JP2011215440A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011215440A5
JP2011215440A5 JP2010084739A JP2010084739A JP2011215440A5 JP 2011215440 A5 JP2011215440 A5 JP 2011215440A5 JP 2010084739 A JP2010084739 A JP 2010084739A JP 2010084739 A JP2010084739 A JP 2010084739A JP 2011215440 A5 JP2011215440 A5 JP 2011215440A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
structure according
antireflection structure
refractive index
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010084739A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011215440A (ja
JP5773576B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010084739A priority Critical patent/JP5773576B2/ja
Priority claimed from JP2010084739A external-priority patent/JP5773576B2/ja
Priority to US13/078,231 priority patent/US9291748B2/en
Publication of JP2011215440A publication Critical patent/JP2011215440A/ja
Publication of JP2011215440A5 publication Critical patent/JP2011215440A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5773576B2 publication Critical patent/JP5773576B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2010084739A 2010-04-01 2010-04-01 反射防止構造および光学機器 Expired - Fee Related JP5773576B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010084739A JP5773576B2 (ja) 2010-04-01 2010-04-01 反射防止構造および光学機器
US13/078,231 US9291748B2 (en) 2010-04-01 2011-04-01 Anti-reflection structure with graded refractive index layer and optical apparatus including same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010084739A JP5773576B2 (ja) 2010-04-01 2010-04-01 反射防止構造および光学機器

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011215440A JP2011215440A (ja) 2011-10-27
JP2011215440A5 true JP2011215440A5 (enExample) 2014-03-06
JP5773576B2 JP5773576B2 (ja) 2015-09-02

Family

ID=44709393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010084739A Expired - Fee Related JP5773576B2 (ja) 2010-04-01 2010-04-01 反射防止構造および光学機器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9291748B2 (enExample)
JP (1) JP5773576B2 (enExample)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012242449A (ja) * 2011-05-16 2012-12-10 Sony Chemical & Information Device Corp 位相差素子及びその製造方法
WO2012157706A1 (ja) * 2011-05-17 2012-11-22 キヤノン電子株式会社 光学フィルタ、光学機器、電子機器及び反射防止複合体
JP5840448B2 (ja) * 2011-10-12 2016-01-06 株式会社タムロン 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法
JP2013127602A (ja) * 2011-11-18 2013-06-27 Canon Inc 光学部材、撮像装置、光学部材の製造方法及び撮像装置の製造方法
JP5841656B2 (ja) * 2012-02-20 2016-01-13 シャープ株式会社 表示装置
JP2013231779A (ja) * 2012-04-27 2013-11-14 Kuraray Co Ltd 反射防止構造及び光学部材
JP6063645B2 (ja) * 2012-05-30 2017-01-18 イーエイチエス レンズ フィリピン インク 光学物品
JP2014005193A (ja) * 2012-05-30 2014-01-16 Canon Inc 光学部材、撮像装置及び光学部材の製造方法
US9103986B2 (en) * 2012-06-08 2015-08-11 Empire Technology Development Llc Multi frequency filter arrays for low cost spectrometers
JP6386700B2 (ja) 2012-07-04 2018-09-05 キヤノン株式会社 構造体、光学部材、反射防止膜、撥水性膜、質量分析用基板、位相板、構造体の製造方法、及び反射防止膜の製造方法
WO2014103686A1 (ja) * 2012-12-25 2014-07-03 大日本印刷株式会社 光学積層体、これを用いた偏光板及び画像表示装置
KR20170030473A (ko) * 2014-07-10 2017-03-17 에스씨아이브이에이엑스 가부시키가이샤 광학 부재 및 그 제조 방법
KR101586073B1 (ko) * 2014-08-20 2016-01-19 한국과학기술연구원 무반사 나노코팅 구조 및 그 제조방법
JP2017076081A (ja) * 2015-10-16 2017-04-20 キヤノン株式会社 反射防止膜、光学素子、光学系および光学機器
CN109844572A (zh) 2016-09-13 2019-06-04 皇家飞利浦有限公司 包括耐磨层的层压件、包括所述层压件的设备及制造所述层压件的方法
US10591645B2 (en) * 2016-09-19 2020-03-17 Apple Inc. Electronic devices having scratch-resistant antireflection coatings
CN109387889A (zh) * 2017-08-03 2019-02-26 京东方科技集团股份有限公司 抗反射结构、显示装置及抗反射结构制作方法
JP6428905B2 (ja) * 2017-12-20 2018-11-28 王子ホールディングス株式会社 微細構造体および微細構造体の製造方法
CN112740081B (zh) * 2018-09-27 2022-08-26 富士胶片株式会社 防反射膜、光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法
US11583388B2 (en) 2019-04-05 2023-02-21 Amo Groningen B.V. Systems and methods for spectacle independence using refractive index writing with an intraocular lens
US11678975B2 (en) 2019-04-05 2023-06-20 Amo Groningen B.V. Systems and methods for treating ocular disease with an intraocular lens and refractive index writing
US12357509B2 (en) 2019-04-05 2025-07-15 Amo Groningen B.V. Systems and methods for improving vision from an intraocular lens in an incorrect position and using refractive index writing
US11564839B2 (en) 2019-04-05 2023-01-31 Amo Groningen B.V. Systems and methods for vergence matching of an intraocular lens with refractive index writing
US11583389B2 (en) 2019-04-05 2023-02-21 Amo Groningen B.V. Systems and methods for correcting photic phenomenon from an intraocular lens and using refractive index writing
US12377622B2 (en) 2019-04-05 2025-08-05 Amo Groningen B.V. Systems and methods for vergence matching with an optical profile and using refractive index writing
US11529230B2 (en) 2019-04-05 2022-12-20 Amo Groningen B.V. Systems and methods for correcting power of an intraocular lens using refractive index writing
US11944574B2 (en) 2019-04-05 2024-04-02 Amo Groningen B.V. Systems and methods for multiple layer intraocular lens and using refractive index writing
CN113311515A (zh) * 2020-02-25 2021-08-27 华为技术有限公司 一种镜头、摄像模组和电子设备
JP2021162728A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 デクセリアルズ株式会社 光学体、光学体の製造方法及び光学デバイス
JP7491163B2 (ja) * 2020-09-23 2024-05-28 株式会社Jvcケンウッド 反射型液晶表示素子及び液晶表示装置
CN115390168A (zh) 2021-05-21 2022-11-25 大立光电股份有限公司 塑胶光学转折元件、成像镜头模块及电子装置
TWI847209B (zh) * 2021-09-01 2024-07-01 大立光電股份有限公司 成像光學鏡頭、取像裝置及電子裝置
US12379524B2 (en) 2021-09-01 2025-08-05 Largan Precision Co., Ltd. Optical imaging lens assembly comprising a gradient refractive coating having a plurality of holes, imaging apparatus and electronic device
WO2023148839A1 (ja) * 2022-02-02 2023-08-10 株式会社京都セミコンダクター 光半導体素子
US12332408B2 (en) 2022-08-23 2025-06-17 Apple Inc. Anti-reflective optical structures for optical systems
US20240201422A1 (en) * 2022-12-20 2024-06-20 Intevac, Inc. Low index of refraction thin film with high hardness coating and method and apparatus to produce same
FI20235855A1 (en) * 2023-08-01 2025-02-02 Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy Anti-reflective treated surface and method for manufacturing it

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883581A (ja) * 1994-09-13 1996-03-26 Hitachi Ltd 表示装置の表面基板処理膜とその製造方法
DE69937764T2 (de) * 1998-09-22 2008-11-27 Fujifilm Corp. Verfahren zur Herstellung eines Antireflektionsfilms
EP1039347B1 (en) * 1999-03-25 2003-12-17 Infineon Technologies North America Corp. Antireflective coating for improving cd control
JP2003119052A (ja) * 2001-10-12 2003-04-23 Matsushita Electric Works Ltd 光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法
JP2004149782A (ja) * 2002-10-09 2004-05-27 Mitsubishi Chemicals Corp 熱可塑性樹脂組成物及びそれを用いてなる成形体
JP2007052345A (ja) * 2005-08-19 2007-03-01 Oji Paper Co Ltd 屈折率傾斜多層薄膜構造体及びその製造方法
JP5147290B2 (ja) * 2006-05-31 2013-02-20 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
JP5313750B2 (ja) * 2008-07-31 2013-10-09 学校法人慶應義塾 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011215440A5 (enExample)
JP5881096B2 (ja) 反射防止膜及び光学素子
Zhang et al. Multifunctional antireflection coatings based on novel hollow silica–silica nanocomposites
JP6285131B2 (ja) 偏光板、及び偏光板の製造方法
JP2010262320A5 (enExample)
JP2014122961A5 (enExample)
JP2013257405A5 (enExample)
JP6255541B2 (ja) 親水性多層膜及びその製造方法、並びに、撮像システム
JP5885595B2 (ja) 反射防止膜、および、それを有する光学素子、光学系、光学機器
JP2013545145A5 (enExample)
JP2013042162A5 (enExample)
JP2010231172A5 (enExample)
JP2014502735A5 (enExample)
JP2012181420A (ja) 偏光素子
JP2012018380A5 (enExample)
JP6053262B2 (ja) 光学素子、それを用いた光学系および光学機器
JP2014122961A (ja) 反射防止膜を有する光学素子、光学系および光学機器
JP2013097160A5 (enExample)
JP2013033124A5 (enExample)
JP2013037747A5 (enExample)
JP2018036670A (ja) 偏光板、及び偏光板の製造方法
JP2008286882A (ja) 偏光子
JP2013033241A5 (enExample)
JP2013152257A (ja) 反射防止膜
JP2010237419A (ja) 反射防止体