JP2011195401A - 組成物およびこれを用いた焼成物 - Google Patents

Abstract

【課題】ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。
【解決手段】リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む塗布に適したレオロジー特性を有する組成物であり、リオトロピック液晶の熱分解温度が３００℃以下で、低軟化点ガラスの軟化点よりも４０℃以上低いものである。
【選択図】なし

Description

本発明は、焼成用組成物およびこれを用いた焼成物に関する。

ディスプレイ部材や回路部材において、有機成分と無機成分からなる組成物を塗布した後、焼成により有機成分を除去して無機成分のみからなるパターンを製造する方法が用いられることが多い。例えばプラズマディスプレイ用の誘電体層や、カーボンナノチューブを電子放出源とするバックライト用の絶縁層は、低軟化点ガラス、フィラー、バインダー、溶剤を主成分とする組成物の塗膜を形成し、焼成することにより無機成分のみからなる誘電体層や絶縁層を形成する。

有機成分を含む組成物を用いるのは、塗布する際に均一な塗膜を形成するためで、塗布に適当なレオロジー特性を組成物に付与するためである。しかし、ディスプレイ部材や回路部材において、焼成により有機成分が除去されないと、製品性能に悪影響を及ぼすことがある。例えば、プラズマディスプレイ用の誘電体層において、ガラス粉末等の無機成分が焼結する際に有機物の焼成残渣が存在すると、焼成時に有機残渣から生じるアウトガスによって、内部に気泡が発生したり、接着不足によって焼結強度が不足したりすることがある。カーボンナノチューブを電子放出源とするバックライト用の絶縁層においても同様の問題が起こりうる。

従って、組成物のレオロジー特性を制御しつつ、焼成時には分解除去される有機成分を用いることが焼成用組成物にとって重要である。レオロジー特性を付与することができ、熱分解しやすい有機成分として、ポリメタクリレートやセルロースなどのポリマーが利用されることが多い（例えば、特許文献１参照）。

一方、高分子と比較して低分子量の両親媒性分子が形成する自己組織体からなるリオトロピック液晶相を鋳型にする技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。なお、両親媒性分子が形成される液晶相は、リオトロピック液晶またはライオトロピック液晶と呼ばれる。

特開２００３−２５７３１４号公報 特開平１０−２２６５１４号公報

上記のように、ポリメタクリレートやセルロースなどのポリマーを熱分解性有機成分として用いる例はあるが、その熱分解温度の多くは低くても約３００℃以上であり、低軟化点ガラスを使用すると焼成残渣が生じやすく、焼成物の強度が低下するという課題があった。なお、ニトロセルロースのように３００℃以下で熱分解するポリマーもあるが、これは自己反応性物質のため取り扱いが難しい。また、特許文献２記載の技術はメソ孔質固体を得るためのものであり、高強度の材料は得られない。

本発明は、上記課題に着目し、低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる組成物をより安全に提供することを目的とする。

すなわち、本発明はリオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む組成物である。

本発明の組成物は塗布に適したレオロジー特性を有している。また本発明の組成物は低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる。

以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は、リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む組成物である。リオトロピック液晶とは、両親媒性分子が水および／または有機溶媒中で形成する自己組織体が配向し、高次構造を形成した熱力学的に安定な相をさす。液晶テレビ用パネルにおいてバックライト光の透過性を制御する液晶はサーモトロピック液晶と呼ばれ、各分子が配向するものであり、自己組織体が配向するリオトロピック液晶とは異なる。

リオトロピック液晶として、２分子膜が積み重なったラメラ液晶、棒状ミセルが配列したヘキサゴナル液晶、球状ミセルが配列した不連続キュービック液晶、共連続２分子膜が特定の構造を持った共連続キュービック液晶等が挙げられる。塗布に適したレオロジー特性に調製しやすいという点で、ラメラ液晶が好ましい。

塗布に適したレオロジー特性とは、せん断速度が大きいと粘度が低下し、せん断速度が小さいと粘度が低下する、いわゆるチキソトロピー性を持つことである。これにより塗布時にせん断速度が大きくなると粘性が低下して塗布しやすくなり、塗布後にはせん断速度がゼロになるので粘性が増加してダレ等を防ぐことができる。レオロジー特性の評価には、せん断速度が異なる２つの粘度の比であるチキソトロピー指数（ＴＩ値）を用いることができる。例えば、Ｂ型粘度計（ＲＶＤＶ−II＋に少量アダプタＳＣ４−２７／１３Ｒを付随したもの、ＢＲＯＯＫＦＩＥＬＤ ＥＮＧＩＮＥＥＲＮＧ ＬＡＢＯＲＡＴＲＩＥＳ製）を用いて、２５℃における１０ｒｐｍ（４ｓ^−１）の回転数（せん断速度）の粘度に対する１ｒｐｍ（０．４ｓ^−１）の回転数（せん断速度）の粘度の比を用いることができる。本発明のリオトロピック液晶のＴＩ値が１．２〜１０であることが塗布にとって好ましい。また、１ｒｐｍ（０．４ｓ^−１）における粘度が２〜２００Ｐａ・ｓであることが好ましい。

リオトロピック液晶を形成する両親媒性分子は非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン性またはイオン性ブロックコポリマー、非イオン性またはイオン性櫛形ポリマー等が挙げられる。中でも熱分解性が良好であるため非イオン性界面活性剤、非イオン性ブロックコポリマー等のイオン性でない両親媒性分子が好ましい。ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル酢酸、脂肪酸アルキロールアミド、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーなどを一例として挙げることができる。熱分解性が良好なポリオキシエチレンアルキルエーテルやポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーがより好ましい。さらに、常温で結晶化しない両親媒性分子は、揮発しやすく、焼成工程で除去しやすいので好ましい。好ましい例として、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーであるアデカプルロニックシリーズ（（株）ＡＤＥＫＡ）を挙げることができる。

有機溶媒は、リオトロピック液晶を形成しさえすれば、公知のものを用いることができる。すぐに揮発せず、取り扱いやすいという点で沸点が１５０℃以上の高沸点有機溶媒が特に好ましい。例えば、エチレングリコールやグリセリンに代表されるジオールやトリオールなどの多価アルコール、アルコールをエーテル化および／またはエステル化した化合物（エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート）などが挙げられる。より具体的には、テルピネオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、ブチルカルビトールアセテートなどやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。水は純水が好まし。リオトロピック液晶を形成しさえすれば、有機溶媒と水という組み合わせだけでなく、相溶しない有機溶媒との組み合わせでもよい。例えば、上記有機溶媒とシリコン系溶媒やフッ素系溶媒の組み合わせである。その際は、両親媒性分子としてシリコン系両親媒性分子やフッ素系両親媒性分子が好ましく用いられる。

リオトロピック液晶の熱分解温度は、３００℃以下であることが好ましい。本発明のリオトロピック液晶の熱分解温度は、ＴＧ測定装置（ＴＧＡ−５０、（株）島津製作所（株）製）にて、有機残分が初期重量の２％以下になる温度とする。熱分解性が良好である非イオン性界面活性剤、非イオン性ブロックコポリマー等のイオン性でない両親媒性分子からなるリオトロピック液晶が好ましい。そのような両親媒性分子としてポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル酢酸、脂肪酸アルキロールアミド、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーなどを一例として挙げることができる。熱分解性が良好なポリオキシエチレンアルキルエーテルやポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーがより好ましい。さらに、常温で結晶化しない両親媒性分子は、揮発しやすく、焼成工程で除去しやすいので好ましい。好ましい例として、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーであるアデカプルロニックシリーズ（（株）ＡＤＥＫＡ）を挙げることができる。

低軟化点ガラスとは、ガラス軟化点が５００℃以下のガラスを指す。ガラス軟化点が５００℃以下であると、焼成温度も５００℃以下にすることができるため、比較的安価なソーダライムガラスを基板として用いたり、他の材料や部材の焼成工程による熱ダメージを抑制したりすることができる。ガラス軟化点が５００℃以下のガラスとして、アルカリ系ガラス、ビスマス系ガラス、リン酸系ガラス、鉛系ガラスが挙げられる。環境負荷が小さいため、アルカリ系ガラス、ビスマス系ガラス、リン酸塩系ガラスが好ましい。さらに好ましくは、アルカリ系ガラス、リン酸系ガラスである。

アルカリ系ガラスは、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを５〜２５重量％、ＳｉＯ_２を５〜３０重量％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０重量％、ＢａＯまたはＳｒＯを２〜２５重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を２〜１５重量％、ＭｇＯまたはＣａＯを０〜１５重量％含むものが好ましい。

上記のように、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏのアルカリ金属酸化物は、ガラスの熱軟化点、熱膨張係数のコントロールを容易にする。合計量を２５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持すると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる。

ＳｉＯ_２の配合量は５〜３０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。ＳｉＯ_２は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離等を防ぐこともできる。５重量％以上とすることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑えることができる。３０重量％以下とすることで、ガラス転移点、荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる。

Ｂ_２Ｏ_３は、１０〜５０重量％、さらには１５〜４５重量％の範囲で配合することが好ましい。１０重量％以上とすることで、ガラス転移点、荷重軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にする。また、５０重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。

ＢａＯまたはＳｒＯのうち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜２５重量％、さらには１０〜２０重量％であることが好ましい。これらの成分は、熱膨張係数の調整に有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好ましい。２重量％以上とすることで結晶化による失透を防ぐこともできる。また、２５重量％以下とすることにより、熱膨張係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができる。またガラスの化学的安定性も維持できる。

Ａｌ_２Ｏ_３はガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、組成物のポットライフ延長にも有効である。２〜１５重量％の範囲で配合することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転移点、荷重軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付けを容易とすることができる。

さらに、ＭｇＯまたはＣａＯは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を制御するために配合することができる。ＭｇＯまたはＣａＯは合計で０〜１５重量％配合するのが好ましい。ただし、含まなくてもよい。１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。

また、上記の組成には表記されていないが、ＺｎＯやＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２等を含有させてもよい。

ビスマス系ガラスは、Ｂｉ_２Ｏ_３を４５〜８６重量％含有されていることが好ましい。より好ましくは、４５〜８６重量％のＢｉ_２Ｏ_３、０．５〜８重量％のＳｉＯ_２、３〜２５重量％のＢ_２Ｏ_３、０〜２５重量％のＺｎＯを有するガラス粉末がガラスの安定性と軟化点の制御のしやすさという点で好ましい。

ＳｉＯ_２の含有量を０．５〜８重量％とすることでガラスの安定性を向上させることができる。０．５重量％より少ないとその効果が不十分であり、８重量％より多いとガラスの軟化点が高くなりすぎる。より好ましくは０．５〜２重量％である。

Ｂ_２Ｏ_３の含有量もまた３〜２５重量％とすることでガラスの安定性を向上させることができる。３重量％より少ないとその効果が不十分であり、２５重量％より多いとガラスの軟化点が高くなりすぎる。より好ましくは３〜１０重量％である。

ＺｎＯは含まなくともよいが、２５重量％まで含有させることで軟化点を下げることができる。２５重量％より多いとガラスが不安定になる。より好ましくは５〜１５重量％である。

その他にもＡｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＣｅＯ、Ｋ_２Ｏ等を含むことができる。

リン酸系ガラスは、Ｐ_２Ｏ_５−ＳｎＯ系、Ｐ_２Ｏ_５−ＳｎＯ−ＺｎＯ系、Ｐ_２Ｏ_５−ＺｎＯ系が好ましく挙げられる。なお、本明細書においてＰ_２Ｏ_５−ＳｎＯ系ガラスとは、Ｐ_２Ｏ_５成分とＳｎＯ成分の合計量が酸化物換算で４０重量％以上であるものをいう。Ｐ_２Ｏ_５−ＳｎＯ−ＺｎＯ系、Ｐ_２Ｏ_５−ＺｎＯ系についても同様に、各成分の合計量が酸化物換算で４０重量％以上であるものをいう。

Ｐ_２Ｏ_５成分は、最大の構成要素であり、ガラス構造としての網目形成酸化物として必須である。Ｐ_２Ｏ_５成分は、酸化物換算で５〜８０重量％が好ましい。再溶融時に結晶化を抑え、また耐水性を維持することができる。より好ましくは３０〜７０重量％である。

ＳｎＯ成分は、軟化点を下げ流動性を増加させることができる。酸化物換算で０〜７０重量％である。

ＺｎＯ成分は、軟化点を下げ流動性を増加させ、ガラスの安定化、化学的耐久性向上の効果があり、酸化物換算で０〜６０重量％含むことができる。

その他にＬｉ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、ＢａＯ、ＣａＯ、Ｂ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＭｇＯ、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｒＯ成分等を含んでもよい。

本発明のガラスの軟化点は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて、アルミナ粉末を標準試料として、室温から２０℃／分で昇温して得られたＤＳＣ曲線における最初の吸熱ピークのピークトップの温度である。

本発明の組成物は、カーボンナノチューブを含んでもよい。カーボンナノチューブを含む組成物は、電子放出源を作製するために用いることができる。カーボンナノチューブは、単層、２層、および３層以上の多層カーボンナノチューブの中で、どのカーボンナノチューブを用いてもよい。層数の異なるカーボンナノチューブの混合物としてもよい。また、アモルファスカーボンや触媒金属等の不純物を熱処理や酸処理等によって精製することが好ましい。カーボンナノチューブは、複数のカーボンナノチューブが絡まりあった凝集体として存在していることが多いため、あらかじめボールミルやビーズミルでカーボンナノチューブ粉末を粉砕して用いてもよい。

本発明の組成物の作製方法を説明する。両親媒性分子、水および／または有機溶媒を混合し、あらかじめリオトロピック液晶を調製し、次にガラス粉末を混合後、３本ローラー、ボールミル、ビーズミル、ホモジナイザー、プラネタリーミキサー等により混合することができる。リオトロピック液晶は融点を持つため、温度が上昇すると急激に粘性が低下しやすく混合しやすい。他に、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリング剤等の添加成分を含んでもよい。

本発明の組成物の組成は、塗布に適したレオロジー特性を持ち、絶縁層用や電子放出源用といった目的に必要な成分を含んでいれば良い。絶縁層用に用いられる場合、リオトロピック液晶と低軟化点ガラスの濃度はリオトロピック液晶が４０〜９５重量％、低軟化点ガラスが５〜６０重量％であることが好ましい。また、カーボンナノチューブを含む電子放出源用に用いられる場合は、リオトロピック液晶が９８．９〜７０重量％、低軟化点ガラスが１〜２０重量％、カーボンナノチューブが０．１〜１０重量％であることが好ましい。

また、リオトロピック液晶の熱分解温度が、低軟化点ガラスのガラス軟化点よりも４０℃以上低いことが好ましい。有機成分の熱分解温度とガラス軟化点が近いと、ガラス表面の有機成分が分解しにくい場合があるからである。熱分解温度とガラス軟化点の差を４０℃以上とすることで、低軟化点ガラス表面に焼成残渣を残りにくくすることができる。

本発明の組成物は、スクリーン印刷、スリットダイコーター、バーコーター等によって好ましく塗布することができる。塗膜は乾燥後、焼成によって有機成分の除去を行う。有機成分の除去は、大気中でもよいし窒素雰囲気でもよい。

以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。各実施例および比較例における組成物で用いた原料、各実施例および比較例における評価方法は以下の通りである。

両親媒性分子Ｌ１０３：アデカプルロニックＬ１０３（非イオン性）、ブロックコポリマー（（株）ＡＤＥＫＡ製）
両親媒性分子Ｌ８４：アデカプルロニックＬ８４（非イオン性）、ブロックコポリマー（（株）ＡＤＥＫＡ製）
両親媒性分子Ｌ６４：アデカプルロニックＬ６４（非イオン性）、ブロックコポリマー（（株）ＡＤＥＫＡ製）
両親媒性分子Ｅ４０８：エマルゲン４０８（非イオン性）、ポリオキシエチレンオレイルエーテル（花王（株）製）。

ポリマーＩＢＭ：ポリ（メタクリル酸ｉｓｏ−ブチル）fine powder, [h]=0.60、ポリイソブチルメタクリレート（和光純薬工業（株）製）
水：純水
有機溶媒：テルピネオール（和光純薬工業（株）製）
低軟化点ガラス：リン酸系ガラス（酸化物表示でＰ_２Ｏ_５：６０重量％、ＳｎＯ：３５重量％、ＺｎＯ：５重量％、ガラス軟化点３４０℃）
低軟化点ガラス：アルカリ系ガラス（Ｂ_２Ｏ_３：３５重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：２２．７重量％、ＳｉＯ_２：１２．９重量％、Ｌｉ_２Ｏ：１２．４重量％、ＭｇＯ：６．４重量％、ＢａＯ：４．２重量％、ＣａＯ：４．１重量％、ＺｎＯ：２．３重量％、ガラス軟化点４５８℃）
低軟化点ガラス：ビスマス系ガラス（Ｂｉ_２Ｏ_３：８４重量％、Ｂ_２Ｏ_３：７重量％、ＳｉＯ_２：１重量％、ＺｎＯ：８重量％、ガラス軟化点３８０℃）。

リオトロピック液晶の調製
表１に示す組成で、両親媒性分子、水、有機溶媒を秤量し、自公転型撹拌機(ハイブリッドミキサーＨＭ５００、（株）キーエンス製）を用いて１０分間以上撹拌してリオトロピック液晶を調製した。また、比較例１〜２で用いたＩＢＭテルピネオール溶液も表１に示す組成で秤量し、８０℃で撹拌しながらポリマーを溶解させた。

粘度測定
Ｂ型粘度計（ＲＶＤＶ−II＋に少量アダプタＳＣ４−２７／１３Ｒを付随したもの、ＢＲＯＯＫＦＩＥＬＤ ＥＮＧＩＮＥＥＲＮＧ ＬＡＢＯＲＡＴＲＩＥＳ製）を用いて、２５℃でのペースト粘度を測定した。３分間１００または５０ｒｐｍにて初期撹拌し、その後、１ｒｐｍ（０．４ｓ^−１）と１０ｒｐｍ（４ｓ^−１）の回転数（せん断速度）にセットした１分後の値を粘度とした。また、１０ｒｐｍの回転数における粘度に対する１ｒｐｍの回転数における粘度の比をＴＩ値とした。

絶縁層用組成物の調製
絶縁層用組成物は以下の要領で作製した。実施例１〜８では低軟化点ガラスを６０重量％、リオトロピック液晶を４０重量％となるように秤量し、その混合物を３本ローラーにて混練した。比較例１では、低軟化点ガラス６０重量％、バインダー溶液４０重量％となるように秤量し、その混合物を３本ローラーにて混練した。

絶縁層の製造方法
絶縁層用組成物を、ソーダライムガラス基板に、ＳＵＳ３２５メッシュのスクリーン版を用いて、２００μｍ幅のラインパターンをスクリーン印刷し、１００℃で１０分乾燥後、さらに同様の条件で２回目のスクリーン印刷をパターン上に行った。１００℃で１０分間乾燥後、大気中にて４８０℃で焼成した。

ＴＧＡ測定
熱重量測定装置（ＴＧＡ−５０、（株）島津製作所製）を用いて、大気中におけるリオトロピック液晶の熱分解曲線を測定した。昇温速度は３℃／分で行い、初期重量の２％となった温度を熱分解温度とした。

強度測定
平型圧子（直径５０μｍ）を取り付けたダイナミック微小硬度計（ＤＵＨ−２０１Ｓ、（株）島津製作所）により絶縁層の強度を測定した。負荷速度６ｍＮ／ｓ、最大荷重１９６１ｍＮで押し込み試験を３０回行った。絶縁層の欠けを、押し込み深さ−押し込み荷重図のグラフ変化から隔壁頂部欠けを判断し、３０回押し込み中、欠け回数が０個ならば強度は◎、１〜３個以内ならば強度は○、４個以上で×と評価した。

実施例１〜８、比較例１
強度測定の結果、実施例１〜７は◎（欠け０個）、実施例８は○（欠け１個）、比較例１は×（欠け７個）であった。いずれの実施例も絶縁層の強度が比較例１よりも優れていた。中でも実施例１〜７が特に優れていた。

実施例９、比較例２
実施例９、比較例２について、用いた低軟化点ガラスをリン酸系ガラスからアルカリ系ガラスに変えたことと、焼成温度を５００℃にしたこと以外は、実施例６、比較例１と同様にした。強度測定の結果、実施例９は◎（欠け０個）、比較例２は×（欠け４個）であった。

実施例１０、比較例３
実施例１０、比較例３について、用いた低軟化点ガラスをリン酸系ガラスからビスマス系ガラスに変えたこと以外は、実施例６、比較例１と同様にした。強度測定の結果、実施例１０は◎（欠け０個）、比較例３は×（欠け６個）であった。

Claims (5)

1. リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む組成物。
2. リオトロピック液晶が両親媒性ブロックコポリマーを含む請求項１に記載の組成物。
3. リオトロピック液晶の熱分解温度が３００℃以下である請求項１または２記載の組成物。
4. リオトロピック液晶の熱分解温度が低軟化点ガラスの軟化点よりも４０℃以上低いものである請求項１〜３のいずれか記載の組成物。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の組成物を焼成して得られた焼成物。