に従った投影システム及び／又はリソグラフィ装置を参照しながら説明する特徴のいずれかを、本発明に従った方法のうちの１つ以上に追加することができる。

[00111] 一実施形態において、本発明は、ビーム３１１を経路に沿って誘導するように構成された複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４を備える、投影システムを制御するための方法に関する。方法は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第１の光学要素３０１の変形を示す、入力信号３５１を決定するステップを含む。方法は、入力信号３５１に基づいて、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第２の光学要素３０２の位置を制御するステップを含む。

[00112] 一実施形態において、本発明は、ビーム３１１を経路に沿ってオブジェクト３０８上に誘導するように構成された、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４を備える、投影システム３００を制御するための方法に関する。方法は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第１の光学要素３０１の変形を示す、入力信号３５１を決定するステップを含む。方法は、入力信号３５１に基づいて、オブジェクト３０８の位置を制御するステップを含む。

[00113] 一実施形態において、本発明は、ビーム３１１を経路に沿ってオブジェクト３０８上に誘導するように構成された、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４を備える投影システム３００を制御するための方法に関し、パターニングデバイス３１３によってビーム３１１にパターンが付与される。方法は、複数の光学要素３０１、３０２、３０３、３０４のうちの少なくとも第１の光学要素３０１の変形を示す入力信号３５１を決定するステップを含む。方法は、入力信号３５１に基づいて、パターニングデバイス３１３の位置を制御するステップを含む。

[00114] 一実施形態において、ビームは一般にＤＵＶとも呼ばれる深紫外線放射を含み、及び／又は、光学要素はレンズである。

[00115] 上記では本発明の特定の実施形態を説明してきたが、本発明は説明した以外の方法で実践可能であることを理解されよう。装置の挙動は、多くの部分が、前述の方法の特定のステップを実装するための機械可読命令の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又は、こうしたコンピュータプログラムを記憶したデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気又は光ディスク）によって、定義され得る。上記の説明は例示的であり、限定的ではないことが意図される。したがって当業者であれば、下記に示される特許請求の範囲から逸脱することなく、説明した本発明に改変を行うことが可能であることが明らかとなろう。

Claims (15)

1. リソグラフィ装置のための投影システムであって、
   ａ．経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素と、
   ｂ．制御システムであって、
   ｉ．前記複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成され、また、
   ｉｉ．前記入力信号に基づいて、前記複数の光学要素のうちの少なくとも第２の光学要素の位置を制御するための出力信号を生成するように構成された、
   制御システムと、
   ｃ．前記第１の光学要素の位置を制御するように構成されたドライブシステムであって、前記入力信号は、前記第１の光学要素に及ぼされるべき、前記ドライブシステムによって制御される力を表す、ドライブシステムと、
   を備え、
   前記複数の光学要素は、オブジェクトサポート上に配置されたオブジェクト上に前記ビームを位置決めするように構成される、投影システム。
2. 前記制御システムは、前記入力信号に基づいて、前記第１の光学要素以外の前記複数の光学要素のうちの複数の位置を制御するために、１つ以上の出力信号を生成するように構成される、請求項１に記載の投影システム。
3. 前記制御システムは、前記入力信号に基づいて、前記第１の光学要素以外の前記複数の光学要素のうちの各々の位置を制御するために、１つ以上の出力信号を生成するように構成される、請求項１又は２に記載の投影システム。
4. 前記制御システムは、前記入力信号に基づいて、前記オブジェクトサポートの位置を制御するために出力信号を生成するように構成される、請求項１から３のいずれかに従った投影システム。
5. リソグラフィ装置のための投影システムであって、
   ａ．経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素であって、前記複数の光学要素は、オブジェクトサポート上に配置されたオブジェクト上に前記ビームを位置決めするように構成される、複数の光学要素と、
   ｂ．制御システムであって、
   ｉ．前記複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成され、また、
   ｉｉ．前記入力信号に基づいて、前記オブジェクトサポートの位置を制御するための出力信号を生成するように構成された、
   制御システムと、
   ｃ．前記第１の光学要素の位置を制御するように構成されたドライブシステムであって、前記入力信号は、前記第１の光学要素に及ぼされるべき、前記ドライブシステムによって制御される力を表す、ドライブシステムと、
   を備える、投影システム。
6. 前記ビームは、前記複数の光学要素が前記ビームを受信する前に、支持構造によって支持されたパターニングデバイスによって付与されたパターンを有するように構成され、前記制御システムは、前記入力信号に基づいて、前記支持構造の位置を制御するための出力信号を生成するように構成される、請求項１から５のいずれかに記載の投影システム。
7. リソグラフィ装置のための投影システムであって、
   ａ．経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素であって、前記ビームは、前記複数の光学要素が前記ビームを受信する前に、支持構造によって支持されたパターニングデバイスによって付与されたパターンを有するように構成される、複数の光学要素と、
   ｂ．制御システムであって、
   ｉ．前記複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す入力信号を受信するように構成され、また、
   ｉｉ．前記入力信号に基づいて、前記支持構造の位置を制御するための出力信号を生成するように構成された、
   制御システムと、
   ｃ．前記第１の光学要素の位置を制御するように構成されたドライブシステムであって、前記入力信号は、前記第１の光学要素に及ぼされるべき、前記ドライブシステムによって制御される力を表す、ドライブシステムと、
   を備える、投影システム。
8. 前記第１の光学要素は、前記ビームの前記経路内の前記複数の光学要素のうちの最後に配置される前記光学要素である、請求項１から７のいずれかに記載の投影システム。
9. 前記ドライブシステムは、前記第１の光学要素の位置と所望の位置との間の差を少なくとも部分的に補償するために、前記第１の光学要素に及ぼされる前記力を制御するように構成される、請求項８に記載の投影システム。
10. ａ．前記複数の光学要素が配置される第１のフレームと、
    ｂ．第２のフレームと、
    ｃ．前記第２のフレーム上に配置され、また少なくとも前記第１の光学要素の位置を決定するように構成される、測定システムと、
    を更に備える、請求項１から９のいずれかに記載の投影システム。
11. 前記制御システムは、前記複数の光学要素の各々の変形を示す１つ以上の入力信号を受信するように構成され、また前記制御システムは、前記入力信号に基づいて、前記出力信号を決定するように構成される、請求項１から１０のいずれかに記載の投影システム。
12. 前記オブジェクトは基板である、請求項４から１１のいずれかに記載の投影システム。
13. リソグラフィ装置であって、
    ａ．基板を保持するように構成された基板サポートと、
    ｂ．ビームを生成するように構成された放射源と、
    ｃ．パターンを前記ビームに付与するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成された、支持構造と、
    ｄ．前記ビームを前記基板上に位置決めするように構成された、請求項１から１２のいずれかに記載の投影システムと、
    を備える、リソグラフィ装置。
14. 更なる基板を保持するように構成された更なる基板サポートを備え、前記リソグラフィ装置は、パターンが前記基板サポート上の前記基板上で露光される間に、前記更なる基板の後続の露光の準備において、前記更なる基板上でステップを実施するように構成される、請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
15. 経路に沿ってビームを誘導するように構成された複数の光学要素を備える投影システムを制御するための方法であって、
    前記方法は、
    ａ．前記複数の光学要素のうちの少なくとも第１の光学要素の変形を示す、入力信号を決定するステップと、
    ｂ．前記入力信号に基づいて、前記複数の光学要素のうちの少なくとも第２の光学要素の位置を制御するステップと、
    を含み、
    ｃ．前記入力信号は、前記第１の光学要素に及ぼされるべき、ドライブシステムによって制御される力を表し、
    前記複数の光学要素は、オブジェクトサポート上に配置されたオブジェクト上に前記ビームを位置決めするように構成される、
    方法。

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