JP2011153224A - 導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、固体電解コンデンサおよびその製造方法 - Google Patents

導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、固体電解コンデンサおよびその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】高導電率な導電性高分子材料を提供するための導電性高分子懸濁液とその製造方法を提供し、特に低ESRの固体電解コンデンサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】低分子有機酸またはその塩からなるドーパントを含む水溶液に、導電性高分子を与えるモノマーを非イオン性界面活性剤を用いて乳化させた乳化液中で、前記モノマーを酸化剤を用いて化学酸化重合して、導電性高分子を合成する。得られた導電性高分子を精製した後、ポリ酸成分を含む水系溶媒中で、精製された導電性高分子と酸化剤とを混合して、導電性高分子懸濁液を製造する。
【選択図】図1

Description

本実施形態は、導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、電解コンデンサ、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法に関する。
導電性有機材料は、コンデンサの電極、色素増感太陽電池などの電極、エレクトロルミネッセンスディスプレイの電極などに用いられている。このような導電性有機材料として、ピロール、チオフェン、アニリンなどを重合して得られる導電性高分子が知られている。
このような導電性高分子は、一般には水性溶媒中の分散体(懸濁液)もしくは溶液、または有機溶媒中の溶液として提供されており、使用時に溶媒を除去して導電性高分子材料として使用される。しかし、導電性高分子の種類が同じであっても、分散体の状態によって得られる導電性高分子材料の物性が異なることから、その分散体の製造方法に関して、種々検討がなされている。
特許文献1には、ポリチオフェンの溶液(分散体)およびその製造方法、ならびにおよびプラスチック成形体の帯電防止処理への使用に関する技術が開示されている。このポリチオフェンの分散体は、分散媒体としての水または水混和性有機溶媒と水の混合物と、3,4−ジアルコキシチオフェンの構造単位からなるポリチオフェンと、2,000〜500,000の範囲の分子量を有するポリスチレンスルホン酸由来のポリ陰イオンとを含んでなる。そして、ポリチオフェンは、2,000〜500,000の範囲の分子量を有するポリスチレンスルホン酸のポリ陰イオンの存在下で酸化化学重合により得られたものである。これにより、透明な帯電防止膜が形成できるとされている。
特許文献2には、ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体およびその製造方法、ならびにその水分散体を含むコーティング用組成物およびその組成物が塗布された透明導電膜を有する被覆基材に関する技術が開示されている。この水分散体は、3,4−ジアルコキシチオフェンを、ポリ陰イオンの存在下で、ペルオキソ二硫酸を酸化剤として用い、水系溶媒中で重合させることで得られたものである。または、この水分散体は、3,4−ジアルコキシチオフェンを、ポリ陰イオンの存在下で、酸化剤を用いて、水溶性の無機酸および有機酸からなる群より選択される酸を添加し、反応溶液のpHを低下させて、水系溶媒中で化学酸化重合させることで得られたものである。これにより、透明性に優れた導電性薄膜を形成することができるとされている。
特許文献3には、有機溶媒中に分散した導電性高分子微粒子を製造する方法が開示されている。これによると、モノマーと、有機溶媒と、水と、界面活性剤とを混合攪拌してなる乳化液中で、超音波を照射しながら電解重合を行い、その後に水層を除去することで、有機溶媒中に分散した導電性高分子微粒子が製造できるとされている。
特許文献4には、水中に分散した導電性高分子微粒子に関する技術が開示されている。これによると、水中において、モノマーを反応性乳化剤の存在下で化学酸化重合することによって、水中に安定して分散した導電性高分子微粒子が得られるとされ、その粒子表面は反応性乳化剤に被覆されている、または反応性乳化剤と共重合しているとされている。
特開平7−90060号公報 特開2004−59666号公報 特開2007−119631号公報 特開2007−297500号公報
しかし、特許文献1および2に記載された方法のように、ドーパントとして作用するポリ陰イオン存在下で、1段階で3,4−ジアルコキシチオフェンを酸化化学重合する方法では、ドープ率の制御が困難である。すなわち、未ドープのポリ陰イオン、つまり導電性に寄与しないポリ陰イオンが余剰に存在してしまい、より高導電率である導電性高分子材料を得る製造方法としては、十分な方法とは言い難い。
また、特許文献1に記載された方法で得られた導電性高分子膜は、帯電防止材料としては十分な導電率でも、例えばコンデンサの固体電解質として用いた場合には、低ESR化の要求を十分に満足させる導電率を実現することは困難である。すなわち、帯電防止膜の表面抵抗率は一般に105〜1014Ω/□と分類されており、導電性が高すぎると激しい静電気放電を起こす可能性があることから、帯電した物体の静電気をすみやかに消散させられるほどの導電性を有しないと考えられている。したがって、帯電防止膜として使用可能な材料は、コンデンサの固体電解質としては抵抗が高く、低抵抗の要求を満たせない。加えて、余剰なポリ陰イオンが含まれた固体電解質を含むコンデンサは、信頼性、特に高湿度雰囲気化での特性が劣る欠点がある。
特許文献3に記載の製造方法で製造された、有機溶媒中に分散した導電性高分子微粒子には、界面活性剤を含んでいる。このため、有機溶媒を除去して得られる導電性高分子膜は、界面活性剤を含んでおり、抵抗が高いという問題がある。
また、特許文献3では、モノマーは有機溶媒中または水中に溶解しており、さらに後に水層を除去することから有機溶媒と水は互いに溶解・混和することのない物質であり、有機溶媒と水を乳化させることを目的として界面活性剤が添加されている。したがって、モノマーを水中に乳化させ、さらに界面活性剤を含まない導電性高分子懸濁液の製造に関わる技術は、なんら開示されていない。
特許文献4に記載された、水中に分散した導電性高分子微粒子には、粒子表面に乳化剤が存在する。このために溶媒を除去して得られる導電性高分子膜は、粒子界面に乳化剤を含むことになり、抵抗が高いという問題がある。
また、特許文献4では、反応性乳化剤を粒子表面に含むことで安定に水中に分散させており、界面活性剤を含まない導電性高分子懸濁液の製造に関わる技術は、なんら開示されていない。
本実施形態の目的は、上記の課題を解決することにあり、具体的には、高導電率な導電性高分子材料を提供するための導電性高分子懸濁液とその製造方法を提供し、特に低ESRの固体電解コンデンサおよびその製造方法を提供することにある。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液の製造方法は、(a)低分子有機酸またはその塩からなるドーパントを含む水溶液に、導電性高分子を与えるモノマー(M1)を非イオン性界面活性剤(S1)を用いて乳化させた乳化液中で、前記モノマー(M1)を酸化剤(O1)を用いて化学酸化重合して、導電性高分子(P1)を合成する工程と、(b)前記導電性高分子(P1)を精製する工程と、(c)ポリ酸成分を含む水系溶媒中で、前記精製された導電性高分子(P1)と酸化剤(O2)とを混合して、導電性高分子懸濁液を得る工程とを有する。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液は、上記の方法により得られるものである。本実施形態に係る導電性高分子材料は、上記の導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して得られるものである。本実施形態に係る固体電解コンデンサは、上記の導電性高分子材料を含む固体電解質層を有すものである。
本実施形態に係る第一の固体電解コンデンサの製造方法は、弁作用金属からなる陽極導体の表面に誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層上に、上記の導電性高分子懸濁液を塗布または含浸し、該導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して、前記導電性高分子材料を含む固体電解質層を形成する工程とを有する。
本実施形態に係る第二の固体電解コンデンサの製造方法は、弁作用金属からなる陽極導体の表面に誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層上で、導電性高分子を与えるモノマー(M2)を化学酸化重合または電解重合して、導電性高分子(P2)を含む第一の固体電解質層を形成する工程と、前記第一の固体電解質層上に、上記の導電性高分子懸濁液を塗布または含浸し、該導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して、第二の固体電解質層を形成する工程とを有する。
本実施形態によれば、高導電率な導電性高分子材料を提供するための導電性高分子懸濁液とその製造方法を提供し、特に低ESRの固体電解コンデンサおよびその製造方法を提供することができる。
本実施形態に係る固体電解コンデンサの構造を示す模式的断面図である。 実施例1および比較例2で形成した導電性高分子膜のX線回折チャートである。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液の製造方法に関して説明する。
まず、低分子有機酸またはその塩からなるドーパントを含む水溶液に、導電性高分子を与えるモノマー(M1)を非イオン性界面活性剤(S1)を用いて乳化させた乳化液中で、前記モノマー(M1)を酸化剤(O1)を用いて化学酸化重合して、導電性高分子(P1)を合成する(工程(a))。この工程(a)を行うことで、重合度が高く、結晶化度の高い導電性高分子(P1)を得ることができる。
モノマー(M1)としては、導電性高分子を与えるモノマーから適宜選択することができる。モノマー(M1)の具体例としては、ピロール、チオフェン、アニリンおよびその誘導体が挙げられる。ピロールの誘導体の具体例としては、3−ヘキシルピロール等の3−アルキルピロール、3,4−ジヘキシルピロール等の3,4−ジアルキルピロール、3−メトキシピロール等の3−アルコキシピロール、3,4−ジメトキシピロール等の3,4−ジメトキシピロールが挙げられる。チオフェンの誘導体の具体例としては、3,4−エチレンジオキシチオフェンおよびその誘導体、3−ヘキシルチオフェン等の3−アルキルチオフェン、3−メトキシチオフェン等の3−アルコキシチオフェンが挙げられる。アニリンの誘導体の具体例としては、2−メチルアニリン等の2−アルキルアニリン、2−メトキシアニリン等の2−アルコキシアニリンが挙げられる。中でも、下記式(1)で示される3,4−エチレンジオキシチオフェンまたはその誘導体が好ましい。3,4−エチレンジオキシチオフェンの誘導体としては、3,4−(1−ヘキシル)エチレンジオキシチオフェン等の3,4−(1−アルキル)エチレンジオキシチオフェンが挙げられる。モノマー(M1)は、1種を用いることもでき、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
Figure 2011153224
乳化液中のモノマー(M1)の濃度は、十分な乳化状態が得られ、製造される導電性高分子分散液に含まれる粒子を微粒化できることから、0.5mol/L以下であることが好ましい。また、乳化液中のモノマー(M1)の濃度は、導電性高分子(P1)が効率よく得られることから、0.01mol/L以上であることが好ましいが、下限は特に制限されない。
ドーパントとしては、低分子有機酸またはその塩を用いる。低分子有機酸またはその塩の具体例としては、アルキルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、カンファースルホン酸およびそれらの誘導体等、ならびにそれらの鉄(III)塩が挙げられる。低分子有機酸は、モノスルホン酸でもジスルホン酸でもトリスルホン酸でもよい。アルキルスルホン酸の誘導体の具体例としては、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸が挙げられる。ベンゼンスルホン酸の誘導体の具体例としては、フェノールスルホン酸、スチレンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が挙げられる。ナフタレンスルホン酸の誘導体の具体例としては、1−ナフタレンスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、1,3−ナフタレンジスルホン酸、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸、6−エチル−1−ナフタレンスルホン酸が挙げられる。アントラキノンスルホン酸の誘導体の具体例としては、アントラキノン−1−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2,6−ジスルホン酸、2−メチルアントラキノン−6−スルホン酸が挙げられる。中でも、1−ナフタレンスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸、アントラキノンジスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸またはこれらの鉄(III)塩が好ましい。重合物の高結晶化への影響が大きいことから、カンファースルホン酸がさらに好ましい。カンファースルホン酸は、光学活性体でもよい。また、酸化剤(O1)の機能を兼ねる性質を有していることから、p−トルエンスルホン酸鉄(III)も好ましい。ドーパントは、1種を用いることもでき、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
ドーパントの使用量は、過剰に添加しても工程(b)で除去することが可能なため特に制限はないが、高い導電率を有する導電性高分子(P1)を得るためには、モノマー(M1)1重量部に対して1〜100重量部が好ましく、1〜20重量部がより好ましい。
非イオン性界面活性剤(S1)としては、モノマー(M1)を乳化させることが可能なものから適宜選択することができる。非イオン性界面活性剤(S1)の具体例としては、ポリエチレングリコール;ポリエチレングリコールモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル等のポリエチレングリコールアルキルエーテル;ポリエチレングリコールモノステアラート等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル;アセチレングリコールが挙げられる。ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエーテルおよびポリエチレングリコール脂肪酸エステルにおけるポリエチレングリコールの重合度に関しては、特に制限されないが、十分な乳化状態が得られることから、グリフィン法によって求めたHLB値が6以上となることが好ましい。
ここで、イオン性界面活性剤を使用すると、ドーパントとして導電性高分子(P1)中に取り込まれたり、静電引力により工程(b)での洗浄・除去効果が薄れたりする。また、イオン性界面活性剤が導電性高分子(P1)中に残存すると、導電性高分子(P1)の吸湿性が高くなり、固体電解コンデンサの耐湿特性が低下する。
乳化液中の非イオン性界面活性剤(S1)の濃度は、十分な乳化状態が得られ、製造される導電性高分子分散液に含まれる粒子を微粒化できることから、2mmol/L以上であることが好ましい。
酸化剤(O1)としては、特に制限はなく、塩化鉄(III)六水和物、無水塩化鉄(III)、硝酸鉄(III)九水和物、無水硝酸第二鉄、硫酸鉄(III)n水和物(n=3〜12)、硫酸鉄(III)アンモニウム十二水和物、過塩素酸鉄(III)n水和物(n=1,6)、テトラフルオロホウ酸鉄(III)等の無機酸の鉄(III)塩;塩化銅(II)、硫酸銅(II)、テトラフルオロホウ酸銅(II)等の無機酸の銅(II)塩;テトラフルオロホウ酸ニトロソニウム;過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩;過ヨウ素酸カリウム等の過ヨウ素酸塩;過酸化水素、オゾン、ヘキサシアノ鉄(III)酸カリウム、硫酸四アンモニウムセリウム(IV)二水和物、臭素、ヨウ素;p−トルエンスルホン酸鉄(III)等の有機酸の鉄(III)塩を用いることができる。中でも、無機酸もしくは有機酸の鉄塩(III)、または過硫酸塩が好ましく、過硫酸アンモニウムまたはp−トルエンスルホン酸鉄(III)がより好ましい。特に、有機酸ドーパントを兼ねる性質を有していることから、p−トルエンスルホン酸鉄(III)がより好ましい。酸化剤(O1)は、1種を用いることもでき、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
酸化剤(O1)の使用量は、過剰に添加しても工程(b)で除去することが可能なため特に制限はないが、より穏やかな酸化雰囲気で反応させて高導電率の重合体を得るためには、モノマー(M1)1重量部に対して0.5〜100重量部が好ましく、1〜40重量部がより好ましい。
モノマー(M1)を化学酸化重合して得られる導電性高分子(P1)は、モノマー(M1)に由来する構造単位を有する。例えば、モノマー(M1)として、式(1)で示される3,4−エチレンジオキシチオフェンを用いた場合、得られる導電性高分子(P1)は、下記式(2)で示される構造単位を有する。
Figure 2011153224
化学酸化重合は、攪拌下で行うことが好ましい。化学酸化重合の反応温度は、特に限定されないが、使用する溶媒の還流温度を上限として行い、0〜100℃が好ましく、10〜50℃がより好ましい。反応温度が適正でないと、得られる導電性高分子(P1)の導電性が低下する場合がある。化学酸化重合の反応時間は、酸化剤(O1)の種類や使用量、反応温度、攪拌条件などに依存するが、5〜100時間程度が好ましい。なお、導電性高分子(P1)が生成すると、反応液が濃青色に変化する。
次いで、導電性高分子(P1)を精製する(工程(b))。具体的には、化学酸化重合して得られた導電性高分子(P1)を含む反応液から、導電性高分子(P1)を分離し、洗浄することで、ドーパント、モノマー(M1)、非イオン性界面活性剤(S1)、酸化剤(O1)および反応後の酸化剤を除去する。この工程(b)を行うことで、高純度の導電性高分子(P1)を得ることができる。
反応液から導電性高分子(P1)を分離する方法としては、ろ過法、遠心分離法などが挙げられる。
洗浄溶媒は、導電性高分子(P1)を溶解することなく、モノマー(M1)、酸化剤(O1)および非イオン性界面活性剤(S1)の少なくとも1つを溶解可能な溶媒を用いて行うことが好ましい。洗浄溶媒の具体例としては、水や、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒が挙げられる。洗浄溶媒は、1種を用いることもでき、2種以上を組み合わせて用いることもできる。洗浄の程度は、洗浄後の洗浄溶媒のpH測定や比色観察を行うことにより、確認することができる。
さらに、酸化剤(O1)由来の金属成分をより高度に除去することができることから、導電性高分子(P1)を熱水洗浄および/または熱処理することが好ましい。熱処理の温度は、導電性高分子(P1)の分解温度以下であれば特に制限されないが、300℃未満で行うことが好ましい。また、イオン交換樹脂を用いたイオン交換処理を行うことも、酸化剤由来の金属成分を除去する方法として有効である。
導電性高分子(P1)に含まれる不純物は、ICP発光分析やイオンクロマトグラフィーなどにより定量可能である。
次いで、ポリ酸成分を含む水系溶媒中で、精製された導電性高分子(P1)と酸化剤(O2)とを混合して、導電性高分子懸濁液を得る(工程(c))。工程(c)では、ポリ酸が分散剤として作用するので、分散性の良好な導電性高分子懸濁液を得ることができる。分散機構としては、少なくともポリ酸成分由来のポリ陰イオンのドーピング作用が考えられる。
水系溶媒としては、水が好ましく、水と水溶性の有機溶媒の混和溶媒でもよい。水溶性の有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、酢酸等のプロトン性極性溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
水系溶媒中の導電性高分子(P1)の濃度は、0.1〜20重量%が好ましく、0.5〜10重量%がより好ましい。
ポリ酸成分としては、ポリ酸またはその塩を用いることができる。ポリ酸の具体例としては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸等のポリカルボン酸;ポリビニルスルホン酸、ポリ(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸)、ポリスチレンスルホン酸等のポリスルホン酸;およびこれらの構造単位を有する共重合体が挙げられる。ポリ酸の塩の具体例としては、ポリ酸の、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。中でも、下記(3)で示される構造単位を有するポリスチレンスルホン酸が好ましい。ポリ酸成分は、1種を用いることもでき、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
Figure 2011153224
ポリ酸成分の重量平均分子量は、高い導電率を有する導電性高分子(P1)を得るためには、2,000〜500,000が好ましく、10,000〜200,000がより好ましい。
ポリ酸成分の使用量は、高い導電率を有する導電性高分子(P1)を得るためには、導電性高分子(P1)100重量部に対して20〜3,000重量部が好ましく、30〜1,000重量部がより好ましい。
酸化剤(O2)としては、酸化剤(O1)と同様のものを用いることができる。中でも、過硫酸アンモニウムまたは過酸化水素などが好ましい。酸化剤(O2)の使用量は、高い導電率を有する導電性高分子(P1)を得るためには、導電性高分子(P1)1重量部に対して0.5〜50重量部が好ましく、1〜30重量部がより好ましい。
工程(c)の温度は、特に限定されないが、0℃〜100℃の範囲が好ましく、10℃〜50℃がより好ましい。工程(c)の時間は、特に制限されないが、5〜100時間程度である。
工程(c)後に、前述したイオン交換処理を施すことがより好ましい。
工程(c)中または後に、エリスリトールおよびペンタエリスリトールから選択される少なくとも1種を混合する(工程(d))を行うことが好ましい。工程(d)を行うことで、導電性高分子懸濁液中の導電性高分子(P1)の近傍に存在するポリ酸成分(未ドープのドーパントアニオン(抵抗成分))と相互作用することで、導電性高分子(P1)粒子間の抵抗を下げるとともに、導電性高分子(P1)の密度が増加するため、さらなる高導電率化が可能となる。
エリスリトールは、例えば、ソルビトール、マルチトースなど多価アルコールに比較して結晶性が高いため、吸湿性が小さく、取扱いが容易である観点から好ましい。また、エリスリトールは、甘味料として用いられる食品添加物として知られており、安全面、安定性にも優れており、また水に対する溶解度においても、例えば、エチレングリコール、グリセリンなどの非水溶媒に比較して、数倍高く添加量の設計自由度が高い利点がある。
ペンタエリスリトールは、加熱すると徐々に昇華し、融点以上の加熱で脱水して重合する特徴を有している。これによって、有機材料の物性が変化し、密度、強度が向上する利点を有する。このような反応性は、その化学構造に起因しており、例えばエリスリトール、ソルビトールのような化学構造では、起こり難い。
エリスリトールまたはペンタエリスリトールは、導電性高分子懸濁液中の導電性高分子(P1)の濃度以上の濃度となる量を混合することによって、より大きな効果を奏する。なお、混合する量の上限は、導電性高分子懸濁液に溶解する量であれば、特に制限されない。
得られた導電性高分子懸濁液には、結着作用として機能する樹脂を添加してもよい。この樹脂の具体例としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂が挙げられる。この樹脂の添加量は、導電性を損なわない観点から、導電性高分子懸濁液100重量部に対して0.01〜20重量部が好ましい。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液は、通常は濃青色を呈している。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液に含まれる粒子の平均粒径は、多孔質性の陽極導体1内部への含浸性が得られることから、5nm以上100nm以下が好ましい。なお、粒子の平均粒径は、動的光散乱法によって計測した粒径分布から算出することができる。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液から溶媒を除去することで、導電性高分子材料を得ることができる。この導電性高分子材料は、高い導電率を有している。なお、この導電性高分子材料は、導電性高分子(P1)の結晶化度が高く光を分散するため、透明性はなく、黒色に近い色を呈している。
溶媒の除去は、導電性高分子を乾燥することで行うことができる。乾燥温度は、導電性高分子の分解温度以下であれば特に制限されないが、300℃以下が好ましい。
本実施形態に係る導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して得られた導電性高分子材料を、固体電解コンデンサの固体電解質層として用いることができる。導電性高分子懸濁液に含まれる導電性高分子(P1)や、導電性高分子懸濁液から溶媒を除去することで得られる導電性高分子材料の導電性が高いことから、低ESRのコンデンサを得ることが可能となる。さらに、導電性高分子(P1)の結晶化度が高いことから、酸素バリア性も相関して高く、コンデンサの信頼性の向上も十分見込まれる。
図1に、本実施形態に係る固体電解コンデンサの構造を示す模式的断面図を示す。この固体電界コンデンサは、陽極導体1上に、誘電体層2、固体電解質層3および陰極導体4がこの順に形成された構造を有している。
陽極導体1は、弁作用金属の板、箔または線;弁作用金属の微粒子からなる焼結体;エッチングによって拡面処理された多孔質体金属などによって形成される。弁作用金属の具体例としては、タンタル、アルミニウム、チタン、ニオブ、ジルコニウムおよびこれらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウム、タンタルおよびニオブから選択される少なくとも1種の弁作用金属であることが好ましい。
誘電体層2は、陽極導体1の表面を電解酸化させることで形成することができる層であり、焼結体や多孔質体などの空孔部にも形成される。誘電体層2の厚みは、電解酸化の電圧によって適宜調整できる。
固体電解質層3は、少なくとも、前述の導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して得られる導電性高分子材料を含む。固体電解質層3の形成方法としては、誘電体層2上に、前述の導電性高分子懸濁液を塗布または含浸し、その導電性高分子懸濁液から溶媒を除去する方法が挙げられる。
塗布または含浸の方法としては、特に制限はされないが、十分に多孔質細孔内部へ導電性高分子懸濁液を充填させるために、塗布または含浸後に数分〜数10分放置することが好ましい。浸漬の繰り返しや、減圧方式または加圧方式が好ましい。
導電性高分子懸濁液からの溶媒の除去は、導電性高分子を乾燥することで行うことができる。乾燥温度は、溶媒除去が可能な温度範囲であれば特に限定されないが、熱による素子劣化防止の観点から、上限温度は300℃未満であることが好ましい。乾燥時間は、乾燥温度によって適宜最適化する必要があるが、導電性が損なわれない範囲であれば特に制限されない。
さらに、ピロール、チオフェン、アニリンおよびその誘導体からなる導電性重合体;二酸化マンガン、酸化ルテニウムなどの酸化物誘導体;TCNQ(7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンコンプレックス塩)などの有機物半導体を含んでいてもよい。
例えば、固体電解質層3は、第一の固体電解質層3aと第二の固体電解質層3bの2層構造とすることもできる。そして、誘電体層2上で、導電性高分子を与えるモノマー(M2)を化学酸化重合または電解重合して、導電性高分子(P2)を含む第一の固体電解質層を形成し、その第一の固体電解質層3a上に、前述の導電性高分子懸濁液を塗布または含浸し、その導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して、第二の固体電解質層3bを形成することができる。
モノマー(M2)として、ピロール、チオフェン、アニリンおよびそれらの誘導体から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。モノマー(M2)を化学酸化重合または電解重合して導電性高分子(P2)を得る際に使用するドーパントとしては、アルキルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、カンファースルホン酸およびその誘導体等のスルホン酸系化合物が好ましい。ドーパントの分子量としては、低分子化合物から高分子量体まで適宜選択して用いることができる。溶媒としては、水のみでもよく、水と水に可溶な有機溶媒とを含む混和溶媒でもよい。
第一の固体電解質層3aに含まれる導電性高分子(P1)と、第二の固体電解質層3bに含まれる導電性高分子(P2)は、同一種の重合体であることが好ましい。
陰極導体4は、導体であれば特に限定されないが、例えば、グラファイトなどのカーボン層4aと、銀導電性樹脂4bとからなる2層構造とすることができる。
以下、本実施形態を実施例に基づき、さらに具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
(実施例1)
(工程(a))
水100ml中に、モノマー(M1)としての3,4−エチレンジオキシチオフェンを濃度が0.2mol/Lになるように加え、さらに非イオン性界面活性剤(S1)としてのポリエチレングリコールモノステアラート(n=40)を濃度が25mmol/Lになるよう加えた後、室温で1時間攪拌して、モノマー(M1)を水中に乳化させた。ここで、ポリエチレングリコールモノステアラート(n=40)のグリフィン法によって算出したHLB値は、17.4である。次いで、ドーパントとしてのトルエンスルホン酸を濃度が0.4mol/Lになるように加え、さらに酸化剤(O1)としての過硫酸アンモニウムを濃度が0.5mol/Lになるように加えた。得られた乳化液を室温下24時間攪拌することで3,4−エチレンジオキシチオフェンの化学酸化重合を行い、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を合成した。このとき乳化液は、黄色から濃青色へと変化した。
(工程(b))
重合後の乳化液を減圧ろ過装置を用いてろ過して、粉末を回収した。純水を用いて粉末を洗浄して、非イオン性界面活性剤(S1)、過剰の酸化剤(O1)およびドーパントを除去した。純水による洗浄は、ろ液の酸性度がpH6〜7になるまで繰り返し行った。その後、エタノールを用いて粉末を洗浄して、モノマー(M1)、非イオン性界面活性剤(S1)、酸化剤(O1)、反応後の酸化剤を除去した。エタノールによる洗浄は、ろ液が無色透明となるまで行った。
(工程(c))
精製後の粉末0.5gを水50ml中に分散させた後、ポリ酸成分としてのポリスチレンスルホン酸(重量平均分子量:14,000)を20重量%含有する水溶液3.3gを添加した。この混合液に、酸化剤(O2)としての過硫酸アンモニウム1.5gを添加し、室温下24時間攪拌した。得られたポリチオフェン懸濁液は濃青色であった。
得られたポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の粒径分布を動的光散乱法によって計測し、平均粒径を算出した。結果を表1に示す。
得られたポリチオフェン懸濁液を、ガラス基板上に100μl滴下し、125℃の恒温槽中で乾燥して導電性高分子膜を形成し、四端子法で導電性高分子膜の表面抵抗(Ω/□)および膜厚を計測して、導電性高分子膜の導電率(S/cm)を算出した。結果を表1に示す。また、形成した導電性高分子膜の結晶性を評価するため、導電性高分子膜のX線回折を測定した。なお、測定は、2θを5〜40°までスキャンして行った。その測定結果を図2に示す。
(実施例2)
非イオン性界面活性剤(S1)としてポリエチレングリコールモノセチルエーテル(n=23)を用いた以外は、実施例1と同様にしてポリチオフェン懸濁液を製造し、そのポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。ここで、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル(n=23)のグリフィン法によって算出したHLB値は、16.5である。また、このポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(実施例3)
モノマー(M1)としての3,4−エチレンジオキシチオフェンを濃度が0.5mol/Lとなるように加えた以外は、実施例1と同様にしてポリチオフェン懸濁液を製造し、そのポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。また、このポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(実施例4)
モノマー(M1)としての3,4−エチレンジオキシチオフェンを濃度が0.5mol/Lとなるように加え、非イオン性界面活性剤(S1)としてのポリエチレングリコールモノステアラート(n=40)を濃度が2mmol/Lとなるように加えた以外は、実施例1と同様にしてポリチオフェン懸濁液を製造し、そのポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。また、このポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(実施例5)
ドーパントとして2−ナフタレンスルホン酸を用いた以外は、実施例1と同様にしてポリチオフェン懸濁液を製造し、そのポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。また、このポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(実施例6)
ポリ酸成分としてポリスチレンスルホン酸(重量平均分子量:50,000)を用いた以外は、実施例1と同様にしてポリチオフェン懸濁液を製造し、そのポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。また、このポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(実施例7)
実施例1で製造したポリチオフェン懸濁液10gに、さらにエリスリトール1gを室温下で溶解させた。得られたポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。また、得られたポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(比較例1)
ポリスチレンスルホン酸(重量平均分子量:4,000)2gと、3,4−エチレンジオキシチオフェン0.5gと、硫酸鉄(III)0.05gとを、水20mlに溶解させ、24時間にわたって空気導入して、ポリチオフェン懸濁液を製造した。得られたポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を、実施例1と同様の方法で算出した。また、得られたポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出した。結果を表1に示す。
(比較例2)
重量平均分子量が50,000のポリスチレンスルホン酸を用いた以外は、比較例1と同様に実施して、ポリチオフェン懸濁液を製造した。得られたポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子の平均粒径を算出した。また、得られたポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性高分子膜を形成し、その導電性高分子膜の導電率を算出し、X線回折を測定した。結果を表1および図2に示す。
Figure 2011153224
(実施例8)
弁作用金属からなる陽極導体として多孔質性のアルミニウムを用い、陽極酸化によりアルミニウムの表面に誘電体層となる酸化皮膜を形成した。次いで、誘電体層を形成した陽極導体を、実施例1で製造したポリチオフェン懸濁液に浸漬し引き上げた後、125℃で乾燥・固化させることで、固体電解質層を形成した。固体電解質層の上に、グラファイト層および銀含有樹脂層を順番に形成して、そして、固体電解コンデンサを得た。
得られた固体電解コンデンサのESR(等価直列抵抗)を、LCRメーターを用いて100kHzの周波数で測定した。ESRの値は、全陰極部面積を単位面積(1cm2)に規格化した。また、得られた固体電解コンデンサの容量を、LCRメーターを用いて120Hzの周波数で測定し、その容量の理論容量に対する割合(容量出現率)を算出した。なお、この容量出現率は、誘電体層となる酸化皮膜上を固体電解質層が被覆している割合と見なすことができ、被覆率とも称する。結果を表2に示す。
(実施例9)
弁作用金属からなる陽極導体として多孔質性のアルミニウムを用い、陽極酸化によりアルミニウム金属表面に酸化皮膜を形成した。次いで、誘電体層を形成した陽極導体を、モノマー(M2)としてのピロール10gを純水200mlに溶解させたモノマー液と、ドーパントとしてのp−トルエンスルホン酸20gおよび酸化剤としての過硫酸アンモニウム10gを純水200ml溶解させた酸化剤液とに順番に浸漬・引き上げを10回繰り返し行い、化学酸化重合を行うことで、第一の固体電解質層を形成した。
第一の固体電解質層上に、実施例1で製造したポリチオフェン懸濁液を滴下し、125℃で乾燥・固化させることで、第二の固体電解質層を形成した。そして、第二の固体電解質層の上に、グラファイト層および銀含有樹脂層を順番に形成して、固体電解コンデンサを得た。
得られた固体電解コンデンサのESR(等価直列抵抗)および容量出現率を、実施例8と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
(実施例10)
実施例7で製造したポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例9と同様にして固体電解コンデンサを製造した。そして、得られた固体電解コンデンサのESR(等価直列抵抗)および容量出現率を、実施例8と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
(実施例11)
弁作用金属からなる陽極導体として多孔質性のタンタルを用いた以外は、実施例8と同様にして固体電解コンデンサを製造した。そして、得られた固体電解コンデンサのESR(等価直列抵抗)および容量出現率を、実施例8と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
(比較例3)
比較例2で製造したポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例8と同様にして固体電解コンデンサを製造した。そして、得られた固体電解コンデンサのESR(等価直列抵抗)および容量出現率を、実施例8と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
(比較例4)
比較例2で製造したポリチオフェン懸濁液を用いた以外は、実施例9と同様にして固体電解コンデンサを製造した。そして、得られた固体電解コンデンサのESR(等価直列抵抗)および容量出現率を、実施例8と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
Figure 2011153224
表1に示したように、実施例1〜7で製造されたポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子は、いずれも、比較例1および2で製造されたポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子より小粒径であった。このように工程(a)〜工程(c)を経ることで、ポリチオフェン懸濁液に含まれる粒子を微小化することが可能となる。
これは、工程(a)で用いた乳化液中のモノマー(M1)および非イオン性界面活性剤(S1)の濃度を適正にすることで、重合過程での凝集を防止することができ、工程(b)で得られる導電性高分子(P1)の一次粒径が微小化され、工程(c)で一次粒径の状態で分散するためと考えられる。
また、表1に示したように、実施例1〜7で製造された導電性高分子膜は、いずれも、比較例1および2で製造された導電性高分子膜よりも高い導電率を有していた。このように、工程(a)〜工程(c)を経ることで、(1)ドーパントの選択肢が広く、(2)結晶化度を高くするドーパントを選択することができ、(3)洗浄が容易であり高純度化を図ることができ、その結果として高導電率化が可能となる。
また、工程(c)の後に工程(d)を行った実施例7で製造された導電性高分子膜は、より高い導電性を有していた。これは、エリスリトールが、ポリチオフェン懸濁液中のポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)粒子の近傍に存在するポリスチレンスルホン酸と相互作用することで、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)粒子間の抵抗を下げるとともに、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の密度が増加したためと考えられる。
図2に示したX線回折の測定結果から、実施例1で形成した導電性高分子膜の結晶性は、比較例2で形成した導電性高分子膜より高いことも確認できた。このため、得られたポリチオフェン溶液中のポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)は、高分子鎖間の電子伝導が良好であり、高導電性となる。なお、実施例1で形成した導電性高分子膜は、結晶化度が高く光を分散するため、透明性はなく、黒色に近い色を呈する。
そして、表2に示すように、実施例8〜11で作製した固体電解コンデンサは、比較例3および4で作製した固体電解コンデンサに比べて、抵抗(ESR)が低かった。これは、実施例8〜11で用いたポリチオフェン懸濁液に含まれるポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の導電率が高いために、固体電解質の抵抗を低減することが可能となったためと考えられる。
また、ポリチオフェン懸濁液に含まれるポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)粒子の径が小さいため、多孔質性の陽極導体への含浸性に優れ、実施例9のように化学酸化重合を実施しない固体電解コンデンサの製造方法によっても、十分な容量出現率を達成することが可能となる。
1 陽極導体
2 誘電体層
3 固体電解質層
3a 第一の固体電解質層
3b 第二の固体電解質層
4 陰極導体
4a カーボン層
4b 銀導電性樹脂層

Claims (20)

  1. (a)低分子有機酸またはその塩からなるドーパントを含む水溶液に、導電性高分子を与えるモノマー(M1)を非イオン性界面活性剤(S1)を用いて乳化させた乳化液中で、前記モノマー(M1)を酸化剤(O1)を用いて化学酸化重合して、導電性高分子(P1)を合成する工程と、
    (b)前記導電性高分子(P1)を精製する工程と、
    (c)ポリ酸成分を含む水系溶媒中で、前記精製された導電性高分子(P1)と酸化剤(O2)とを混合して、導電性高分子懸濁液を得る工程と
    を有する導電性高分子懸濁液の製造方法。
  2. 前記乳化液中の前記モノマー(M1)の濃度が0.5mol/L以下であり、かつ前記乳化液中の前記非イオン性界面活性剤(S1)の濃度が2mmol/L以上である請求項1に記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  3. 前記非イオン性界面活性剤(S1)が、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステルおよびアセチレングリコール誘導体から選択される少なくとも1種である請求項1または2に記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  4. 前記非イオン性界面活性剤(S1)のHLBが6以上である請求項1〜3のいずれかに記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  5. 前記モノマー(M1)が3,4−エチレンジオキシチオフェンである請求項1〜4のいずれかに記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  6. 前記ドーパントが、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、カンファースルホン酸およびそれらの誘導体、ならびにそれらの塩から選択される少なくとも1種である請求項1〜5のいずれかに記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  7. 前記工程(b)において、前記モノマー(M1)、前記酸化剤(O1)および前記非イオン性界面活性剤(S1)の少なくとも1つを溶解可能な溶媒を用いて、前記導電性高分子(P1)を洗浄する請求項1〜6のいずれかに記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  8. 前記ポリ酸成分が、ポリスチレンスルホン酸である請求項1〜7のいずれかに記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  9. 前記ポリスチレンスルホン酸の重量平均分子量が2,000〜500,000である請求項8に記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  10. (d)エリスリトールおよびペンタエリスリトールから選択される少なくとも1種を混合する工程
    をさらに有する請求項1〜9のいずれかに記載の導電性高分子懸濁液の製造方法。
  11. 請求項1〜10のいずれかに記載の方法により得られる導電性高分子懸濁液。
  12. 前記導電性高分子懸濁液に含まれる粒子の平均粒径が5nm以上100nm以下である請求項11に記載の導電性高分子懸濁液。
  13. 請求項11または12に記載の導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して得られる導電性高分子材料。
  14. 請求項13に記載の導電性高分子材料を含む固体電解質層を有する固体電解コンデンサ。
  15. 弁作用金属からなる陽極導体と、前記陽極導体の表面に形成されている誘電体層とを有し、前記誘電体層上に前記固体電解質層が形成されている請求項14に記載の固体電解コンデンサ。
  16. 前記弁作用金属が、アルミニウム、タンタルおよびニオブから選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項15に記載の固体電解コンデンサ。
  17. 弁作用金属からなる陽極導体の表面に誘電体層を形成する工程と、
    前記誘電体層上に、請求項11または12に記載の導電性高分子懸濁液を塗布または含浸し、該導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して、前記導電性高分子材料を含む固体電解質層を形成する工程と
    を有することを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
  18. 弁作用金属からなる陽極導体の表面に誘電体層を形成する工程と、
    前記誘電体層上で、導電性高分子を与えるモノマー(M2)を化学酸化重合または電解重合して、導電性高分子(P2)を含む第一の固体電解質層を形成する工程と、
    前記第一の固体電解質層上に、請求項11または12に記載の導電性高分子懸濁液を塗布または含浸し、該導電性高分子懸濁液から溶媒を除去して、第二の固体電解質層を形成する工程と
    を有することを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
  19. 前記導電性高分子(P2)は、前記モノマー(M2)として、ピロール、チオフェン、アニリンおよびそれらの誘導体から選ばれる少なくとも1種を化学酸化重合または電解重合して得られる重合体であることを特徴とする請求項18に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  20. 前記弁作用金属が、アルミニウム、タンタルおよびニオブから選択される少なくとも1種のであることを特徴とする請求項17〜19のいずれかに記載の固体電解コンデンサの製造方法。
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