JP2011174184A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011174184A5 JP2011174184A5 JP2011086619A JP2011086619A JP2011174184A5 JP 2011174184 A5 JP2011174184 A5 JP 2011174184A5 JP 2011086619 A JP2011086619 A JP 2011086619A JP 2011086619 A JP2011086619 A JP 2011086619A JP 2011174184 A5 JP2011174184 A5 JP 2011174184A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal foil
- porous metal
- release layer
- glossiness
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
一方、集電体としての金属箔にプライマーを塗布して電池特性を向上することが知られている。例えば、特許文献4ではリチウムポリシリケートおよび所望により炭素質成分を含むプライマーを集電体の表面に塗布することが開示されている。また、特許文献5には集電体基材としての金属箔や金属メッシュまたはパンチングメタルのような面状部材の上に、炭素粉末、炭素繊維、導電性ポリマー等の1種または2種以上からなる導電助剤を、バインダーを用いて固定することが開示されている。
剥離層13の形成方法は、特に限定されず、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング法、物理気相蒸着法(PVD)、化学気相蒸着法(CVD)、ゾルゲル法、イオンプレーティング法等の種々の成膜方法が採用可能である。製造効率等の観点から、剥離層13も電解めっきで形成されるのが好ましい。剥離層13には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて熱処理および/または研磨がさらに施されてもよい。すなわち、研磨は、表面を洗浄する程度のものは許容されるが、クラックを潰すほど過度に行われるべきでないことは勿論である。こうして得られた剥離層13には水等による洗浄および乾燥が行われるのが好ましい。
また、得られた多孔質金属箔を、電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)で観察した。まず、多孔質金属箔の剥離層と接していなかった面(成長面)を斜め上(傾斜角45度)から100倍、1000倍、3000倍でそれぞれ観察したところ、図24A〜Cに示される画像が得られた。また、多孔質金属箔を裏返して、多孔質金属箔の剥離層と接していた面(剥離面)を斜め上方向(傾斜角45度)から観察したところ、図25A〜Cに示される画像が得られた。これらの画像から明らかなように、無数の凹凸が形成されたクロムめっき剥離層上に多孔質金属箔を形成することにより、剥離層が平坦であれば同様に平坦となっていたはずの剥離層と接していた面に、凹凸を付与することができる。したがって、こうして得られた多孔質金属箔においては、その両面に凹凸が存在することから、両面間の光沢度比、ひいては特性差が低減されるものと解される。
Claims (19)
- 不規則に張り巡らされてなる金属繊維で構成される二次元網目構造からなる多孔質金属箔であって、
前記多孔質金属箔が、光沢度が高めの第一面と、前記第一面と反対側に位置する光沢度が低めの第二面とを有し、
JIS Z 8741(1997)に準拠して60度の入射角および反射角で測定される、前記第一面の光沢度GSの前記第二面の光沢度GMに対する比GS/GMが1〜15である、多孔質金属箔。 - 前記多孔質金属箔と同等の組成および寸法を有する無孔質金属箔の理論重量Wnに占める前記多孔質金属箔の重量Wpの比Wp/Wnを用いて、
P=100−[(Wp/Wn)×100]
により定義される開孔率Pが3〜80%である、請求項1に記載の多孔質金属箔。 - 前記金属繊維が、5〜80μmの線径を有する、請求項1または2に記載の多孔質金属箔。
- 前記金属繊維が分枝状繊維であり、該分枝状繊維が不規則に張り巡らされてなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の多孔質金属箔。
- 3〜40μmの厚さを有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の多孔質金属箔。
- 前記二次元網目構造が、基材の表面に形成されたクラックに起因した不規則形状を有してなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の多孔質金属箔。
- 前記金属繊維が、銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、コバルト、錫からなる群から選択される少なくとも一種を含んでなる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の多孔質金属箔。
- 前記比GS/GMが1〜10である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の多孔質金属箔。
- 前記第一面および/または前記第二面に、防錆処理およびクロメート処理から選択される少なくとも一種に起因する処理皮膜をさらに備えた、請求項1〜8のいずれか一項に記載の多孔質金属箔。
- 多孔質金属箔の製造方法であって、
表面にクラックが発生した剥離層を備えた導電性基材を用意する工程と、
前記剥離層に、前記クラックに優先的に析出可能な金属をめっきして、前記クラックに沿って金属を析出させ、それにより金属繊維で構成される二次元網目構造からなる多孔質金属箔を形成する工程と、
前記多孔質金属箔を前記剥離層から剥離して、前記剥離層との接触面に起因して光沢度が高めの第一面と、前記第一面と反対側に位置する光沢度が低めの第二面とを与える工程と、
前記第一面および前記第二面の少なくともいずれか一方に表面処理を施すことにより、前記第一面の光沢度の前記第二面の光沢度に対する比を小さくする工程と
を含んでなる、製造方法。 - 前記表面処理が、前記金属の更なるめっきにより行われる、請求項10に記載の方法。
- 前記表面処理が、防錆処理、クロメート処理、およびシランカップリング処理から選択される少なくとも一種を用いた処理皮膜の形成により行われる、請求項10に記載の方法。
- 前記表面処理が、電解研磨、物理的研磨、化学的研磨、およびブラスト処理から選択される少なくとも一種により行われる、請求項10に記載の方法。
- 多孔質金属箔の製造方法であって、
表面にクラックが発生し、かつ、凹凸が付与された剥離層を備えた導電性基材を用意する工程と、
前記剥離層に、前記クラックに優先的に析出可能な金属をめっきして、前記クラックに沿って金属を析出させ、それにより金属繊維で構成される二次元網目構造からなる多孔質金属箔を形成する工程と、
前記多孔質金属箔を前記剥離層から剥離して、前記剥離層と離れた側に位置する光沢度が高めの第一面と、前記剥離層の凹凸が転写された、光沢度が低めの第二面とを与えるか、または、前記剥離層と離れた側に位置する光沢度が低めの第二面と、前記剥離層の凹凸が転写された光沢度が高めの第一面とを与え、それにより前記第一面の光沢度の前記第二面の光沢度に対する比が小さくされてなる工程と
を含んでなる、製造方法。 - 前記クラックが前記剥離層の応力によって発生したものである、請求項10〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記剥離層が、クロム、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、およびタングステンからなる群から選択される少なくとも一種を含んでなるか、または有機物からなる、請求項10〜15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記剥離層が、クロム、クロム合金またはクロム酸化物からなる、請求項10〜16のいずれか一項に記載の方法。
- 前記クラックに優先的に析出可能な金属が、銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、コバルト、および錫からなる群から選択される少なくとも一種を含んでなる、請求項10〜17のいずれか一項に記載の方法。
- 前記多孔質金属箔の厚さが3〜40μmである、請求項10〜18のいずれか一項に記載の方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011086619A JP5466664B2 (ja) | 2011-04-08 | 2011-04-08 | 多孔質金属箔およびその製造方法 |
KR1020137026591A KR101356561B1 (ko) | 2011-04-08 | 2012-03-23 | 다공질 금속박 및 그 제조 방법 |
PCT/JP2012/057620 WO2012137613A1 (ja) | 2011-04-08 | 2012-03-23 | 多孔質金属箔およびその製造方法 |
CN201280016294.6A CN103459676B (zh) | 2011-04-08 | 2012-03-23 | 多孔质金属箔及其制造方法 |
US13/985,877 US8980438B2 (en) | 2011-04-08 | 2012-03-23 | Porous metal foil and production method therefor |
TW101111879A TWI566459B (zh) | 2011-04-08 | 2012-04-03 | Porous metal foil and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011086619A JP5466664B2 (ja) | 2011-04-08 | 2011-04-08 | 多孔質金属箔およびその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011174184A JP2011174184A (ja) | 2011-09-08 |
JP2011174184A5 true JP2011174184A5 (ja) | 2013-07-04 |
JP5466664B2 JP5466664B2 (ja) | 2014-04-09 |
Family
ID=44687287
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011086619A Active JP5466664B2 (ja) | 2011-04-08 | 2011-04-08 | 多孔質金属箔およびその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8980438B2 (ja) |
JP (1) | JP5466664B2 (ja) |
KR (1) | KR101356561B1 (ja) |
CN (1) | CN103459676B (ja) |
TW (1) | TWI566459B (ja) |
WO (1) | WO2012137613A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6008724B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2016-10-19 | 日立造船株式会社 | カーボンナノ接合導電材料基板の製造方法 |
KR101586251B1 (ko) * | 2013-06-24 | 2016-01-18 | 주식회사 제낙스 | 이차 전지용 집전체 및 이를 이용한 전극 |
JP6136785B2 (ja) * | 2013-09-05 | 2017-05-31 | トヨタ自動車株式会社 | 導電ペーストの評価方法、及び、正極板の製造方法 |
JP2015151580A (ja) * | 2014-02-14 | 2015-08-24 | 三井金属鉱業株式会社 | 多孔質金属箔及びその製造方法 |
EP3129213A4 (en) * | 2014-04-08 | 2017-11-29 | William Marsh Rice University | Production and use of flexible conductive films and inorganic layers in electronic devices |
CN103956274A (zh) * | 2014-04-22 | 2014-07-30 | 上海大学 | 一种超级电容器复合电极的制备方法 |
US11038165B2 (en) | 2014-05-29 | 2021-06-15 | Sila Nanotechnologies, Inc. | Ion permeable composite current collectors for metal-ion batteries and cell design using the same |
JP6274526B2 (ja) * | 2014-09-17 | 2018-02-07 | トヨタ自動車株式会社 | 非水電解液二次電池およびその製造方法 |
CN104475740B (zh) * | 2014-11-12 | 2016-04-13 | 华南理工大学 | 一种具有纳米多孔表面结构的铜纤维毡材料及其制备方法 |
KR101828880B1 (ko) * | 2015-01-19 | 2018-02-13 | 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 | 리튬 이온 2차 전지용 표면 처리 전해 동박, 이것을 이용한 리튬 이온 2차 전지용 전극 및 리튬 이온 2차 전지 |
KR101707205B1 (ko) * | 2015-12-10 | 2017-02-15 | 한국기초과학지원연구원 | 다공성 은(Ag)막 구조체의 제조 방법 및 그 구조체를 이용한 형광 신호 측정 방법 |
CN109715863B (zh) | 2017-01-25 | 2020-02-11 | 日立金属株式会社 | 金属箔的制造方法以及金属箔制造用阴极 |
JP6611751B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2019-11-27 | Jx金属株式会社 | リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池 |
US20190334176A1 (en) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | Yeong Woo Kim | Devices and methods for preparing a slurry and coating a substrate with a slurry |
KR102394337B1 (ko) * | 2019-12-16 | 2022-05-09 | 한국제이씨씨(주) | 폐포형 발포 금속을 이용한 전극 제조방법 |
CN114531925A (zh) * | 2021-03-25 | 2022-05-24 | 宁德新能源科技有限公司 | 碳集流体及包括该碳集流体的电化学装置和电子装置 |
CN114122410A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-03-01 | 合肥国轩高科动力能源有限公司 | 一种锂离子电池多层网状集流体及其制造方法 |
CN115331965A (zh) * | 2022-08-05 | 2022-11-11 | 新疆众和股份有限公司 | 电极箔及其制备方法、电容器 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10195689A (ja) | 1996-12-27 | 1998-07-28 | Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd | 微細孔明き金属箔の製造方法 |
KR20010031571A (ko) | 1998-09-14 | 2001-04-16 | 미야무라 심뻬이 | 다공질 동박(多孔質 銅箔) 및 그 용도와 그 제조방법 |
JP3474487B2 (ja) * | 1999-05-18 | 2003-12-08 | 住友金属建材株式会社 | 多孔金属箔製造用の電着ドラム |
US6358650B2 (en) | 1999-07-28 | 2002-03-19 | Mitsubishi Chemical Corporation | Current collector having a uniformly applied lithium polysilicate primer and associated fabrication process |
JP2001202968A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-07-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 電池用集電体 |
NL1015535C2 (nl) * | 2000-06-27 | 2001-12-28 | Stork Screens Bv | Elektroformeringsmatrijs, werkwijze voor het vervaardigen daarvan, alsmede toepassing daarvan en geÙlektroformeerd product. |
CN2676421Y (zh) * | 2003-11-05 | 2005-02-02 | 邝达辉 | 一种用于制造电极的折边金属扩张网带 |
JP2005251429A (ja) | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Al合金キャリア付孔開き金属箔及びその製造方法並びにAl合金キャリア付孔開き金属箔から分離された該孔開き金属箔を含む二次電池用電極及び二次電池 |
KR100941219B1 (ko) * | 2005-03-31 | 2010-02-10 | 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 | 전해 동박, 그 전해 동박을 이용하여 얻어진 표면 처리 전해 동박, 그 표면 처리 전해 동박을 이용한 동장 적층판 및 프린트 배선판 |
TW200804626A (en) * | 2006-05-19 | 2008-01-16 | Mitsui Mining & Smelting Co | Copper foil provided with carrier sheet, method for fabricating copper foil provided with carrier sheet, surface-treated copper foil provided with carrier sheet, and copper-clad laminate using the surface-treated copper foil provided with carrier she |
US8986882B2 (en) * | 2006-12-27 | 2015-03-24 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Electrode, and current collector used therefor |
JP5090028B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2012-12-05 | 福田金属箔粉工業株式会社 | リチウム二次電池負極集電体用銅箔およびその製造方法 |
JP5177841B2 (ja) | 2007-09-05 | 2013-04-10 | 善三 橋本 | 低抵抗の電池用集電体 |
FR2936361B1 (fr) | 2008-09-25 | 2011-04-01 | Saint Gobain | Procede de fabrication d'une grille submillimetrique electroconductrice, grille submillimetrique electroconductrice |
JP4762368B2 (ja) * | 2009-12-04 | 2011-08-31 | 三井金属鉱業株式会社 | 多孔質金属箔およびその製造方法 |
-
2011
- 2011-04-08 JP JP2011086619A patent/JP5466664B2/ja active Active
-
2012
- 2012-03-23 CN CN201280016294.6A patent/CN103459676B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-03-23 US US13/985,877 patent/US8980438B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-03-23 WO PCT/JP2012/057620 patent/WO2012137613A1/ja active Application Filing
- 2012-03-23 KR KR1020137026591A patent/KR101356561B1/ko active IP Right Grant
- 2012-04-03 TW TW101111879A patent/TWI566459B/zh not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011174184A5 (ja) | ||
JP2012219333A5 (ja) | ||
JP5466664B2 (ja) | 多孔質金属箔およびその製造方法 | |
JP5400826B2 (ja) | 複合金属箔およびその製造方法 | |
JP4762368B2 (ja) | 多孔質金属箔およびその製造方法 | |
EP3233467A1 (en) | Curved high temperature alloy sandwich panel with a truss core and fabrication method | |
US20140087206A1 (en) | Porous metal body and method of producing the same | |
TW201228818A (en) | Surface treated copper foil | |
KR101483574B1 (ko) | 보강된 다공질 금속박 및 그 제조 방법 | |
CN105308220A (zh) | 改善铝薄膜粘附的方法 | |
CN111640947B (zh) | 锂离子电池集流体、负极及该集流体与负极的制备方法 | |
JPWO2014112619A1 (ja) | 電解銅箔、リチウムイオン電池用負極及びリチウムイオン二次電池 | |
KR20210134608A (ko) | 구리박 및 이를 포함하는 리튬 이온 전지의 음극 집전체 및 그 제조 방법 | |
JP2014032929A (ja) | 集電体用銅箔及びこれを用いたリチウムイオン二次電池用負極集電体 | |
Zhu et al. | Assessment of adhesion of electroplated cu and multilayered Cu coatings by a bidirectional bend test | |
WO2015122301A1 (ja) | 多孔質金属箔及びその製造方法 | |
CN106757244A (zh) | 一种高柔韧性镀镍钢带的制备方法 | |
TWI254324B (en) | Manufacturing method of metal conductive electrode of thermistor |