JP2011176195A - 窒化物半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】窒化物半導体装置80では、第2のリセスエッチングによりアンドープGaN層3の上部に突起部51が設けられる。突起部51上には、上部が第1のリセスエッチングにより形成されたアンドープAlGaN層4aが設けられる。積層部7は、アンドープGaN層3の突起部51、アンドープAlGaN層4a、及び絶縁膜5から構成される。トレンチ部8は、絶縁膜5、アンドープAlGaN層4a、及びアンドープGaN層3表面がリセスエッチングされたものである。積層部7及びトレンチ部8上にはゲート絶縁膜6が設けられる。ゲート絶縁膜6上には、トレンチ部8を覆うようにゲート電極33が設けられる。絶縁膜5はゲート絶縁膜6よりも膜厚が厚く設定されている。
【選択図】 図2
Description
(付記1) 半導体基板と、前記半導体基板上に設けられるバッファ層と、前記バッファ層上に設けられるGaN層と、前記GaN層上に設けられるAlGaN層と、前記GaN層の上部に周囲がリセスエッチングされ、リセスエッチングされずに残置された突起部と、上部がリセスエッチングされ、前記突起部上に設けられるAlGaN層と、前記突起部上に前記上部がリセスエッチングされたAlGaN層を介して設けられる絶縁膜とが積層形成されるストライプ状の積層部と、前記積層部の両側に配置され、上部がリセスエッチングされた前記AlGaN層がストライプ方向でリセスエッチングされ、前記GaN層表面が露呈されるストライプ状のトレンチ部と、前記積層部の周囲及び前記トレンチ部上に設けられ、前記絶縁膜よりも膜厚が薄いゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に設けられるゲート電極と、前記ゲート電極を挟んで相対向するように配置されるソース電極及びドレイン電極とを具備し、エンハンスメント型電界効果トランジスタである窒化物半導体装置。
2 バッファ層
3 アンドープGaN層
4、4a アンドープAlGaN層
5 絶縁膜
6 ゲート絶縁膜
7、7a、7b 積層部
8、8b トレンチ部
9、10 界面
21 P型GaN層
22 アンドープInGaN層
31 ソース電極
32 ドレイン電極
33、33a、33b ゲート電極
34 素子領域
41、42、44 リセス領域
43 非リセス領域
51 突起部
80〜83、90 窒化物半導体装置
T1、T2 膜厚
W1 積層部幅
W2 トレンチ幅
Claims (5)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に、直接或いはバッファ層を介して設けられる第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に設けられる第2の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層の上部に周囲がリセスエッチングされ、リセスエッチングされずに残置された突起部と、上部がリセスエッチングされ、前記突起部上に設けられる第2の窒化物半導体層と、前記突起部上に前記上部がリセスエッチングされた第2の窒化物半導体層を介して設けられる絶縁膜とが積層形成されるストライプ状の積層部と、
前記積層部の両側に配置され、上部がリセスエッチングされた前記第2の窒化物半導体層がストライプ方向でリセスエッチングされ、前記第1の窒化物半導体層表面が露呈されるストライプ状のトレンチ部と、
前記積層部の側面と前記積層部及び前記トレンチ部上に設けられ、前記絶縁膜よりも膜厚が薄いゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に設けられるゲート電極と、
前記ゲート電極を挟んで相対向するように配置されるソース電極及びドレイン電極と、
を具備することを特徴とする窒化物半導体装置。 - 半導体基板と、
前記半導体基板上に、直接或いはバッファ層を介して設けられる第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に設けられる第2の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層の上部に周囲がリセスエッチングされ、リセスエッチングされずに残置された突起部と、上部がリセスエッチングされ、前記突起部上に設けられる第2の窒化物半導体層と、前記突起部上に前記上部がリセスエッチングされた第2の窒化物半導体層を介して設けられる絶縁膜とが積層形成されるストライプ状の積層部と、
前記積層部の両側に配置され、上部がリセスエッチングされた前記第2の窒化物半導体層がストライプ方向でリセスエッチングされ、前記第1の窒化物半導体層表面が露呈されるトレンチ部と、
前記積層部の側面と前記積層部及び前記トレンチ部上に設けられるゲート絶縁膜と、
前記トレンチ部に前記ゲート絶縁膜を介して埋設されるゲート電極と、
前記ゲート電極を挟んで相対向するように配置されるソース電極及びドレイン電極と、
を具備することを特徴とする窒化物半導体装置。 - 前記第1の窒化物半導体層はGaN層であり、前記第2の窒化物半導体層はAlGaN層であり、エンハンメント型電界効果トランジスタであることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物半導体装置。
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に、直接或いはバッファ層を介して設けられる第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に設けられる第2の窒化物半導体層と、
前記第2の窒化物半導体層上に設けられる第3の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層の上部に周囲がリセスエッチングされ、リセスエッチングされずに残置された突起部と、前記突起部上の第2の窒化物半導体層と、前記突起部上に前記第2の窒化物半導体層を介して設けられる前記第3の窒化物半導体層と、及び前記突起部上に前記第2及び第3の窒化物半導体層を介して設けられる絶縁膜とが積層形成されるストライプ状の積層部と、
前記積層部の両側に配置され、前記第2及び第3の窒化物半導体層がストライプ方向でリセスエッチングされ、前記第1の窒化物半導体層表面が露呈されるストライプ状のトレンチ部と、
前記積層部の側面と前記積層部及び前記トレンチ部上に設けられ、前記絶縁膜よりも膜厚が薄いゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に設けられるゲート電極と、
前記ゲート電極を挟んで相対向するように配置されるソース電極及びドレイン電極と、
を具備することを特徴とする窒化物半導体装置。 - 前記第1の窒化物半導体層はGaN層であり、前記第2の窒化物半導体層はAlGaN層であり、前記第3の窒化物半導体層はInGaN層であり、エンハンメント型電界効果トランジスタであることを特徴とする請求項4に記載の窒化物半導体装置。
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