JP2008108938A - 基板載置装置の評価装置及びその評価方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する基板載置装置の評価装置であって、前記基板載置装置を内部に設置する減圧可能な気密チャンバーと、前記載置面に対向して配設され赤外光を照射する熱源と、前記被処理基板に代わって前記載置面に載置され、前記赤外光を吸収する材質で形成され、表面又は内部の複数箇所の温度を計測する手段を有する評価用基板とを備える基板載置装置の評価装置である。
【選択図】図1
Description
温度差ΔT(実機)=実機各チャックでの温度T−平均温度(実機)
温度差ΔT(模擬評価装置)=模擬評価装置各チャックでの温度T−平均温度(模擬評価装置)
2 静電チャック
3 基板載置面
4 評価用基板
5 赤外線ヒーター
6 真空ポンプ
7 絶縁基体
8 電極
9 冷却盤
10 直流電源
11 断熱柱
12 断熱板
13 交流電源
14 熱電対
15 温度計
Claims (6)
- 載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する基板載置装置の評価装置であって、
前記基板載置装置を内部に設置する減圧可能な気密チャンバーと、
前記載置面に対向して配設され赤外光を照射する熱源と、
前記被処理基板に代わって前記載置面に載置され、前記赤外光を吸収する材質で形成され、表面又は内部の複数箇所の温度を計測する手段を有する評価用基板と
を備えたことを特徴とする基板載置装置の評価装置。 - 前記基板載置装置は静電チャックであることを特徴とする請求項1に記載の基板載置装置の評価装置。
- 前記評価用基板が炭化珪素で形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板載置装置の評価装置。
- 減圧可能な気密チャンバー内に、載置面におかれた被処理基板を固定及び温度制御する基板載置装置を設け、
前記基板載置装置上に赤外光を吸収する材質で形成され、表面又は内部の複数箇所の温度を計測する手段を備えた評価用基板を載置し、
前記載置面に赤外光を照射する熱源により前記評価用基板を加熱し、
前記温度を計測する手段により得られる前記評価用基板の温度分布を含めて前記基板載置装置の特性を評価することを特徴とする基板載置装置の評価方法。 - 前記基板載置装置は静電チャックであることを特徴とする請求項4に記載の基板載置装置の評価方法。
- 前記評価用基板の材質は炭化珪素であることを特徴とする請求項4又は5に記載の基板載置装置の評価方法。
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JP2006086301A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Ngk Insulators Ltd | 静電チャックの評価装置及び静電チャックの評価方法 |
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US8823404B2 (en) | 2010-01-27 | 2014-09-02 | Tokyo Electron Limited | Evaluation device and evaluation method for substrate mounting apparatus and evaluation substrate used for the same |
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