JP2011155140A - 基板載置装置の評価装置、及びその評価方法、並びにそれに用いる評価用基板 - Google Patents
基板載置装置の評価装置、及びその評価方法、並びにそれに用いる評価用基板 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する基板載置装置の評価装置であって、前記基板載置装置を内部に設置する減圧可能な気密チャンバーと、前記被処理基板に代わって前記載置面に載置され、自己発熱せしめる抵抗加熱体を備えた評価用基板と、前記評価用基板の温度を測定する温度測定手段とを備える。
【選択図】図1
Description
2…静電チャック
3…載置面
4…評価用基板
5…抵抗加熱体
6…真空ポンプ
7…絶縁基体
8…電極
9…冷却盤
10…直流電源
11…断熱柱
12…断熱板
13…交流電源
14…熱電対素子の温度測定子
15…熱電対計本体
16…放射温度計
18…覗き窓
41…基材
42…開口
43…接着層
Claims (28)
- 載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する基板載置装置の評価装置であって、
前記基板載置装置を内部に設置する減圧可能な気密チャンバーと、
前記被処理基板に代わって前記載置面に載置され、自己発熱せしめる抵抗加熱体を備えた評価用基板と、
前記評価用基板の温度を測定する温度測定手段と
を備えたことを特徴とする基板載置装置の評価装置。 - 前記抵抗加熱体は、前記評価用基板の内部及び/又は表面の全面又は一部に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記評価用基板は、前記被処理基板と略同一の大きさ及び形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記評価用基板は、前記載置面の所望の測定対象部位について温度を測定するに足りる大きさであることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記温度測定手段は、熱電対素子の温度測定子であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記熱電対素子の温度測定子は、前記抵抗加熱体に設けられた開口部に前記評価用基板に接触するように設けられていることを特徴とする請求項5に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記温度測定手段は、前記評価用基板に非接触の温度測定器であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記抵抗加熱体には、前記評価用基板の赤外光を放射する開口が設けられていることを特徴とする請求項7に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記非接触の温度測定器は、前記気密チャンバーに設けられた覗き窓を通して、前記気密チャンバー外で前記赤外光を受光可能な位置に設けられていることを特徴とする請求項7又は8に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記基板載置装置が静電チャックであることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の基板載置装置の評価装置。
- 載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する基板載置装置の評価装置に用いられる評価用基板であって、
略均一に全体を所望の温度に上昇せしめる抵抗加熱体と、
自己の温度を測定する温度測定手段と
を備えたことを特徴とする評価用基板。 - 前記被処理基板と略同一の大きさ及び形状からなることを特徴とする請求項11に記載の評価用基板。
- 前記載置面の所望の測定対象部位について、温度を測定するに足りる大きさであることを特徴とする請求項11に記載の評価用基板。
- 前記抵抗加熱体は、前記評価用基板の全部又は一部に設けられていることを特徴とする請求項11から13のいずれかに記載の評価用基板。
- 前記温度測定手段は、熱電対素子の温度測定子であることを特徴とする請求項11から14のいずれかに記載の評価用基板。
- 前記熱電対素子の温度測定子は、前記抵抗加熱体に設けられた開口部に前記評価用基板に接触するように設けられていることを特徴とする請求項15に記載の評価用基板。
- 前記温度測定手段は、前記評価用基板に非接触の温度測定器であることを特徴とする請求項11から14のいずれかに記載の評価用基板。
- 表面に設けられた前記抵抗加熱体には、前記評価用基板の赤外光を放射する開口が設けられていることを特徴とする請求項17に記載の評価用基板。
- 減圧可能な気密チャンバー内に、載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する温度制御手段を備えた基板載置装置を設け、
前記基板載置装置上に自己発熱せしめる抵抗加熱体を備えた評価用基板を載置し、
前記温度制御手段と前記抵抗加熱体とにより、前記評価用基板を所望の温度となるようにし、前記評価用基板の温度分布を測定し、
少なくとも前記評価用基板の温度分布から前記基板載置装置の機能を評価することを特徴とする基板載置装置の評価方法。 - 前記評価用基板の内部及び/又は表面の全面又は一部に設けた前記抵抗加熱体により、自己発熱せしめることを特徴とする請求項19に記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記被処理基板と略同一の大きさ及び形状の前記評価用基板を用いて、その機能を評価することを特徴とする請求項19又は20に記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記載置面の所望の測定対象部位について温度を測定するに足りる大きさの前記評価用基板を用いて、部位毎に特性を評価することを特徴とする請求項19又は20に記載の基板載置装置の評価方法。
- 熱電対素子の温度測定子により、前記評価用基板の温度分布を測定することを特徴とする請求項19から22のいずれかに記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記評価用基板に接触するように、前記熱電対素子の温度測定子を設けることを特徴とする請求項23に記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記評価用基板に非接触の温度測定器により、前記評価用基板の温度分布を測定することを特徴とする請求項19から22のいずれかに記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記抵抗加熱体に、前記評価用基板からの赤外光を放射する開口を設け、前記評価用基板の温度分布を測定することを特徴とする請求項25に記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記気密チャンバーに設けられた覗き窓を通して、前記気密チャンバー外から前記評価用基板の温度分布を測定することを特徴とする請求項25又は26に記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記基板載置装置が静電チャックであることを特徴とする請求項19から27のいずれかに記載の基板載置装置の評価方法。
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