JP2011185634A - 分光センサー装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】分光センサー装置は、光源部110と、光源部110からの光を観察対象に照射することで得られる光が入射される分光センサー100を含む。分光センサー100は、透過波長が異なる複数の光バンドパスフィルター61〜64と、複数のフォトセンサー部31〜34を有する。第1の光バンドパスフィルター61は、第1の特定波長を透過する波長特性を有し、第2の光バンドパスフィルター62は、第1の特定波長とは異なる第2の特定波長を透過する波長特性を有する。第1のフォトセンサー31は、第1の光バンドパスフィルターを透過した第1の特定波長の光をセンシングし、第2のフォトセンサーは、第2の光バンドパスフィルターを透過した第2の特定波長の光をセンシングする。
【選択図】 図1
Description
上述のように、医療・健康等の分野では常時装着等が可能な小型の分光センサー装置が求められており、分光センサー装置の小型化が必要であるという課題がある。本実施形態では、光バンドパスフィルターを用いて特定の波長帯域を測定することで、分光センサー装置の小型化を実現する。
上記でも触れたように、本実施形態の分光センサー装置は種々の変形構成が可能である。図2(A)〜図5を用いて、この分光センサー装置の種々の変形例について説明する。
上述のように、連続スペクトルではなく、特定の測定波長のみを測定する分光センサーを用いることで、分光センサー装置の小型化を図ることができる。しかしながら、分光センサー自体の大きさにより分光センサー装置の大きさが制約されるという課題がある。
(光吸収物質)コンタクトに限らず、タングステン等の光吸収物質から成る配線層、アルミ等の光反射物質から成るコンタクトにより形成されてもよい。ただし、光吸収物質から成る程遮光性は高まる。
上記実施形態では、傾斜構造体50を半導体プロセスにより形成する構成例について説明したが、本実施形態では、種々の変形実施が可能である。
上述のように、光バンドパスフィルターの透過波長帯域は、多層薄膜の傾斜角度と角度制限フィルターの制限角度により設定される。この点について、図12(A)、図12(B)を用いて具体的に説明する。なお、説明を簡単にするために、以下では多層薄膜61、62の膜厚が同じ場合を例に説明するが、本実施形態では、多層薄膜61、62の膜厚が傾斜角θ1、θ2に応じて異なってもよい。例えば、薄膜のデポジションにおいて、半導体基板に対して垂直な方向に薄膜を成長させた場合、多層薄膜61、62の膜厚がcosθ1、cosθ2に比例してもよい。
図13〜図15を用いて、上記第1の詳細な構成例の分光センサーの製造方法例について説明する。
上記実施形態では、配線層により角度制限フィルターを形成する場合について説明したが、本実施形態では、シリコントレンチにより半導体基板の裏面に角度制限フィルターを形成してもよい。
図18〜図20を用いて、第2の詳細な構成例の分光センサーの製造方法例について説明する。
図21に、本実施形態の分光センサー装置を含む電子機器の構成例を示す。例えば、電子機器として、脈拍計、パルスオキシメーター、血糖値測定器、果実糖度計などが想定される。
41,42 角度制限フィルター、50 傾斜構造体、60 多層薄膜、
61,62 光バンドパスフィルター、70 絶縁層、80 接着層、
90 トレンチ、95 マイクロレンズアレイ、
100 分光センサー、110 光源部、111〜114 複数の光源、
120 遮光部材、130 表示パネル、140 操作入力部、150 EL用基板、
900 分光センサー装置、910 分光センサー、920 フォトダイオード、
930 検出回路、940 A/D変換回路、950 LED、
960 LEDドライバー、970 マイクロコンピューター、980 記憶装置、
990 表示装置、
BW1,BW2 透過波長帯域、LRA 受光領域、θ1,θ2 傾斜角度、
λ1,λ2透過波長
Claims (18)
- 検出対象となる複数の波長を含む波長帯域の光を照射する光源部と、
前記光源部からの光を観察対象に照射することで得られる光が入射される分光センサーと、
を含み、
前記分光センサーは、
透過波長が異なる複数の光バンドパスフィルターと、
複数のフォトセンサー部と、
を有し、
前記複数の光バンドパスフィルターのうちの第1の光バンドパスフィルターは、
第1の特定波長を透過する波長特性を有し、
前記複数の光バンドパスフィルターのうちの第2の光バンドパスフィルターは、
前記第1の特定波長とは異なる第2の特定波長を透過する波長特性を有し、
前記複数のフォトセンサーのうちの第1のフォトセンサーは、
前記第1の光バンドパスフィルターを透過した前記第1の特定波長の光をセンシングし、
前記複数のフォトセンサーのうちの第2のフォトセンサーは、
前記第2の光バンドパスフィルターを透過した前記第2の特定波長の光をセンシングすることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1において、
前記光源部からの光を観察対象に照射することで得られる反射光が前記分光センサーに入射する場合に、前記光源部から前記観察対象を介さずに前記分光センサーに入射する光を遮光する遮光部材を含むことを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項2において、
前記光源部は、
前記観察対象に対向する対向面を横切るように光を照射し、
前記分光センサーは、
前記対向面を横切って入射する光を受光し、
前記遮光部材は、
前記光源部と前記分光センサーとの間に設けられることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記複数のフォトセンサー部は、
前記観察対象に対向する対向面に対する平面視において、前記光源部の第1の方向側においてアレイ状に配置されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記複数のフォトセンサー部は、
前記観察対象に対向する対向面に対する平面視において、前記光源部の周囲に配置されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記光源部は、
前記観察対象に対向する対向面に対する平面視において、前記複数のフォトセンサー部の周囲に配置されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記光源部は、
複数の光源を含み、
前記複数の光源は、
前記観察対象に対向する対向面に対する平面視において、前記複数のフォトセンサー部の周囲に配置されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至7のいずれかにおいて、
前記複数のフォトセンサー部の受光領域に対する入射光の入射角度を制限するための角度制限フィルターを含むことを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項8において、
前記角度制限フィルターは、
前記複数のフォトセンサー部用の不純物領域の上に半導体プロセスによって形成された遮光物質によって形成されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項9において、
前記角度制限フィルターは、
前記半導体基板上に形成される他の回路の配線層形成工程により形成されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項9において、
前記角度制限フィルターは、
前記半導体基板の上に積層された絶縁膜に空けられたコンタクトホールの導電性プラグにより形成されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項9乃至11のいずれかにおいて、
前記角度制限フィルターを形成する前記遮光物質は、
光吸収物質または光反射物質であることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項8において、
前記角度制限フィルターは、
前記複数のフォトセンサー部用の不純物領域が形成される面が前記半導体基板の表面である場合に、前記半導体基板の裏面側から前記複数のフォトセンサー部用の不純物領域に対して受光用の穴を形成することによって残存する前記半導体基板により形成されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項13において、
前記受光用の穴を形成することによって残存する前記半導体基板の裏面と、前記受光用の穴の側面に、遮光物質が配されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項14において、
前記遮光物質は、
光吸収物質または光反射物質であることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至15のいずれかにおいて、
前記複数の光バンドパスフィルターは、
前記半導体基板に対して、透過波長に応じた角度で傾斜する多層薄膜により形成されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項16において、
前記角度制限フィルターの上に設けられた傾斜構造体を含み、
前記傾斜構造体は、
前記半導体基板に対して、前記複数の光バンドパスフィルターの透過波長に応じた角度で傾斜する傾斜面を有し、
前記多層薄膜は、
前記傾斜面の上に形成されることを特徴とする分光センサー装置。 - 請求項1乃至17のいずれかに記載された分光センサー装置を含むことを特徴とする電子機器。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010048848A JP5663900B2 (ja) | 2010-03-05 | 2010-03-05 | 分光センサー装置及び電子機器 |
KR1020110016272A KR20110101054A (ko) | 2010-03-05 | 2011-02-24 | 분광 센서 장치 및 전자 기기 |
US13/038,799 US8848187B2 (en) | 2010-03-05 | 2011-03-02 | Spectroscopic sensor device and electronic equipment |
EP11156872A EP2366985A3 (en) | 2010-03-05 | 2011-03-03 | Spectroscopic sensor device and electronic equipment |
US14/341,221 US9400213B2 (en) | 2010-03-05 | 2014-07-25 | Spectroscopic sensor device and electronic equipment |
US15/190,875 US10241033B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-06-23 | Spectroscopic sensor device and electronic equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010048848A JP5663900B2 (ja) | 2010-03-05 | 2010-03-05 | 分光センサー装置及び電子機器 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014250711A Division JP5862754B2 (ja) | 2014-12-11 | 2014-12-11 | 脈拍センサー及び脈拍計 |
JP2014250710A Division JP5862753B2 (ja) | 2014-12-11 | 2014-12-11 | 分光センサー装置及び電子機器 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011185634A true JP2011185634A (ja) | 2011-09-22 |
JP2011185634A5 JP2011185634A5 (ja) | 2013-04-11 |
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---|---|---|---|
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---|---|
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EP (1) | EP2366985A3 (ja) |
JP (1) | JP5663900B2 (ja) |
KR (1) | KR20110101054A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099509A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | ソニー株式会社 | 信号処理装置、および信号処理方法 |
JP2013156325A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Seiko Epson Corp | 分光センサー及び角度制限フィルター |
WO2014125804A1 (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-21 | パナソニック株式会社 | マルチスペクトル撮像装置およびマルチスペクトル撮像方法 |
JP2014190919A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Seiko Epson Corp | 分光センサー及びその製造方法 |
JP2014196909A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | セイコーエプソン株式会社 | 分光センサー及びその製造方法 |
US9034763B2 (en) | 2011-07-27 | 2015-05-19 | Seiko Epson Corporation | Sloped structure, method for manufacturing sloped structure, and spectrum sensor |
US9163984B2 (en) | 2011-03-17 | 2015-10-20 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and angle limiting filter |
US9443993B2 (en) | 2013-03-28 | 2016-09-13 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and method for manufacturing same |
US9867544B2 (en) | 2014-11-03 | 2018-01-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spectrometer including vertical stack structure and non-invasive biometric sensor including the spectrometer |
JP2018013359A (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | 凸版印刷株式会社 | Rfid機能を備えたカラーセンサおよび色情報取得システム |
CN109313295A (zh) * | 2016-06-03 | 2019-02-05 | 3M创新有限公司 | 具有空间变化微复制层的光学滤光器 |
US11982618B2 (en) | 2020-05-18 | 2024-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of calibrating optical sensor, optical sensor, and apparatus for estimating bio-information |
Families Citing this family (65)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5663900B2 (ja) | 2010-03-05 | 2015-02-04 | セイコーエプソン株式会社 | 分光センサー装置及び電子機器 |
JP5663918B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2015-02-04 | セイコーエプソン株式会社 | 光センサー及び分光センサー |
JP5948007B2 (ja) | 2010-03-29 | 2016-07-06 | セイコーエプソン株式会社 | 分光センサー及び分光フィルター |
JP5589515B2 (ja) | 2010-04-05 | 2014-09-17 | セイコーエプソン株式会社 | 傾斜構造体の製造方法 |
JP5862025B2 (ja) * | 2011-03-16 | 2016-02-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光学センサー及び電子機器 |
JP5810565B2 (ja) * | 2011-03-16 | 2015-11-11 | セイコーエプソン株式会社 | 光学センサー及び電子機器 |
JP5803419B2 (ja) | 2011-08-19 | 2015-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 傾斜構造体、傾斜構造体の製造方法、及び分光センサー |
CN104040309B (zh) | 2011-11-03 | 2019-06-07 | 威利食品有限公司 | 用于最终使用者食品分析的低成本光谱测定系统 |
WO2013102858A1 (en) * | 2012-01-02 | 2013-07-11 | Udayan Kanade | Apparatus for and method of measuring spectral information of an object or material |
US20150107650A1 (en) * | 2012-01-24 | 2015-04-23 | AMI Research & Development, LLC | Monolithic broadband energy collector with detector position depending on wavelength |
US9281424B2 (en) | 2012-01-24 | 2016-03-08 | AMI Research & Development, LLC | Wideband light energy waveguide and detector |
JP6095268B2 (ja) * | 2012-02-24 | 2017-03-15 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置、及び撮像システム |
JP6015034B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2016-10-26 | セイコーエプソン株式会社 | 光学センサー及び電子機器 |
JP6278625B2 (ja) | 2012-07-30 | 2018-02-14 | キヤノン株式会社 | 測色装置及びそれを備える画像形成装置 |
KR101425971B1 (ko) * | 2012-11-28 | 2014-08-05 | 주식회사 맥사이언스 | 광 측정장치 및 제어방법, 그리고 광 측정방법 |
ITTO20130538A1 (it) | 2013-06-28 | 2014-12-28 | St Microelectronics Srl | Sistema e metodo di misura di frequenza di oscillazione per un sensore mems e corrispondente sensore mems |
CN105593651B (zh) | 2013-08-02 | 2019-06-07 | 威利食品有限公司 | 光谱测定系统和方法、光谱设备和系统 |
US9557480B2 (en) | 2013-11-06 | 2017-01-31 | R.A. Miller Industries, Inc. | Graphene coupled MIM rectifier especially for use in monolithic broadband infrared energy collector |
EP2873953A1 (en) * | 2013-11-13 | 2015-05-20 | ams AG | Light sensor arrangement and spectrometer |
JP2017505901A (ja) | 2014-01-03 | 2017-02-23 | ベリフード, リミテッドVerifood, Ltd. | 分光システム、方法、および用途 |
EP3209983A4 (en) | 2014-10-23 | 2018-06-27 | Verifood Ltd. | Accessories for handheld spectrometer |
WO2016125165A2 (en) | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Verifood, Ltd. | Spectrometry system with visible aiming beam |
WO2016125164A2 (en) | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Verifood, Ltd. | Spectrometry system applications |
WO2016162865A1 (en) | 2015-04-07 | 2016-10-13 | Verifood, Ltd. | Detector for spectrometry system |
US10066990B2 (en) | 2015-07-09 | 2018-09-04 | Verifood, Ltd. | Spatially variable filter systems and methods |
US9933546B2 (en) * | 2015-09-24 | 2018-04-03 | Baker Hughes, A Ge Company, Llc | Displacement measurements using a multi-cavity sensor |
JP6623685B2 (ja) * | 2015-10-29 | 2019-12-25 | セイコーエプソン株式会社 | 測定装置及び印刷装置 |
US10203246B2 (en) | 2015-11-20 | 2019-02-12 | Verifood, Ltd. | Systems and methods for calibration of a handheld spectrometer |
EP3182079B1 (en) * | 2015-12-14 | 2023-08-23 | ams AG | Optical sensing device and method for manufacturing an optical sensing device |
US10254215B2 (en) | 2016-04-07 | 2019-04-09 | Verifood, Ltd. | Spectrometry system applications |
JP7497956B2 (ja) | 2016-05-13 | 2024-06-11 | スミス アンド ネフュー ピーエルシー | センサが使用可能な創傷監視および治療装置 |
KR102649915B1 (ko) | 2016-06-21 | 2024-03-22 | 삼성전자 주식회사 | 분광 센서 제어 방법 및 이를 지원하는 전자 장치 |
EP3488204A4 (en) | 2016-07-20 | 2020-07-22 | Verifood Ltd. | ACCESSORIES FOR HANDLABLE SPECTROMETERS |
US10791933B2 (en) | 2016-07-27 | 2020-10-06 | Verifood, Ltd. | Spectrometry systems, methods, and applications |
US10918322B2 (en) | 2017-02-13 | 2021-02-16 | Apple Inc. | Light restriction designs in optical sensing applications having shared windows |
US11690570B2 (en) | 2017-03-09 | 2023-07-04 | Smith & Nephew Plc | Wound dressing, patch member and method of sensing one or more wound parameters |
US11324424B2 (en) | 2017-03-09 | 2022-05-10 | Smith & Nephew Plc | Apparatus and method for imaging blood in a target region of tissue |
US11883262B2 (en) | 2017-04-11 | 2024-01-30 | Smith & Nephew Plc | Component positioning and stress relief for sensor enabled wound dressings |
CA3062989A1 (en) | 2017-05-15 | 2018-11-22 | Smith & Nephew Plc | Wound analysis device and method |
US10578547B2 (en) | 2017-05-15 | 2020-03-03 | International Business Machines Corporation | On-chip spectroscopic sensors with optical fringe suppression |
WO2018234443A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | Smith & Nephew Plc | POSITIONING SENSORS FOR MONITORING OR PROCESSING SENSOR ACTIVATED WAFER |
GB201804502D0 (en) | 2018-03-21 | 2018-05-02 | Smith & Nephew | Biocompatible encapsulation and component stress relief for sensor enabled negative pressure wound therapy dressings |
GB201809007D0 (en) | 2018-06-01 | 2018-07-18 | Smith & Nephew | Restriction of sensor-monitored region for sensor-enabled wound dressings |
SG11202000913XA (en) | 2017-08-10 | 2020-02-27 | Smith & Nephew | Positioning of sensors for sensor enabled wound monitoring or therapy |
GB201718870D0 (en) | 2017-11-15 | 2017-12-27 | Smith & Nephew Inc | Sensor enabled wound therapy dressings and systems |
EP3681376A1 (en) | 2017-09-10 | 2020-07-22 | Smith & Nephew PLC | Systems and methods for inspection of encapsulation and components in sensor equipped wound dressings |
GB201804971D0 (en) | 2018-03-28 | 2018-05-09 | Smith & Nephew | Electrostatic discharge protection for sensors in wound therapy |
GB201718859D0 (en) | 2017-11-15 | 2017-12-27 | Smith & Nephew | Sensor positioning for sensor enabled wound therapy dressings and systems |
CN111132605B (zh) | 2017-09-27 | 2023-05-16 | 史密夫及内修公开有限公司 | 用于实施传感器的负压伤口监测和治疗设备的pH感测 |
WO2019072531A1 (en) | 2017-09-28 | 2019-04-18 | Smith & Nephew Plc | NEUROSTIMULATION AND MONITORING USING A SENSOR ACTIVATED WOUND SURVEILLANCE AND TREATMENT APPARATUS |
CN111343950A (zh) | 2017-11-15 | 2020-06-26 | 史密夫及内修公开有限公司 | 实施传感器的集成伤口监测和/或治疗敷料和系统 |
JP2019132605A (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-08 | 株式会社Jvcケンウッド | 分光器 |
DE102018202777A1 (de) * | 2018-02-23 | 2019-08-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Farbsensor mit Mikrolinsen umfassenden winkelselektiven Strukturen |
DE102018104936A1 (de) * | 2018-03-05 | 2019-09-05 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils |
WO2020013865A1 (en) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | Halliburton Energy Services, Inc. | Thin film multivariate optical element and detector combinations, thin film optical detectors, and downhole optical computing systems |
KR102576868B1 (ko) * | 2018-07-31 | 2023-09-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
US11944418B2 (en) | 2018-09-12 | 2024-04-02 | Smith & Nephew Plc | Device, apparatus and method of determining skin perfusion pressure |
GB201820927D0 (en) | 2018-12-21 | 2019-02-06 | Smith & Nephew | Wound therapy systems and methods with supercapacitors |
WO2020187851A1 (en) | 2019-03-18 | 2020-09-24 | Smith & Nephew Plc | Design rules for sensor integrated substrates |
GB201914443D0 (en) | 2019-10-07 | 2019-11-20 | Smith & Nephew | Sensor enabled negative pressure wound monitoring apparatus with different impedances inks |
KR20210062974A (ko) | 2019-11-22 | 2021-06-01 | 삼성전자주식회사 | 생체 신호를 측정하는 전자 장치 및 방법 |
EP4073577A1 (en) | 2019-12-11 | 2022-10-19 | Rockley Photonics Limited | Optical sensing module |
CN113075138A (zh) * | 2020-01-03 | 2021-07-06 | 北京小米移动软件有限公司 | 目标特征的状态识别方法及装置、电子设备 |
DE102020130020A1 (de) | 2020-11-13 | 2022-05-19 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Spektrometer mit optimierter detektoranordnung |
CN115900949A (zh) * | 2021-09-23 | 2023-04-04 | 光宝科技新加坡私人有限公司 | 具有膜层结构的梳状滤光片以及微型光谱测量装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0587537U (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-26 | カルソニック株式会社 | 自動車用空気調和装置の日射量検出センサー |
JPH06129908A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-13 | Hamamatsu Photonics Kk | 分光イメージングセンサ |
JPH07167710A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-04 | Nippondenso Co Ltd | 日射センサ |
JP2000031510A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Tdk Corp | 波長選択型光検出器 |
JP2000150849A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-30 | Toshiba Corp | 増幅型固体撮像装置 |
JP2001237404A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 増幅型固体撮像装置 |
JP2003090907A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Sony Corp | 光学装置 |
JP2003174155A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Hamamatsu Photonics Kk | 撮像装置 |
Family Cites Families (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4222667A (en) * | 1977-08-24 | 1980-09-16 | Martin Marietta Corporation | Fizeau fringe light evaluator and method |
JPS61162515A (ja) | 1985-01-11 | 1986-07-23 | Nec Corp | 樹脂組成物及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置 |
JPH0615988B2 (ja) | 1985-03-08 | 1994-03-02 | 日本電気株式会社 | 多素子形赤外線検出器の製造方法 |
US4894700A (en) * | 1985-04-09 | 1990-01-16 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image sensor |
JPS62139627A (ja) | 1985-12-13 | 1987-06-23 | シチズン時計株式会社 | 脈拍検出装置の検出手段 |
DE3810291A1 (de) * | 1987-03-30 | 1988-10-27 | Toshiba Kawasaki Kk | Sonnensensor |
US5564417A (en) | 1991-01-24 | 1996-10-15 | Non-Invasive Technology, Inc. | Pathlength corrected oximeter and the like |
US5873821A (en) | 1992-05-18 | 1999-02-23 | Non-Invasive Technology, Inc. | Lateralization spectrophotometer |
US6183414B1 (en) | 1999-04-26 | 2001-02-06 | Michael S. Wysor | Technique for restoring plasticity to tissues of a male or female organ |
US6708048B1 (en) | 1989-02-06 | 2004-03-16 | Non-Invasive Technology, Inc. | Phase modulation spectrophotometric apparatus |
JP2766317B2 (ja) | 1989-06-22 | 1998-06-18 | コーリン電子株式会社 | パルスオキシメータ |
US5144498A (en) * | 1990-02-14 | 1992-09-01 | Hewlett-Packard Company | Variable wavelength light filter and sensor system |
US5170786A (en) * | 1990-09-28 | 1992-12-15 | Novametrix Medical Systems, Inc. | Reusable probe system |
US6246892B1 (en) | 1991-01-24 | 2001-06-12 | Non-Invasive Technology | Phase modulation spectroscopy |
US6263221B1 (en) | 1991-01-24 | 2001-07-17 | Non-Invasive Technology | Quantitative analyses of biological tissue using phase modulation spectroscopy |
US6549795B1 (en) | 1991-05-16 | 2003-04-15 | Non-Invasive Technology, Inc. | Spectrophotometer for tissue examination |
WO1992020273A2 (en) | 1991-05-16 | 1992-11-26 | Nim Incorporated | Measuring metabolic conditions with hemoglobinometers |
US6785568B2 (en) | 1992-05-18 | 2004-08-31 | Non-Invasive Technology Inc. | Transcranial examination of the brain |
US6397099B1 (en) | 1992-05-18 | 2002-05-28 | Non-Invasive Technology, Inc. | Non-invasive imaging of biological tissue |
US5594236A (en) * | 1993-12-14 | 1997-01-14 | Nippondenso Co., Ltd. | Sunlight sensor |
JPH0894831A (ja) | 1994-09-26 | 1996-04-12 | Olympus Optical Co Ltd | カラーフィルター |
US5615673A (en) * | 1995-03-27 | 1997-04-01 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and methods of raman spectroscopy for analysis of blood gases and analytes |
US6211916B1 (en) * | 1996-03-11 | 2001-04-03 | Eastman Kodak Company | Solid state imager with inorganic lens array |
US5879294A (en) * | 1996-06-28 | 1999-03-09 | Hutchinson Technology Inc. | Tissue chromophore measurement system |
US7890158B2 (en) | 2001-06-05 | 2011-02-15 | Lumidigm, Inc. | Apparatus and method of biometric determination using specialized optical spectroscopy systems |
US6521882B1 (en) | 1998-03-27 | 2003-02-18 | Denso Corporation | Optical sensor with directivity controlled |
US6424416B1 (en) | 1999-10-25 | 2002-07-23 | Textron Systems Corporation | Integrated optics probe for spectral analysis |
US6362888B1 (en) | 1999-12-23 | 2002-03-26 | Lj Laboratories, L.L.C. | Spectrometer assembly |
US6653617B2 (en) * | 2000-07-03 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion device |
US6639669B2 (en) * | 2001-09-10 | 2003-10-28 | Xerox Corporation | Diagnostics for color printer on-line spectrophotometer control system |
JP2003310579A (ja) | 2002-04-24 | 2003-11-05 | Nippon Colin Co Ltd | 生体監視装置 |
KR100722897B1 (ko) | 2002-07-26 | 2007-05-31 | 올림푸스 가부시키가이샤 | 화상 처리 시스템 |
KR20040031119A (ko) * | 2002-10-04 | 2004-04-13 | (주)그래픽테크노재팬 | 화소격리영역을 갖는 이미지 센서 |
EP1620714B1 (en) | 2003-04-15 | 2014-03-12 | Senseonics, Incorporated | System and method for attenuating the effect of ambient light on an optical sensor |
US7315378B2 (en) * | 2003-06-04 | 2008-01-01 | Inverness Medical Switzerland Gmbh | Optical arrangement for assay reading device |
KR100541708B1 (ko) * | 2004-02-05 | 2006-01-10 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 이미지 센서 및 이의 제조 방법 |
EP1785089B1 (en) * | 2004-11-12 | 2010-07-21 | Panasonic Corporation | Bioinformation measuring optical element and bioinformation measuring instrument using same |
US7345330B2 (en) * | 2004-12-09 | 2008-03-18 | Omnivision Technologies, Inc. | Local interconnect structure and method for a CMOS image sensor |
FR2880731B1 (fr) | 2005-01-11 | 2007-04-27 | Commissariat Energie Atomique | Composant, notamment avec des elements actifs, et procede de realisation d'un tel composant |
JP4806197B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2011-11-02 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置 |
US7935994B2 (en) | 2005-02-24 | 2011-05-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Light shield for CMOS imager |
ITMI20050756A1 (it) | 2005-04-27 | 2006-10-28 | Satrind Srl | Trituratore per scarti a due pressori |
JP4836498B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-12-14 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置及びカメラ |
JP5040088B2 (ja) | 2005-09-12 | 2012-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | 固体撮像素子 |
US7751667B2 (en) | 2005-12-21 | 2010-07-06 | Xerox Corporation | Microfabricated light collimating screen |
US7355714B2 (en) * | 2005-12-29 | 2008-04-08 | Xerox Corporation | Reconfigurable MEMS fabry-perot tunable matrix filter systems and methods |
US8053816B2 (en) * | 2006-03-10 | 2011-11-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2007335554A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US7466002B2 (en) | 2006-06-19 | 2008-12-16 | Mitutoyo Corporation | Incident light angle detector for light sensitive integrated circuit |
WO2008017490A2 (de) | 2006-08-09 | 2008-02-14 | Opsolution Nanophotonics Gmbh | Optisches filter und verfahren zur herstellung desselben, sowie vorrichtung zur untersuchung elektromagnetischer strahlung |
DE102006039073A1 (de) | 2006-08-09 | 2008-02-14 | Opsolution Gmbh | Vorrichtung zur Untersuchung der spektralen und örtlichen Verteilung einer elektromagnetischen, von einem Gegenstand ausgehenden Strahlung |
JP2008237686A (ja) | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 伸縮可能センサ及び該センサを用いた体調管理装置 |
JP5369441B2 (ja) * | 2008-01-24 | 2013-12-18 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子 |
KR20090101084A (ko) | 2008-03-21 | 2009-09-24 | 후지논 가부시키가이샤 | 촬상 필터 |
EP2342578B1 (en) | 2008-10-10 | 2014-08-20 | Koninklijke Philips N.V. | Light directionality sensor |
JP5663900B2 (ja) | 2010-03-05 | 2015-02-04 | セイコーエプソン株式会社 | 分光センサー装置及び電子機器 |
US9693716B2 (en) * | 2011-03-09 | 2017-07-04 | Medtronic, Inc. | Optical sensor system and measurement method |
-
2010
- 2010-03-05 JP JP2010048848A patent/JP5663900B2/ja active Active
-
2011
- 2011-02-24 KR KR1020110016272A patent/KR20110101054A/ko active IP Right Grant
- 2011-03-02 US US13/038,799 patent/US8848187B2/en active Active
- 2011-03-03 EP EP11156872A patent/EP2366985A3/en not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-07-25 US US14/341,221 patent/US9400213B2/en active Active
-
2016
- 2016-06-23 US US15/190,875 patent/US10241033B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0587537U (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-26 | カルソニック株式会社 | 自動車用空気調和装置の日射量検出センサー |
JPH06129908A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-13 | Hamamatsu Photonics Kk | 分光イメージングセンサ |
JPH07167710A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-04 | Nippondenso Co Ltd | 日射センサ |
JP2000031510A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Tdk Corp | 波長選択型光検出器 |
JP2000150849A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-30 | Toshiba Corp | 増幅型固体撮像装置 |
JP2001237404A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 増幅型固体撮像装置 |
JP2003090907A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Sony Corp | 光学装置 |
JP2003174155A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Hamamatsu Photonics Kk | 撮像装置 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9163984B2 (en) | 2011-03-17 | 2015-10-20 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and angle limiting filter |
US9709715B2 (en) | 2011-03-17 | 2017-07-18 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and angle limiting filter |
US9034763B2 (en) | 2011-07-27 | 2015-05-19 | Seiko Epson Corporation | Sloped structure, method for manufacturing sloped structure, and spectrum sensor |
WO2013099509A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | ソニー株式会社 | 信号処理装置、および信号処理方法 |
JP2013156325A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Seiko Epson Corp | 分光センサー及び角度制限フィルター |
US9843740B2 (en) | 2013-02-13 | 2017-12-12 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Multispectral imaging device and multispectral imaging method |
WO2014125804A1 (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-21 | パナソニック株式会社 | マルチスペクトル撮像装置およびマルチスペクトル撮像方法 |
JP2014190919A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Seiko Epson Corp | 分光センサー及びその製造方法 |
US9443993B2 (en) | 2013-03-28 | 2016-09-13 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and method for manufacturing same |
JP2014196909A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | セイコーエプソン株式会社 | 分光センサー及びその製造方法 |
US9867544B2 (en) | 2014-11-03 | 2018-01-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spectrometer including vertical stack structure and non-invasive biometric sensor including the spectrometer |
CN109313295A (zh) * | 2016-06-03 | 2019-02-05 | 3M创新有限公司 | 具有空间变化微复制层的光学滤光器 |
JP2019518243A (ja) * | 2016-06-03 | 2019-06-27 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 空間的に変異する微細複製層を有する光学フィルタ |
JP7257146B2 (ja) | 2016-06-03 | 2023-04-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 空間的に変異する微細複製層を有する光学フィルタ |
JP2018013359A (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | 凸版印刷株式会社 | Rfid機能を備えたカラーセンサおよび色情報取得システム |
US11982618B2 (en) | 2020-05-18 | 2024-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of calibrating optical sensor, optical sensor, and apparatus for estimating bio-information |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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