JP2011176132A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5618663B2 (ja) * 2010-07-15 2014-11-05 株式会社東芝 インプリント用のテンプレート及びパターン形成方法
JP2013074115A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Fujifilm Corp ナノインプリント装置およびナノインプリント方法、並びに、歪み付与デバイスおよび歪み付与方法
JP5686779B2 (ja) * 2011-10-14 2015-03-18 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6159072B2 (ja) 2011-11-30 2017-07-05 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP5868215B2 (ja) 2012-02-27 2016-02-24 キヤノン株式会社 インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP6029494B2 (ja) 2012-03-12 2016-11-24 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6071221B2 (ja) * 2012-03-14 2017-02-01 キヤノン株式会社 インプリント装置、モールド、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6060796B2 (ja) * 2013-04-22 2017-01-18 大日本印刷株式会社 インプリントモールド及びダミーパターン設計方法
JP6361238B2 (ja) * 2013-04-23 2018-07-25 大日本印刷株式会社 インプリント用モールドおよびインプリント方法
JP2014229670A (ja) * 2013-05-20 2014-12-08 株式会社東芝 パターン形成方法及びパターン形成装置
JP6282069B2 (ja) 2013-09-13 2018-02-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、検出方法及びデバイス製造方法
US10359696B2 (en) 2013-10-17 2019-07-23 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, and method of manufacturing article
JP6541328B2 (ja) * 2013-11-26 2019-07-10 キヤノン株式会社 検出装置、インプリント装置、および物品の製造方法
JP6294680B2 (ja) * 2014-01-24 2018-03-14 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
JP5932859B2 (ja) 2014-02-18 2016-06-08 キヤノン株式会社 検出装置、インプリント装置、および物品の製造方法
JP2015170815A (ja) * 2014-03-10 2015-09-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、アライメント方法及び物品の製造方法
KR102154561B1 (ko) * 2014-04-01 2020-09-10 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 임프린트용 몰드 및 임프린트 방법
JP6415120B2 (ja) 2014-06-09 2018-10-31 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6420571B2 (ja) * 2014-06-13 2018-11-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6394114B2 (ja) * 2014-06-27 2018-09-26 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法およびテンプレート
JP6076946B2 (ja) 2014-08-04 2017-02-08 大日本印刷株式会社 ローラーインプリント用モールドとインプリント方法およびワイヤーグリッド偏光子とその製造方法
JP6472189B2 (ja) * 2014-08-14 2019-02-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6632270B2 (ja) * 2014-09-08 2020-01-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6429573B2 (ja) * 2014-10-03 2018-11-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP6549834B2 (ja) * 2014-11-14 2019-07-24 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6674218B2 (ja) * 2014-12-09 2020-04-01 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
US10747106B2 (en) 2014-12-09 2020-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus
JP6525628B2 (ja) * 2015-02-13 2019-06-05 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6700794B2 (ja) * 2015-04-03 2020-05-27 キヤノン株式会社 インプリント材吐出装置
JP6685821B2 (ja) * 2016-04-25 2020-04-22 キヤノン株式会社 計測装置、インプリント装置、物品の製造方法、光量決定方法、及び、光量調整方法
JP2016149578A (ja) * 2016-05-11 2016-08-18 大日本印刷株式会社 ナノインプリント用レプリカテンプレートの製造方法
KR102336560B1 (ko) * 2016-05-25 2021-12-08 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 템플릿 및 템플릿 블랭크, 그리고 임프린트용 템플릿 기판의 제조 방법, 임프린트용 템플릿의 제조 방법 및 템플릿
JP2017034276A (ja) * 2016-10-20 2017-02-09 大日本印刷株式会社 インプリント用モールドとインプリント方法
US11175598B2 (en) * 2017-06-30 2021-11-16 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of manufacturing article
JP7089348B2 (ja) 2017-07-28 2022-06-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7027099B2 (ja) * 2017-09-29 2022-03-01 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6579217B2 (ja) * 2018-04-24 2019-09-25 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法およびテンプレート
US10759116B2 (en) * 2018-09-14 2020-09-01 Intrepid Automation Additive manufactured parts with smooth surface finishes
JP7278135B2 (ja) * 2019-04-02 2023-05-19 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP7374666B2 (ja) * 2019-08-29 2023-11-07 キヤノン株式会社 インプリント方法、前処理装置、インプリント用基板、および基板の製造方法
JP7384012B2 (ja) * 2019-12-05 2023-11-21 大日本印刷株式会社 インプリントモールド及びその製造方法、並びにインプリント方法
CN112835276A (zh) * 2020-12-31 2021-05-25 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 对准系统及其控制方法、激光直写曝光设备
CN113314451B (zh) * 2021-06-10 2022-08-02 哈尔滨工业大学 一种基于莫尔条纹的晶圆键合对准系统及方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2264524A3 (en) * 2000-07-16 2011-11-30 The Board of Regents of The University of Texas System High-resolution overlay alignement methods and systems for imprint lithography
US6926929B2 (en) * 2002-07-09 2005-08-09 Molecular Imprints, Inc. System and method for dispensing liquids
US7309225B2 (en) * 2004-08-13 2007-12-18 Molecular Imprints, Inc. Moat system for an imprint lithography template
JP2006165371A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc 転写装置およびデバイス製造方法
JP2006245072A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Canon Inc パターン転写用モールドおよび転写装置
JP4330168B2 (ja) * 2005-09-06 2009-09-16 キヤノン株式会社 モールド、インプリント方法、及びチップの製造方法
US7690910B2 (en) * 2006-02-01 2010-04-06 Canon Kabushiki Kaisha Mold for imprint, process for producing minute structure using the mold, and process for producing the mold
JP4185941B2 (ja) 2006-04-04 2008-11-26 キヤノン株式会社 ナノインプリント方法及びナノインプリント装置
CN101059650A (zh) * 2006-04-18 2007-10-24 佳能株式会社 图案转印设备、压印设备和图案转印方法
JP4819577B2 (ja) * 2006-05-31 2011-11-24 キヤノン株式会社 パターン転写方法およびパターン転写装置
JP5061525B2 (ja) * 2006-08-04 2012-10-31 株式会社日立製作所 インプリント方法及びインプリント装置
JP5404140B2 (ja) * 2009-04-01 2014-01-29 株式会社東芝 テンプレート及び半導体装置の製造方法
NL2004932A (en) * 2009-07-27 2011-01-31 Asml Netherlands Bv Imprint lithography template.

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