JP6618921B2 - 位置決めシステム、物体振動補償方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2014年4月17日に出願された欧州特許出願第14165170.3号に関する。この出願は参照により本願にも含まれるものとする。
− 放射ビームEB(例えばDUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)EILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク又はレチクル)MAを支持するように構成され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームEBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば反射投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (15)
- 物体を位置決めする位置決めシステムであって、前記物体をN自由度で位置決めし、Nが正の整数であり、
M個のアクチュエータデバイスであって、各アクチュエータデバイスが前記物体に力を加え、MがNよりも大きい正の整数であり、前記アクチュエータデバイスの少なくとも1つが補償アクチュエータデバイスであり、前記アクチュエータデバイスの他の少なくとも1つが非補償アクチュエータデバイスである、アクチュエータデバイスと、
補償アクチュエータデバイス及び非補償アクチュエータデバイスを制御するコントローラであって、前記補償アクチュエータデバイスを制御して前記非補償アクチュエータデバイスの寄生力を補償する、コントローラと、を備え、
前記補償アクチュエータデバイス及び前記非補償アクチュエータデバイスは、前記物体の同一ポイントに力を加える、位置決めシステム。 - 別の補償アクチュエータデバイス及び/又は別の非補償アクチュエータデバイスは、同一ポイントに力を加え、
前記コントローラは、前記別の補償アクチュエータデバイス及び/又は前記別の非補償アクチュエータデバイスを制御する、請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記物体に力を加えるP個のポイントがあり、PがN以下の正の整数である、請求項1又は2に記載の位置決めシステム。
- 同一ポイントにおいてNが2でMが3であり、2つの非補償アクチュエータデバイス及び1つの補償アクチュエータデバイスが存在する、請求項3に記載の位置決めシステム。
- Pが3である、請求項3又は4に記載の位置決めシステム。
- 前記コントローラは、各ポイントに加えられる正味の力が前記ポイントの他のいずれかに加えられる正味の力に直交するように、前記少なくとも1つの補償アクチュエータデバイス及び前記少なくとも1つの非補償アクチュエータデバイスを制御する、請求項1から5のいずれか一項に記載の位置決めシステム。
- 前記M個のアクチュエータデバイスのいずれか1つが、ローレンツアクチュエータ又はリラクタンスアクチュエータのいずれかであるアクチュエータを含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の位置決めシステム。
- 前記補償アクチュエータデバイス及び前記非補償アクチュエータデバイスは、平面モータであるアクチュエータを形成する、請求項1から7のいずれか一項に記載の位置決めシステム。
- 前記アクチュエータは、少なくとも1つのばねを用いて前記物体に接続されている、請求項7又は8に記載の位置決めシステム。
- 前記アクチュエータデバイスは、少なくとも1つのばねを用いて支持フレームに接続されている、請求項8又は9に記載の位置決めシステム。
- 少なくとも1つのアクチュエータデバイスが加える前記力は、直線力又は回転力である、請求項1から10のいずれか一項に記載の位置決めシステム。
- 前記物体は、光学要素である、請求項1から11のいずれか一項に記載の位置決めシステム。
- 請求項1から12のいずれか一項に記載の位置決めシステムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置は、更に前記物体を備える、リソグラフィ装置。
- 請求項1から12のいずれか一項に記載の位置決めシステムを用いて物体の振動を補償するための方法。
- 光学要素を介して基板テーブル上に位置決めされた基板上に投影放射ビームを投影することを含むデバイス製造方法であって、
位置決めシステムが前記光学要素をN自由度で位置決めし、Nが正の整数であり、前記位置決めシステムがM個のアクチュエータデバイスを備え、各アクチュエータデバイスが前記光学要素に力を加え、MがNよりも大きい正の整数であり、前記アクチュエータデバイスの少なくとも1つが補償アクチュエータデバイスであり、前記アクチュエータデバイスの他の少なくとも1つが非補償アクチュエータデバイスであり、コントローラが補償アクチュエータデバイス及び非補償アクチュエータデバイスを制御し、前記コントローラが前記補償アクチュエータデバイスを制御して前記非補償アクチュエータデバイスの寄生力を補償し、前記補償アクチュエータデバイス及び前記非補償アクチュエータデバイスが前記光学要素の同一ポイントに力を加える、デバイス製造方法。
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