JP2011191273A - ウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイス、及びそれらの製造方法 - Google Patents

ウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイス、及びそれらの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】気密空間の気密信頼性が向上されたウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイス、及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハとが常温接合されており、センサウェハとパッケージウェハとの接合面が環状に形成され、その環状の接合面における外周側の端部が、センサウェハとパッケージウェハそれぞれの外表面に形成された蒸着膜若しくは熱酸化膜によって閉塞されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、センサウェハとパッケージウェハとが接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイス、及びそれらの製造方法に関するものである。
従来、例えば特許文献1に示されるように、センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体が提案されている。
特許文献1では、センサウェハとパッケージウェハとが互いに対向する対向面それぞれに設けられた枠状封止用接合層の各接合面を活性化してから、センサウェハとパッケージウェハそれぞれの枠状封止用接合層同士を接触させることで、センサウェハとパッケージウェハとを常温接合している。これにより、センサウェハとパッケージウェハとが接合されると共に、センサウェハと凹部とによって構成される空間(以下、気密空間と示す)に、センシング部が気密封止されている。なお、特許文献1では、枠状封止用接合層を多重に設けることで、気密空間の気密信頼性を高めている。
特許第3938198号公報
ところで、特許文献1に示されるウェハレベルパッケージ構造体では、上記したように、センサウェハとパッケージウェハとが常温接合されている。この常温接合は、枠状封止用接合層の接合面の表面状態に大きく依存する性質を有しており、例えば、気体分子との反応によって容易に汚染される虞がある。したがって、接合面が汚染された場合、気密空間の気密信頼性が低下する虞がある。
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、気密空間の気密信頼性が向上されたウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイス、及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。
上記した目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハと、を有し、センサウェハとパッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体であって、センサウェハとパッケージウェハとの接合面が環状に形成され、その環状の接合面における外周側の端部が、センサウェハとパッケージウェハそれぞれの外表面に形成された第1蒸着膜によって閉塞されていることを特徴とする。
一般的に、蒸着膜は、蒸着膜の形成される面(形成面)に樹脂や金属などが堆積されることで形成される。したがって、形成面の表面に凹凸が形成されていたとしても、その凹凸形状に応じて、蒸着膜が形成される。このように、蒸着膜の場合、形成面の表面状態に依存しない性質を有している。
本発明では、センサウェハとパッケージウェハとが常温接合され、その接合面が、環状に形成されている。そして、その環状の接合面における外周側の端部(つなぎ目)が、第1蒸着膜によって閉塞されている。このように、表面状態に依存しない第1蒸着膜によって、つなぎ目が閉塞されているので、多重に設けられた枠状封止用接合層を常温接合することで、センシング部を気密封止する空間(気密空間)が形成された構成と比べて、気密空間の気密信頼性が向上される。
請求項1に記載の第1蒸着膜としては、請求項2及び請求項3に記載のように、絶縁蒸着膜、若しくは、金属蒸着膜を採用することができる。
上記した目的を達成するために、請求項4に記載の発明は、センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハと、を有し、センサウェハとパッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体であって、センサウェハとパッケージウェハとの接合面が環状に形成され、その環状の接合面における外周側の端部を含む、センサウェハとパッケージウェハそれぞれの表層に形成された熱酸化膜によって、接合面における外周側の端部が閉塞されていることを特徴とする。
このように本発明によれば、センサウェハとパッケージウェハとが常温接合され、センサウェハとパッケージウェハとの接合面が環状に形成されている。そして、その環状の接合面における外周側の端部(つなぎ目)を含む、センサウェハとパッケージウェハそれぞれの表層に熱酸化膜が形成されている。この熱酸化膜は、等方向に形成される性質を有しているので、上記したつなぎ目に隙間が生じていたとしても、その隙間が、成長した熱酸化膜によって閉塞される。このように、つなぎ目が熱酸化膜によって閉塞された構成となるので、多重に設けられた枠状封止用接合層を常温接合することで、気密空間が形成された構成と比べて、気密空間の気密信頼性が向上される。
請求項5及び請求項6に記載の発明の作用効果は、請求項1〜4いずれかに記載の発明の作用効果と同様なので、その記載を省略する。
請求項7に記載のように、センサエレメントにおける保護部材から露出された表面に第2蒸着膜が形成され、接合面における外周側の端部が、第1蒸着膜と第2蒸着膜、若しくは、熱酸化膜と第2蒸着膜とによって閉塞された構成が好ましい。このように、接合面のつなぎ目が、多重に閉塞されるので、気密空間の気密信頼性がさらに向上される。
請求項8に記載の発明の作用効果は、請求項1に記載の発明の作用効果と同様なので、その記載を省略する。
請求項9に記載のように、第2蒸着膜は、センサエレメントの外表面だけではなく、保護部材の外表面にも形成されており、センサエレメントと保護部材との界面における外側の端部が、第2蒸着膜によって閉塞された構成が良い。これによれば、センサエレメントと保護部材との界面を介して、空気中の水分などがセンサエレメントとリードとの電気的な接続部位に侵入することが抑制される。
請求項10に記載のように、センシング部として、圧電素子を採用し、センサエレメントとして、被測定媒体の圧力を測定する圧力測定エレメントを採用することができる。また、請求項11に記載のように、センサウェハに、厚さが局所的に薄くなったダイヤフラムが形成され、ダイヤフラムに、圧電素子が形成された構成を採用することができる。請求項10及び請求項11に記載の構成の場合、請求項9に記載の構成が、特に好ましい。請求項9に記載の構成によれば、圧力測定エレメントと保護部材との界面における外側の端部が、第2蒸着膜によって閉塞されるので、圧力測定エレメントと保護部材との界面、及び、保護部材とリードとの界面を介して、被測定媒体が外部に漏れることが抑制される。
請求項7〜11いずれかに記載の第2蒸着膜としては、請求項12及び請求項13に記載のように、絶縁蒸着膜、若しくは、金属蒸着膜を採用することができる。
請求項14〜20に記載の発明の作用効果は、請求項1、4〜9いずれかに記載の発明の作用効果と同様なので、その記載を省略する。
第1実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体の概略構成を示す上面図である。 図1のII−II線に沿う断面図である。 第1実施形態に係る圧力測定エレメントの概略構成を示す断面図である。 第1実施形態に係る圧力測定デバイスの概略構成を示す断面図である。 第1実施形態に係る圧力測定デバイスの製造方法を説明するための断面図であり、(a)は常温接合工程、(b)は除去工程を示す。 第1実施形態に係る圧力測定デバイスの製造方法を説明するための断面図であり、(a)は第1形成工程、(b)はダイシング工程を示す。 第2実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体の概略構成を示す断面図である。 第2実施形態に係る圧力測定エレメントの概略構成を示す断面図である。 第2実施形態に係る圧力測定デバイスの概略構成を示す断面図である。 第3実施形態に係る圧力測定デバイスの概略構成を示す断面図である。 第3実施形態に係る圧力測定デバイスの製造方法を説明するための断面図であり、(a)は常温接合工程、(b)はダイシング工程、(c)は接続工程及び保護工程を示す。 圧力測定デバイスの変形例を示す断面図である。
以下、本発明に係るウェハレベルパッケージ構造体を、圧力を電気信号に変換する圧電素子を有するウェハレベルパッケージ構造体に適用し、本発明に係るセンサエレメントを、圧力測定エレメントに適用し、本発明に係るセンサデバイスを、圧力測定デバイスに適用した場合の実施形態を図に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体の概略構成を示す上面図である。図2は、図1のII−II線に沿う断面図である。図3は、第1実施形態に係る圧力測定エレメントの概略構成を示す断面図である。図4は、第1実施形態に係る圧力測定デバイスの概略構成を示す断面図である。図5は、第1実施形態に係る圧力測定デバイスの製造方法を説明するための断面図であり、(a)は常温接合工程、(b)は除去工程を示す。図6は、第1実施形態に係る圧力測定デバイスの製造方法を説明するための断面図であり、(a)は第1形成工程、(b)はダイシング工程を示す。
図1及び図2に示すように、ウェハレベルパッケージ構造体100は、センサウェハ10と、パッケージウェハ20とが接合されて成る。ウェハレベルパッケージ構造体100には、複数の圧力測定エレメント200が形成されており、1つの圧力測定エレメント200それぞれの接合面30の形状が環状となっている。そして、接合面30の内周側の端部30a(以下、単に内周端30aと示す)、及び、外周側の端部30b(以下、外周端30bと示す)それぞれの平面形状が矩形となっている。また、ウェハレベルパッケージ構造体100のパッケージウェハ20側には、第1蒸着膜40が形成され、この第1蒸着膜40によって、外周端30b(接合面30のつなぎ目)の全てが閉塞されている。この第1蒸着膜40が、本実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、及び圧力測定デバイス300それぞれの特徴点である。
センサウェハ10は、第1ウェハ11と、第1ウェハ11に所定の間隔を置いて形成された複数のセンサ本体12と、第1ウェハ11における局所的に肉厚の薄くなったダイヤフラム13と、を有する。センサ本体12は、圧力を電気信号に変換する圧電素子12aを有しており、該圧電素子12aが、ダイヤフラム13における、パッケージウェハ20側の面に形成されている。圧電素子12aが、特許請求の範囲に記載のセンシング部に相当する。
パッケージウェハ20は、第2ウェハ21と、第2ウェハ21に所定の間隔を置いて形成された複数の凹部22と、を有する。凹部22は、圧電素子12aの形成領域に応じて、第2ウェハ21に形成されており、圧電素子12aを気密封止するための空間23(以下、気密空間23と示す)を構成する機能を果たす。
接合面30は、第1ウェハ11における、隣接するセンサ本体12の間の第1接合面14と、第2ウェハ21における、隣接する凹部22の間の第2接合面24とが接合されて成る。上記したように、接合面30は、環状に形成されており、接合面30の内周端30aによって囲まれた領域に、ダイヤフラム13、圧電素子12a、及び凹部22が位置している。
第1蒸着膜40は、接合面30における、外周端30bを閉塞するためのものである。本実施形態では、第1蒸着膜40が、パッケージウェハ20の表面全てと、センサウェハ10におけるパッケージウェハ20側の表面全てとに形成されている。この結果、第1蒸着膜40によって、外周端30bが閉塞されている。
第1蒸着膜40は、樹脂や、CVD窒化膜、CVD酸化膜などの絶縁材料からなる。第1蒸着膜40は、蒸発した絶縁材料が、第1蒸着膜40の形成される面(形成面)に堆積されることで形成される。したがって、形成面の表面に凹凸が形成されていたとしても、その凹凸の形状に応じて、第1蒸着膜40が形成される。このように、第1蒸着膜40は、形成面の表面状態に依存しない性質を有している。第1蒸着膜40が、特許請求の範囲に記載の絶縁蒸着膜に相当する。
図3に示すように、圧力測定エレメント200は、図2に示すウェハレベルパッケージ構造体100から、センサ本体12のサイズに基づいて、規定のサイズに分割されてなる。
図4に示すように、圧力測定デバイス300は、図3に示す圧力測定エレメント200と、該圧力測定エレメント200と外部とを電気的に接続するリード50と、圧力測定エレメント200とリード50との電気的な接続部位を覆うことで、この接続部位を保護する保護部材60と、を有する。圧力測定エレメント200のセンサ本体12には、圧電素子12aと電気的に接続された配線パターン15と、該配線パターン15と電気的に接続され、圧力測定エレメント200の外表面に少なくとも一部が露出した電極16と、が形成されている。配線パターン15は、第1ウェハ11における第2ウェハ21との対向面11aに形成されており、電極16は、対向面11aとその裏面11bを貫通する貫通電極として形成されている(以下、電極16を、貫通電極16と示す)。この貫通電極16は、第1ウェハ11における、圧電素子12aの形成領域から、離反された領域に形成されている。
図4に示すように、貫通電極16における、対向面11a側に露出した部位が配線パターン15と電気的に接続され、裏面11bに露出した部位がリード50の一方の端部50aと電気的に接続されている。そして、リード50における、貫通電極16と直接接続される端部50aとは反対側の端部50bが、保護部材60から外部に露出されている。この保護部材60から露出された端部50bが、圧力測定エレメント200と外部装置とを電気的に接続するコネクタとしての機能を果たす。以上により、圧電素子12aで出力された電気信号が、配線パターン15と、貫通電極16と、リード50とを介して、外部装置に伝達される。
なお、圧力測定エレメント200におけるダイヤフラム13を含む部位は、保護部材60から露出されており、その露出された部位が、被測定媒体に晒される構成となっている。ダイヤフラム13に被測定媒体がぶつかると、その応力によってダイヤフラム13に歪みが生じ、この歪みによって圧電素子12aから出力される電気信号が変動される。ダイヤフラム13に生じる歪みは被測定媒体の圧力に依存するので、圧電素子12aから出力される電気信号の変動を観測することで、被測定媒体の圧力が測定される。
次に、ウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、及び圧力測定デバイス300それぞれの製造方法を説明する。
先ず、第1ウェハ11に、圧電素子12aと、ダイヤフラム13と、配線パターン15と、貫通電極16とが形成されたセンサウェハ10と、第2ウェハ21に、凹部22が形成されたパッケージウェハ20とを準備する。以上が、準備工程である。
準備工程終了後、真空雰囲気中で、センサウェハ10の第1接合面14、及び、パッケージウェハ20の第2接合面24を活性化する。具体的には、真空雰囲気中で、不活性ガスのイオンビームなどによって、接合面14,24それぞれの上層を除去して、化学結合を形成する結合手の一部が、結合相手を失った状態とすることで、接合面14,24を活性化する。以上が、活性化工程である。
活性化工程終了後、図5の(a)に示すように、真空雰囲気中で、センサウェハ10とパッケージウェハ20とを対向させて、第1接合面14と第2接合面24とを接触させて、接合面同士を常温接合する。以上が、常温接合工程である。
常温接合工程終了後、図5の(b)に示すように、1つのセンサ本体12(圧力測定エレメント200)に対応する、センサウェハ10とパッケージウェハ20との接合面30が環状に成り、且つ、その環状の接合面30の外周端30bの全てが外部に露出されるように、センサウェハ10とパッケージウェハ20における、所定の距離を置いて隣接するセンサ本体12及び凹部22の間の領域を、所定深さまで除去する。本実施形態では、パッケージウェハ20からセンサウェハ10に向かって、パッケージウェハ20が、各センサ本体12に応じた領域に分割されるように、第2ウェハ21における凹部22の間の領域と、第1ウェハ11におけるセンサ本体12の間の領域とを除去する。以上が、除去工程である。
除去工程終了後、図6の(a)に示すように、外部に露出された外周端30bを閉塞するように、第1蒸着膜40を形成する。具体的には、第1蒸着膜40の形成材料である絶縁材料を蒸発する器具の上方に、パッケージウェハ20の上面(第2接合面24の裏面)と器具とが対向するように、センサウェハ10が接合されたパッケージウェハ20を配置する。その後、真空雰囲気中で、絶縁材料を熱して、蒸発させることで、絶縁材料を、パッケージウェハ20の全表面と、センサウェハ10におけるパッケージウェハ20側の全表面とに堆積する。これにより、第1蒸着膜40が形成される。以上が、第1形成工程である。以上の工程を経ることで、図2に示すウェハレベルパッケージ構造体100が形成される。
第1形成工程終了後、図6の(b)に示すように、ウェハレベルパッケージ構造体100から、センサ本体12のサイズに基づいて、規定のサイズ毎に分割する。以上が、ダイシング工程である。以上の工程を経ることで、図3に示す圧力測定エレメント200が形成される。
ダイシング工程終了後、貫通電極16とリード50とを電気的に接続する。以上が、接続工程である。
接続工程終了後、圧力測定エレメント200とリード50との電気的な接続部位を保護部材60によって覆うことで保護する。具体的には、保護部材60を形成するための金型のキャビティ内に、圧力測定エレメント200とリード50との電気的な接続部位を配置した後、上記したキャビティに、保護部材60の構成材料である熱した樹脂を注入した後、この樹脂を冷却固化することで、保護部材60を形成する。以上が、保護工程である。以上の工程を経ることで、図4に示す圧力測定デバイス300が形成される。
次に、本実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、圧力測定デバイス300、及びそれらの製造方法の作用効果を説明する。上記したように、センサウェハ10とパッケージウェハ20とが常温接合され、その接合面30が、環状に形成されている。そして、その環状の接合面30の外周端30b(つなぎ目)が、第1蒸着膜40によって閉塞されている。上記したように、第1蒸着膜40は、第1蒸着膜40の形成される面の表面状態に依存しない性質を有している。このように、表面状態に依存しない第1蒸着膜40によって、つなぎ目が閉塞されているので、多重に設けられた枠状封止用接合層を常温接合することで、気密空間が形成された構成と比べて、気密空間の気密信頼性が向上される。
なお、本実施形態では、第1蒸着膜40の形成材料として、絶縁材料を採用したが、金属材料を採用しても良い。この場合、第1蒸着膜40が、特許請求の範囲に記載の金属蒸着膜に相当する。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態を、図7〜図9に基づいて説明する。図7は、第2実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体の概略構成を示す断面図であり、第1実施形態で示した図2に対応している。図8は、第2実施形態に係る圧力測定エレメントの概略構成を示す断面図であり、第1実施形態で示した図3に対応している。図9は、第2実施形態に係る圧力測定デバイスの概略構成を示す断面図であり、第1実施形態で示した図4に対応している。
第2実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、圧力測定デバイス300、及びそれらの製造方法は、第1実施形態によるものと共通するところが多いので、以下、共通部分については詳しい説明は省略し、異なる部分を重点的に説明する。なお、第1実施形態に示した要素と同一の要素には、同一の符号を付与するものとする。
第1実施形態では、接合面30の外周端30b(つなぎ目)が、第1蒸着膜40によって閉塞された例を示した。これに対し、本実施形態では、ウェハレベルパッケージ構造体100の表層に熱酸化膜41が形成され、該熱酸化膜41によって、外周端30bが閉塞された点を特徴とする。
本実施形態では、ウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、及び圧力測定デバイス300それぞれの製造方法を説明した後に、その作用効果を説明する。
先ず、第1実施形態と同様にして、準備工程と、活性化工程と、常温接合工程と、除去工程とを実施することで、センサウェハ10とパッケージウェハ20とを常温接合すると共に、接合面30の外周端30bを外部に露出させる。
上記した各工程後、第1実施形態とは異なり、第1形成工程を実施して第1蒸着膜40を形成する代わりに、センサウェハ10とパッケージウェハ20それぞれの表層に熱酸化膜41を形成する熱酸化工程を実施する。具体的には、互いに接合されたセンサウェハ10とパッケージウェハ20とに、空気雰囲気中で熱を印加することで、センサウェハ10とパッケージウェハ20それぞれの表層を熱酸化して、熱酸化膜41を形成する。熱酸化膜41は、等方向に成長する性質を有しているので、接合面30の外周端30bに隙間が生じていたとしても、その隙間が、成長した熱酸化膜41によって占有される。この結果、接合面30のつなぎ目が熱酸化膜41によって閉塞される。以上が、熱酸化工程である。以上の工程を経ることで、図7に示すウェハレベルパッケージ構造体100が形成される。
熱酸化工程終了後、第1実施形態と同様にして、ダイシング工程を実施することで、図8に示す圧力測定エレメント200を形成する。
ダイシング工程終了後、第1実施形態と同様にして、接続工程と保護工程とを実施することで、図9に示す圧力測定デバイス300を形成する。
次に、本実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、圧力測定デバイス300、及びそれらの製造方法の作用効果を説明する。上記したように、センサウェハ10とパッケージウェハ20との表層に熱酸化膜41が形成され、その熱酸化膜によって、接合面30における外周端30b(つなぎ目)が、閉塞されている。このように、つなぎ目が熱酸化膜41によって閉塞された構成となるので、多重に設けられた枠状封止用接合層を常温接合することで、気密空間が形成された構成と比べて、気密空間の気密信頼性が向上される。
また、本実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、及び圧力測定デバイス300は、第1実施形態で示した構成とは異なり、図8及び図9に示すように、ダイヤフラム13が熱酸化膜41によって覆われている。これによれば、電荷が蓄積された被測定媒体がダイヤフラム13に衝突したとしても、熱酸化膜41は絶縁性を有するので、被測定媒体に蓄積された電荷が、ダイヤフラム13を介して圧電素子12aに印加されることが抑制される。このように、本実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、及び圧力測定デバイス300は、電荷が蓄積された被測定媒体の圧力を測定することが可能となっている。
なお、本実施形態では、熱酸化工程終了後、直ぐにダイシング工程を実施する例を示した。しかしながら、熱酸化工程において、貫通電極16における面11a,11b側の部位が熱酸化するので、その熱酸化された貫通電極16の表面を除去する電極部除去工程を実施した後に、ダイシング工程を行ってもよい。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態を、図10及び図11に基づいて説明する。図10は、第3実施形態に係る圧力測定デバイスの概略構成を示す断面図である。図11は、第3実施形態に係る圧力測定デバイスの製造方法を説明するための断面図であり、(a)は常温接合工程、(b)はダイシング工程、(c)は接続工程及び保護工程を示す。
第3実施形態に係るウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、圧力測定デバイス300、及びそれらの製造方法は、上記した各実施形態によるものと共通するところが多いので、以下、共通部分については詳しい説明は省略し、異なる部分を重点的に説明する。なお、上記した各実施形態に示した要素と同一の要素には、同一の符号を付与するものとする。
例えば第1実施形態では、接合面30の外周端30b(つなぎ目)が、第1蒸着膜40によって閉塞された例を示した。これに対し、本実施形態では、圧力測定デバイス300の圧力測定エレメント200における、保護部材60から露出された表面に第2蒸着膜42が形成され、この第2蒸着膜42によって、外周端30bが閉塞された点を特徴とする。
本実施形態では、ウェハレベルパッケージ構造体100、圧力測定エレメント200、及び圧力測定デバイス300それぞれの製造方法を説明した後に、その作用効果を説明する。
先ず、第1実施形態と同様にして、準備工程と、活性化工程と、常温接合工程とを実施することで、センサウェハ10とパッケージウェハ20とを常温接合する。以上の工程を経ることで、図11の(a)に示すウェハレベルパッケージ構造体100が構成される。
上記した各工程後、第1実施形態とは異なり、除去工程と第1形成工程を実施せずに、ダイシング工程を実施することで、図11の(b)に示す圧力測定エレメント200を形成する。
ダイシング工程終了後、第1実施形態と同様にして、図11の(c)に示すように、接続工程と保護工程とを実施する。上記した各工程後、圧力測定エレメント200における保護部材60から露出された外表面200aと、保護部材60におけるダイヤフラム13側の外表面60a(圧力測定エレメント200が突出した面60a)に第2蒸着膜42を形成する。具体的には、第2蒸着膜42の形成材料を蒸発する器具の上方に、保護部材60の外表面60aと器具とが対向するように、圧力測定エレメント200が連結された保護部材60を配置する。その後、真空雰囲気中で、第2蒸着膜42を形成する材料(本実施形態では、金属材料)を熱して、蒸発させることで、金属材料を、圧力測定エレメント200の外表面200aの全てと、保護部材60の外表面60aの全てとに堆積する。これにより、第2蒸着膜42を形成する。以上が、第2形成工程である。以上の工程を経ることで、図10に示す圧力測定デバイス300が形成される。
次に、本実施形態に係る圧力測定デバイス300及びその製造方法の作用効果を説明する。上記したように、圧力測定エレメント200における保護部材60から露出された外表面200aの全てに第2蒸着膜42が形成されている。これによれば、保護部材60から露出された、接合面30の外周端30b(つなぎ目)が第2蒸着膜42によって閉塞される。
第1実施形態で記述した第1蒸着膜40と同様に、第2蒸着膜42は、第2蒸着膜42の形成される面の表面状態に依存しない性質を有している。このように、表面状態に依存しない第2蒸着膜42によって、つなぎ目が閉塞されているので、多重に設けられた枠状封止用接合層を常温接合することで、気密空間が形成された構成と比べて、気密空間の気密信頼性が向上される。
なお、本実施形態では、第2蒸着膜42が金属材料によって形成され、図10に示すように、圧電素子12a周囲に、第2蒸着膜42が設けられた構成となっている。このように、圧電素子12a(センサ本体12)が、第2蒸着膜42によって遮蔽された構成と成っているので、外部ノイズがセンサ本体12に入力されることが抑制される。第2蒸着膜42が、特許請求の範囲に記載の金属蒸着膜に相当する。
また、本実施形態では、第2蒸着膜42が、圧力測定エレメント200の外表面200aの全てと、保護部材60の外表面60aの全てとに形成されている。この結果、圧力測定エレメント200と保護部材60との界面における外表面200a,60a側の端部が第2蒸着膜42によって閉塞されている。これによれば、被測定媒体が、圧力測定エレメント200と保護部材60との界面、及び、保護部材60とリード50との界面を介して、外部装置側に漏れることが抑制される。
また、本実施形態では、外周端30bを外部に露出するための除去工程を実施していないので、除去工程において、犠牲となるウェハ11,21の領域を予め用意しなくとも良い。これによれば、本実施形態に記載の圧力測定デバイス300(圧力測定エレメント200)の体格が、第1実施形態及び第2実施形態に記載の圧力測定デバイス300(圧力測定エレメント200)と比べて、小さくすることができる。この結果、ウェハ10,20から形成される圧力測定エレメント200の個数を増大し、コストを低減することができる。
なお、本実施形態では、第2蒸着膜42の形成材料として、金属材料を採用したが、絶縁材料を採用しても良い。絶縁材料の場合、保護部材60から露出された圧力測定エレメント200が、絶縁材料によって被覆されるので、導電性を有する被測定媒体の圧力を計測することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
例えば、図12に示すように、圧力測定デバイス300が、第1蒸着膜40と、第2蒸着膜42とを有する構成を採用することもできる。これによれば、接合面30の外周端30bが、多重に閉塞されるので、気密空間23の気密信頼性がさらに向上される。なお、図示しないが、圧力測定デバイス300が、熱酸化膜41と、第2蒸着膜42とを有する構成を採用することもできる。これによっても、接合面30の外周端30bが、多重に閉塞されるので、気密空間23の気密信頼性がさらに向上される。図12は、圧力測定デバイスの変形例を示す断面図である。
本実施形態では、本発明に係るウェハレベルパッケージ構造体が、圧力を電気信号に変換する圧電素子を有するウェハレベルパッケージ構造体100に適用され、本発明に係るセンサエレメントが、圧力測定エレメント200に適用され、本発明に係るセンサデバイスが、圧力測定デバイス300に適用された例を示した。しかしながら、ウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイスそれぞれは、上記例に限定されず、様々な物理量を測定するセンサ素子に適用することができる。例えば、本発明に係るウェハレベルパッケージ構造体を、加速度を電気信号に変換する素子を有するウェハレベルパッケージ構造体に適用し、本発明に係るセンサエレメントを、加速度測定エレメントに適用し、本発明に係るセンサデバイスを、加速度測定デバイスに適用することができる。なお、加速度を検出する場合、上記したダイヤフラム13は、形成されない。
10・・・センサウェハ
20・・・パッケージウェハ
30・・・接合面
40・・・第1蒸着膜
41・・・熱酸化膜
42・・・第2蒸着膜
100・・・ウェハレベルパッケージ構造体
200・・・圧力測定エレメント
300・・・圧力測定デバイス

Claims (20)

  1. センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、
    前記センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハと、を有し、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体であって、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハとの接合面が環状に形成され、その環状の接合面における外周側の端部が、前記センサウェハと前記パッケージウェハそれぞれの外表面に形成された第1蒸着膜によって閉塞されていることを特徴とするウェハレベルパッケージ構造体。
  2. 前記第1蒸着膜は、絶縁蒸着膜であることを特徴とする請求項1に記載のウェハレベルパッケージ構造体。
  3. 前記第1蒸着膜は、金属蒸着膜であることを特徴とする請求項1に記載のウェハレベルパッケージ構造体。
  4. センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、
    前記センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハと、を有し、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体であって、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハとの接合面が環状に形成され、その環状の接合面における外周側の端部を含む、前記センサウェハと前記パッケージウェハそれぞれの表層に形成された熱酸化膜によって、前記接合面における外周側の端部が閉塞されていることを特徴とするウェハレベルパッケージ構造体。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のウェハレベルパッケージ構造体から、前記センサ本体のサイズに基づいて、規定のサイズに分割されてなることを特徴とするセンサエレメント。
  6. 請求項5に記載のセンサエレメントのセンサ本体に、前記センシング部と電気的に接続された配線パターンと、該配線パターンと電気的に接続され、外表面に少なくとも一部が露出した電極と、が形成され、
    前記電極とリードとが電気的に接続され、前記センサエレメントと前記リードとの電気的な接続部位が保護部材によって覆われていることを特徴とするセンサデバイス。
  7. 前記センサエレメントにおける前記保護部材から露出された表面に第2蒸着膜が形成され、
    前記接合面における外周側の端部が、第1蒸着膜と前記第2蒸着膜、若しくは、熱酸化膜と前記第2蒸着膜とによって閉塞されていることを特徴とする請求項6に記載のセンサデバイス。
  8. センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハと、前記センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハと、を有し、前記センサウェハと前記パッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体から、前記センサ本体のサイズに基づいて、規定のサイズに分割されてなるセンサエレメントと、
    該センサエレメントのセンサ本体に、前記センシング部と電気的に接続された配線パターンと、該配線パターンと電気的に接続され、外表面に少なくとも一部が露出した電極と、が形成され、
    前記電極とリードとが電気的に接続され、前記センサエレメントと前記リードとの電気的な接続部位が保護部材によって覆われており、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハとの接合面が環状に形成され、その環状の接合面における外周側の端部の一部が、前記保護部材から露出されており、
    前記接合面における前記保護部材から露出された外周側の端部が、前記センサエレメントにおける前記保護部材から露出された外表面に形成された第2蒸着膜によって閉塞されていることを特徴とするセンサデバイス。
  9. 前記第2蒸着膜は、前記センサエレメントの外表面だけではなく、前記保護部材の外表面にも形成されており、
    前記センサエレメントと前記保護部材との界面における外側の端部が、前記第2蒸着膜によって閉塞されていることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のセンサデバイス。
  10. 前記センシング部は、圧電素子であり、
    前記センサエレメントは、被測定媒体の圧力を測定する圧力測定エレメントであることを特徴とする請求項6〜9いずれか1項に記載のセンサデバイス。
  11. 前記センサウェハに、厚さが局所的に薄くなったダイヤフラムが形成され、前記ダイヤフラムに、前記圧電素子が形成されていることを特徴とする請求項10に記載のセンサデバイス。
  12. 前記第2蒸着膜は、絶縁蒸着膜であることを特徴とする請求項7〜11いずれか1項に記載のセンサデバイス。
  13. 前記第2蒸着膜は、金属蒸着膜であることを特徴とする請求項7〜11いずれか1項に記載のセンサデバイス。
  14. センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハ、及び、前記センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハを準備する準備工程と、
    真空雰囲気中で、前記センサウェハ及び前記パッケージウェハそれぞれの対向面における、前記センシング部に対応する領域毎に設けられた接合面を活性化する活性化工程と、
    該活性化工程後、真空雰囲気中で、前記センサウェハと前記パッケージウェハそれぞれの活性化された各接合面を接触させて、前記接合面同士を常温接合する常温接合工程と、
    1つの前記センサ本体に対応する、前記センサウェハと前記パッケージウェハとの接合面が環状に成り、且つ、その環状の接合面における外周側の端部が外部に露出されるように、前記センサウェハと前記パッケージウェハにおける、所定の距離を置いて隣接するセンサ本体の間の領域を、所定深さまで除去する除去工程と、
    外部に露出された前記接合面における外周側の端部を閉塞するように、前記センサウェハと前記パッケージウェハの外表面の少なくとも一部に、第1蒸着膜を形成する第1形成工程と、を有することを特徴とするウェハレベルパッケージ構造体の製造方法。
  15. センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハ、及び、前記センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハを準備する準備工程と、
    真空雰囲気中で、前記センサウェハ及び前記パッケージウェハそれぞれの対向面における、前記センシング部に対応する領域毎に設けられた接合面を活性化する活性化工程と、
    該活性化工程後、真空雰囲気中で、前記センサウェハと前記パッケージウェハそれぞれの活性化された各接合面を接触させて、前記接合面同士を常温接合する常温接合工程と、
    1つの前記センサ本体に対応する、前記センサウェハと前記パッケージウェハとの接合面が環状に成り、且つ、その環状の接合面における外周側の端部が外部に露出されるように、前記センサウェハと前記パッケージウェハにおける、所定の距離を置いて隣接するセンサ本体の間の領域を、所定深さまで除去する除去工程と、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハにおける、前記接合面の外周側の端部を含む表層を熱酸化することで、前記センサウェハと前記パッケージウェハの表層に熱酸化膜を形成して、前記接合面における外周側の端部を閉塞する熱酸化工程と、を有することを特徴とするウェハレベルパッケージ構造体の製造方法。
  16. 請求項14又は請求項15に記載のウェハレベルパッケージ構造体の製造方法を経て形成されたウェハレベルパッケージ構造体から、前記センサ本体のサイズに基づいて、規定のサイズ毎に分割するダイシング工程を有することを特徴とするセンサエレメントの製造方法。
  17. 請求項16に記載のセンサエレメントの製造方法を経て形成されたセンサエレメントのセンサ本体に、前記センシング部と電気的に接続された配線パターンと、該配線パターンと電気的に接続され、外表面に少なくとも一部が露出した電極と、が形成されており、
    前記電極とリードとを電気的に接続する接続工程と、
    前記センサエレメントと前記リードとの電気的な接続部位を保護部材によって覆うことで保護する保護工程と、を有することを特徴とするセンサデバイスの製造方法。
  18. 前記センサエレメントにおける前記保護部材から露出された外表面に、第2蒸着膜を形成する第2形成工程を有し、
    前記接合面における外周側の端部が、第1蒸着膜と前記第2蒸着膜、若しくは、熱酸化膜と前記第2蒸着膜とによって閉塞されていることを特徴とする請求項17に記載のセンサデバイスの製造方法。
  19. センシング部を有するセンサ本体が複数形成されたセンサウェハ、及び、前記センシング部を気密封止する空間を形成するための凹部が少なくとも1つ形成されたパッケージウェハを準備する準備工程と、
    真空雰囲気中で、前記センサウェハ及び前記パッケージウェハそれぞれの対向面における、前記センシング部に対応する領域毎に設けられた接合面を活性化する活性化工程と、
    該活性化工程後、真空雰囲気中で、前記センサウェハと前記パッケージウェハそれぞれの活性化された各接合面を接触させて、前記接合面同士を常温接合する常温接合工程と、
    前記センサウェハと前記パッケージウェハとが常温接合されてなるウェハレベルパッケージ構造体から、前記センサ本体のサイズに基づいて、規定のサイズ毎に分割することで、センサエレメントを複数形成するダイシング工程と、を備え、
    前記センサエレメントのセンサ本体に、前記センシング部と電気的に接続された配線パターンと、該配線パターンと電気的に接続され、外表面に少なくとも一部が露出した電極と、が形成されており、
    前記電極とリードとを電気的に接続する接続工程と、
    前記センサエレメントと前記リードとの電気的な接続部位を保護部材によって覆うことで保護する保護工程と、
    前記センサエレメントにおける、前記保護部材から露出された外表面に、第2蒸着膜を形成する第2形成工程と、を有し、
    前記ダイシング工程において、前記センサウェハと前記パッケージウェハとの接合面が環状となるように、前記ウェハレベルパッケージ構造体を前記センサエレメント毎に分割し、
    前記保護工程において、前記接合面における外周側の端部の一部が、前記保護部材から露出されるように、前記センサエレメントと前記リードとの電気的な接続部位を保護部材によって覆い、
    前記第2形成工程において、前記保護部材から露出された前記接合面の外周側の端部が閉塞されるように、前記第2蒸着膜を形成することを特徴とするセンサデバイスの製造方法。
  20. 前記第2形成工程において、前記センサエレメントと前記保護部材との界面における外側の端部が前記第2蒸着膜によって閉塞されるように、前記センサエレメントの外表面だけではなく、前記保護部材の外表面にも前記第2蒸着膜を形成することを特徴とする請求項18又は請求項19に記載のセンサデバイスの製造方法。
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