JP2011508065A5 - - Google Patents

Description

いくつかの実施形態では、機能化された膜は物理的に非対称であることができる。いくつかの有用な非対称微多孔性膜は、それぞれ参照により本明細書に組み込まれている、米国特許第６，４１３，０７０号、同第６，５１３，６６６号、及び同第６，２６４，０４４号（Ｍｅｙｅｒｉｎｇ ｅｔ ａｌ．）で開示されている。例えば、グラフトされた種が１つの主表面において又は多孔質基材の厚さの少なくとも一部にわたってゲルを形成するように、第１の主表面における多孔率又は有効孔径を、第２の主表面における多孔率又は有効孔径と異ならせることができる。このような実施形態では、グラフトされた種の勾配は、一方の主表面上の細孔を少なくとも部分的に閉塞することと、機能化された膜の第２の主表面まで孔径を増加させることに寄与し得る。

Claims (9)

1. 機能化された膜を作製する方法において、前記方法が
   第１の主表面、間隙の表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材を提供すること、
   前記多孔質基材に少なくとも１つのグラフト可能な種を適用して、被覆された多孔質基材を提供すること、並びに
   前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射により処理して、機能化された膜を提供すること、を含み、前記電子ビーム照射が、グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高い勾配で、前記多孔質基材にグラフト可能な種を結合させる、機能化された膜を作製する方法。
2. 前記少なくとも１つのグラフト可能な種がフリーラジカル重合性基を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記少なくとも１つのグラフト可能な種が前記フリーラジカル重合性基と、エチレン系不飽和基、エポキシ基、アザラクトン基、イオン基、アルキレンオキシド基、及び前出のものの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、追加の官能基と、を含む、請求項２に記載の方法。
4. 前記少なくとも１つのグラフト可能な種が少なくとも２個の官能基を含む、請求項１に記載の方法。
5. 前記少なくとも１つのグラフト可能な種が、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、イソシアナトアルキル（メタ）アクリレート、ビニルアザラクトン、及び前出のものの２つ以上の組み合わせから選択される、請求項１に記載の方法。
6. 前記被覆された多孔質基材に送達される電子ビーム照射の線量が、１０ｋＧｙ以上２００ｋＧｙ以下の範囲内にある、請求項１に記載の方法。
7. 前記電子ビーム照射が、１２０ｋｅＶ以上２５０ｋｅＶ以下の範囲内の電圧で操作される、請求項１に記載の方法。
8. 前記機能化された膜に少なくとも１つの追加のグラフト可能な種を適用し、その後、前記機能化された膜を電子ビーム照射の第２の処理により処理して、前記機能化された膜に前記追加のグラフト可能な種を結合することを更に含み、前記機能化された膜が少なくとも１つの追加のグラフトされた種を有する、請求項１に記載の方法。
9. 第１の主表面、間隙表面、及び第２の主表面を有する非対称多孔質基材と、
   グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高い、前記第１の主表面から前記第２の主表面へと前記非対称多孔質基材を通って延びる勾配で、前記非対称多孔質基材に結合したグラフトされた種と、を含む、機能化された膜。