JP2011122048A - ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、その製造方法及び該共重合体を含むポリカーボネート樹脂 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】特定の構成単位からなるポリカーボネートブロック及び特定の構成単位からなるポリオルガノシロキサンブロックからなるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A−1)であって、
(1)ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量が1〜30質量%であり、
(2)一般式(II)の構成単位の平均繰り返し単位数が70〜1000であり、
(3)共重合体の粘度平均分子量が13000〜26000であり、
(4)共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が400質量ppm以下である
ことを特徴とするポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法並びに該ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を用いたポリカーボネート樹脂である。
【選択図】なし
Description
一方、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体(PC−PDMS共重合体)は、難燃性、耐衝撃性に優れたポリカーボネート樹脂として知られている(例えば、特許文献1参照)。PC−PDMS共重合体は、滑性、耐磨耗性等の改善された成形品を与えることができ、その成形品として例えばキャストフィルム、押出し成形フィルム等が知られている(例えば、特許文献2〜5参照)
また、シロキサンユニットの繰返し数によって、PC−PDMS共重合体が示す特性が現れ、例えばシロキサンユニットの繰返し数nが40〜60、具体的にはn=49のPC−PDMS共重合体が良好な低温衝撃特性を示し(例えば、特許文献6参照)、シロキサンユニットの繰返し数nが50のPDMSを用いて透明なPC−PDMS共重合体を得る方法が知られており(例えば、特許文献7参照)、シロキサンユニットの繰返し数nが0〜20のPDMSを用いた透明で難燃性のあるPC−PDMS共重合体が知られている(例えば、特許文献8参照)。
上記のように、PC−PDMS共重合体はその特性から、透明バイザーつきヘルメット(例えば、特許文献9参照)、キートップ部材製造用材料(例えば、特許文献10参照)等の多くの用途に展開が可能であることが知られている。
しかしながら、PC−PDMS共重合体は、高温成形下において一般のポリカーボネートよりも黄変しやすいという問題点があった。このPC−PDMS共重合体に特有の黄変及びその改善に関する知見はない。
しかし、従来技術では、アリル基を有するフェノール化合物の残存量に関する定量的な知見はなく、またその影響についても知られていない。
さらに、本発明の他の目的は、上記PC−POS共重合体を用いたポリカーボネート樹脂を提供することである。
(1)ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量が1〜30質量%であり、
(2)一般式(II)の構成単位の平均繰り返し単位数が70〜1000であり、
(3)共重合体の粘度平均分子量が13000〜26000であり、
(4)共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が400質量ppm以下である
ことを特徴とするポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
3.一般式(I)で表される構成単位が、ビスフェノールAから誘導された構成単位である上記1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
4.一般式(II)で表される構成単位中のR3及びR4が共にメチル基である上記1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
5.上記1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A−1)100質量部及び(A−1)以外の芳香族ポリカーボネート(A−2)0〜90質量部からなるポリカーボネート樹脂であり、該ポリカーボネート樹脂中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が200質量ppm以下であることを特徴とするポリカーボネート樹脂。
7.アリル基を有するフェノール化合物が、アリルフェノール又はオイゲノールであることを特徴とする上記6に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の製造方法。
本発明のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(PC−POS共重合体)は、下記一般式(I)で表される構成単位からなるポリカーボネートブロック及び下記一般式(II)で表される構成単位からなるポリオルガノシロキサンブロックからなるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A−1)であって、後述するとおり下記の(1)〜(4)を特徴とするものである。
(1)ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量が1〜30質量%である。
(2)一般式(II)の構成単位の平均繰り返し単位数が70〜1000である。
(3)共重合体の粘度平均分子量が13000〜26000である。
(4)共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が400質量ppm以下である。
式(II)中、R3及びR4は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基もしくは炭素数6〜12のアリール基を示し、a及びbはそれぞれ独立に0〜4の整数を示す。
本発明のPC−POS共重合体は、ポリカーボネートオリゴマーと下記一般式(III)で表されるアリル基を有するフェノール化合物で末端が変性されたポリオルガノシロキサンとを混合し、次いで、アルカリ性化合物の存在下、二価フェノールを反応させることにより製造することができる。
このとき用いるポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサン中における未反応成分として残留するアリル基を有するフェノール化合物の含有量が3000質量ppm以下であることを要する。
また、PC−POS共重合体の製造に用いることができる二価フェノールとして、上記のポリカーボネートオリゴマーの製造において使用できる二価フェノールとして例示したものと同様のものを用いることができる。
なお、合成した両末端が変性されたポリオルガノシロキサン中には、未反応の原料が残留しているため、真空蒸留等の方法により取り除く必要がある。
PC−POS共重合体の製造において、原料の両末端が変性されたポリオルガノシロキサン中に未反応のアリル基を有するフェノール化合物が混入すると、この未反応のアリル基を有するフェノール化合物のフェノール性水酸基が、ポリカーボネートオリゴマーのクロロホーメートと反応して末端停止剤として作用し、アリル基を有するフェノール残基としてPC−POS共重合体の末端に取り込まれるものと考えられる。このアリル基を有するフェノール残基を一定の量含有するPC−POS共重合体を用いて高温下で成形すると成形体の黄変等の問題が生じる。このような問題を改善するためには、ポリオルガノシロキサン中における未反応成分として残留するアリル基を有するフェノール化合物の含有量を3000質量ppm以下とすることが重要である。
一方で、アリルフェノール(沸点220℃)、オイゲノール(254℃)のように比較的高沸点のアリル基を有するフェノール化合物を脱揮により除去することは容易でなく、特に、ポリオルガノシロキサン鎖長が70を超えるような場合、ポリオルガノシロキサン自体の粘度が高くなるため、脱揮によるアリル基を有するフェノール化合物の除去は困難であり、15000質量ppm程度が残留してしまう。また、水性メタノールによる除去が知られているが、本方法でもポリオルガノシロキサンからアリル基を有するフェノール化合物のみを選択的に2000質量ppm以下まで低減することは困難である。
アルカリ水溶液としては、例えば水酸化ナトリウム水溶液が使用可能である。アルカリ水溶液による抽出を繰り返すことでポリオルガノシロキサンの粘度に関係なく100質量ppm以下まで低減できる。
また、抽出回数は必要とするアリル基を有するフェノール化合物の除去量により決まるが、例えば2回の洗浄によりポリオルガノシロキサン中のアリル基を有するフェノール化合物の量は2000質量ppm以下と十分低い量まで低減できる。
上記の式(a)の中でも、(b)に示されるα,ω−ビス[3−(2−ヒドロキシフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサン、または(c)式に示されるα,ω−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサンが入手の容易さから好ましい。
上述の製造方法により得られる本発明のPC−POS共重合体は、(1)ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量が1〜30質量%であることを特徴とするものであり、好ましくは1〜20質量%である。
該含有量が1質量%よりも少なくなると耐落下衝撃強度向上の効果が十分ではなく、30質量%を超えると耐熱性の低下が大きくなるほか、難燃性も低下する。
上記ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量の制御は、PC−POS共重合体の製造で使用するビスフェノールAのような二価フェノール(ポリカーボネートオリゴマーを含む)に対する、末端が変性されたポリオルガノシロキサンの使用割合でコントロールすることが可能である。末端が変性されたポリオルガノシロキサンの使用割合は、通常、二価フェノールに対して1〜40質量%、好ましくは1〜25質量%用いればよい。
nが70よりも小さいと耐落下衝撃強度の向上効果が十分ではなく、1000を超えるとPC−POS共重合体を製造する際のハンドリングが難しくなり経済性に劣る。
粘度平均分子量が13000よりも小さいと成形品の強度が十分ではなく、26000を超えると生産性が低下する傾向がある。
先述したとおり共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基とは、ポリオルガノシロキサン中における未反応のアリル基を有するフェノール化合物が末端停止剤として作用し、アリル基を有するフェノール残基としてPC−POS共重合体の末端に取り込まれたものであるが、この共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が400質量ppmを超えると高温下での成形においてPC−POS共重合体に熱分解反応によると思われる黄変が発生する。
〔1〕ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体2gを塩化メチレン50mlに溶解する。
〔2〕1mol/L KOHメタノール溶液5mlを加え、5分攪拌する。
〔3〕純水40mlを加え固形分を溶解する。
〔4〕塩酸にて中和後、有機相を採取し濃縮する。
〔5〕アセトニトリルにて定容後、HPLC(日本分光株式会社製、展開溶媒はアセトニトリル/水グラジエント)にて分析する。
本発明のポリカーボネート樹脂(PC樹脂)は、前述のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A−1)100質量部及び(A−1)以外の芳香族ポリカーボネート(A−2)0〜90質量部からなるポリカーボネート樹脂であり、該ポリカーボネート樹脂中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が200質量ppm以下であることを特徴とするものである。
(A−2)成分の芳香族ポリカーボネート中には、アリル基を有するフェノール化合物は含まれないため、(A−1)成分中におけるアリル基を有するフェノール残基の量が仮に200〜400質量ppmであっても、(A−2)成分とブレンドすることにより、PC樹脂全体としてアリル基を有するフェノール残基の含有量が200質量ppm以下であれば、本発明の効果を得ることができる。
(A−2)成分の芳香族ポリカーボネートは、アリル基を有するフェノール化合物を含まない(A−1)以外の芳香族ポリカーボネートであれば特に制限はない。
例えば、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、二価フェノール系化合物をピリジン又はピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等従来の芳香族ポリカーボネートの製造法により得られるものが使用される。上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤(末端停止剤)、分岐化剤などが使用される。
(A−2)成分の製造に使用することができる分子量調節剤としては通常、PC樹脂の重合に用いられるものなら、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール、o−n−ブチルフェノール、m−n−ブチルフェノール、p−n−ブチルフェノール、o−イソブチルフェノール、m−イソブチルフェノール、p−イソブチルフェノール、o−t−ブチルフェノール、m−t−ブチルフェノール、p−t−ブチルフェノール、o−n−ペンチルフェノール、m−n−ペンチルフェノール、p−n−ペンチルフェノール、o−n−ヘキシルフェノール、m−n−ヘキシルフェノール、p−n−ヘキシルフェノール、p−t−オクチルフェノール、o−シクロヘキシルフェノール、m−シクロヘキシルフェノール、p−シクロヘキシルフェノール、o−フェニルフェノール、m−フェニルフェノール、p−フェニルフェノール、o−n−ノニルフェノール、m−ノニルフェノール、p−n−ノニルフェノール、o−クミルフェノール、m−クミルフェノール、p−クミルフェノール、o−ナフチルフェノール、m−ナフチルフェノール、p−ナフチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルフェノール、2,4−ジ−t−ブチルフェノール、3,5−ジ−t−ブチルフェノール、2,5−ジクミルフェノール、3,5−ジクミルフェノール、p−クレゾール、ブロモフェノール、トリブロモフェノール、平均炭素数12〜35の直鎖状又は分岐状のアルキル基をオルト位、メタ位又はパラ位に有するモノアルキルフェノール、9−(4−ヒドロキシフェニル)−9−(4−メトキシフェニル)フルオレン、9−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−9−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、4−(1−アダマンチル)フェノール等が挙げられる。これらの一価フェノールのなかでは、p−t−ブチルフェノール、p−クミルフェノール、p−フェニルフェノール等が好ましく用いられる。これらの一価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
分岐化剤としては、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、4,4’−[1−[4−[1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール、α,α’,α”−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリイソプロピルベンゼン、1−[α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(4”−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、フロログリシン、トリメリト酸、イサチンビス(o−クレゾール)等の官能基を3つ以上有する化合物を用いることができる。
本発明のPC樹脂には所望に応じて、従来、PC樹脂に公知の種々の添加剤が配合可能であり、添加剤としては酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、充填剤、染料、顔料、難燃剤や耐衝撃性改良等が挙げられる。
上記ポリカーボネート樹脂は、前記の(A−1)成分、(A−2)成分及び所望に応じて用いられる各種添加剤を配合し、混練する。該配合、混練は通常用いられている方法、例えば、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、コニーダ、多軸スクリュー押出機等を用いる方法により行うことができる。そして、混練に際しての加熱温度は、通常250〜300℃の範囲で選ばれる。
また、PC樹脂は、既知の種々の成形方法、例えば、射出成形、中空成形、押出成形、圧縮成形、カレンダー成形、回転成形等を適用して成形体とすることができる。
[ポリジメチルシロキサン(PDMS−1)の合成例1]
1483gのオクタメチルシクロテトラシロキサン、30.0gの1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン及び35gの86質量%硫酸を混合し、室温で17時間撹拌した。オイル相を分離し、25gの炭酸水素ナトリウムを加え、1時間撹拌し中和した。濾過後、150℃、400Paで真空蒸留し、低分子量ポリオルガノシロキサンを主とする揮発分を留去した。
59gの2−アリルフェノールと0.0014gの塩化白金−アルコラート錯体としてのプラチナとの混合物に、294gの上記で得られたオイルを90℃の温度で添加した。この混合物を90℃から115℃の温度に保ちながら3時間撹拌した。
生成物を塩化メチレン10Lに溶解後、0.3mol/L NaOH水溶液1.5Lで2回洗浄し、中和のため2質量%リン酸1.5Lで洗浄し、さらに水で1回洗浄した。30℃〜40℃とし、減圧下で塩化メチレンを濃縮留去し、さらに減圧下で60℃の温度で塩化メチレンを留去した。
核磁気共鳴(NMR)測定及びLC測定によれば、得られた2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は1000質量ppmであった。
0.3mol/L NaOH水溶液による洗浄回数を3回とした以外は合成例1と同じ。
得られた2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は100質量ppm未満であった。
[PDMS−3の合成例3]
0.3mol/L NaOH水溶液による洗浄回数を1回とし、塩化メチレンを留去する工程を真空下で200℃とした以外は合成例1と同じ。
得られた2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は2500質量ppmであった。
[PDMS−4の合成例4]
合成例1において、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを38.0gとした。
核磁気共鳴(NMR)測定及びLC測定によれば、得られた2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は70であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は800質量ppmであった。
合成例1において、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを18.0gとした。
核磁気共鳴(NMR)測定及びLC測定によれば、得られた2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は150であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は1100質量ppmであった。
[PDMS−6の合成例6]
合成例1の生成物を塩化メチレン10Lに溶解後の精製工程において、80質量%の水性メタノールで3回洗浄した。その生成物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で115℃の温度で溶剤を留去した。
得られた2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は15300質量ppmであった。
1483gのオクタメチルシクロテトラシロキサン、18.1gの1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン及び35gの86質量%硫酸を混合し、室温で17時間撹拌した。その後オイル相を分離し、25gの炭酸水素ナトリウムを加え、1時間撹拌した。その後濾過し、150℃、400Paで真空蒸留し、低沸点物を除いた。
59gの2−アリルフェノールと0.0014gの塩化白金−アルコラート錯体としてのプラチナとの混合物に、294gの上記で得られたオイルを90℃の温度で添加した。この混合物を90℃から115℃の温度に保ちながら3時間撹拌した。生成物を真空中で200℃の温度で攪拌し、揮発分を除去した。
得られた末端2−アリルフェノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、2−アリルフェノール変性PDMS中の2−アリルフェノール量は14200質量ppmであった。
合成例1において、59gの2−アリルフェノールの代わりに、72gのオイゲノールを用いた。
得られた末端オイゲノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、オイゲノール変性PDMS中のオイゲノール量は1000質量ppmであった。
[PDMS−9の合成例9]
0.3mol/L NaOH水溶液による洗浄回数を3回とした以外は合成例8と同じ。
得られた末端オイゲノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、オイゲノール変性PDMS中のオイゲノール量は100質量ppm未満であった。
[PDMS−10の合成例10]
合成例3において、59gの2−アリルフェノールの代わりに、72gのオイゲノールを用いた。
得られた末端オイゲノール変性PDMSのジメチルシロキシ単位の繰り返し数は90であり、オイゲノール変性PDMS中のオイゲノール量は16000質量ppmであった。
5.6質量%水酸化ナトリウム水溶液に後から溶解するBPAに対して2000質量ppmの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにBPA濃度が13.5質量%になるようにBPAを溶解し、BPAの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。
このBPAの水酸化ナトリウム水溶液40L/hr、塩化メチレン15L/hrの流量で、ホスゲンを4.0kg/hrの流量で内径6mm、管長30mの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を40℃以下に保った。
管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積40Lのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにBPAの水酸化ナトリウム水溶液2.8L/hr、25質量%水酸化ナトリウム水溶液0.07L/hr、水17L/hr、1質量%トリエチルアミン水溶液を0.64L/hr添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度318g/L、クロロホーメート基濃度0.75mol/Lであった。また、その重量平均分子量(Mw)は、1190であった。なお、重量平均分子量(Mw)は、展開溶媒としてTHF(テトラヒドロフラン)を用い、GPC〔カラム:TOSOH TSK-GEL MULTIPORE HXL-M(2本)+Shodex KF801(1本)、温度40℃ 流速1.0ml/分、検出器:RI〕にて、ポリスチレン換算分子量(重量平均分子量:Mw)として測定した。
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた50L槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液15L、塩化メチレン8.9L、ジメチルシロキシ単位の繰返し数が90である2−アリルフェノール末端変性PDMS(PDMS−1)320g及びトリエチルアミン8.8mL、を仕込み、攪拌下でここに6.4質量%水酸化ナトリウム水溶液1389gを加え、10分間ポリカーボネートオリゴマーと2−アリルフェノール末端変性PDMSの反応を行った。
この重合液に、p−t−ブチルフェノール(PTBP)の塩化メチレン溶液(PTBP137.9gを塩化メチレン2.0Lに溶解したもの)、BPAの水酸化ナトリウム水溶液(NaOH581gと亜二チオン酸ナトリウム2.3gを水8.5Lに溶解した水溶液にBPA1147gを溶解させたもの)を添加し50分間重合反応を実施した。希釈のため塩化メチレン10Lを加え10分間攪拌した後、ポリカーボネートを含む有機相と過剰のBPA及びNaOHを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたPC−PDMS共重合体の塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、15容積%の0.03mol/L NaOH水溶液、0.2mol/L塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が0.01μS/m以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。洗浄により得られたPC−PDMS共重合体の塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下120℃で乾燥した。
NMRにより求めたPDMS残基の量は5.0質量%、ISO1628−4(1999)に準拠して測定した粘度数は47.0、粘度平均分子量Mv=17500であった。また、PC−PDMS共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基の量は100質量ppm未満であった。
PDMSの種類、PDMSの使用量を表2に記載のとおりに変更し、PC−PDMS共重合体(PC−2〜PC−14)を製造した。得られたPC−PDMS共重合体におけるPDMS残基の量、粘度数、粘度平均分子量Mv、アリル基を有するフェノール残基の量を表2に示す。
[PC樹脂の製造]
表3に記載のとおり、製造例1〜14で得られたPC−PDMS共重合体(A−1)、(A−1)以外のポリカーボネート(A−2)、及びIRGAFOS168(商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)0.10質量部をブレンドし、ベント付き40mmφの単軸押出機によって樹脂温度280℃で造粒しペレットを得た。得られたペレットを用いて、下記の評価試験を行なった。結果は表3に記載のとおりである。
なお、(A−2)成分として用いたポリカーボネートは、FN1500A(商品名、出光興産株式会社製 ビスフェノールAポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量14,500)、FN1700A(商品名、出光興産株式会社製 ビスフェノールAポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量17,500)、FN2600A(商品名、出光興産株式会社製 ビスフェノールAポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量26,500)である。
(1)ΔYI
得られたペレットについて、射出成形により以下のように滞留熱安定性試験を行い、得られた成形品の各YI値を測定し、滞留時間が3分の時のYI値(YIA)と滞留時間が20分の時のYI値(YIB)との差をΔYIとして求めた。
〈射出成形〉
射出成形機:東芝機械工業株式会社製 EC−40(商品名)
成形品形状:80mm×40mm×3.2mm
成形機シリンダー温度:380℃
シリンダー内滞留時間:3分または20分
金型温度:80℃
〈YI測定〉
日本電色工業株式会社製の分光測色計Σ90で測定面積30φ、C2光源の透過法で測定した。
(2)Izod衝撃強さ
JIS−K−7110に準拠しノッチ付きアイゾッド衝撃強さを測定した。
(3)熱変形温度(HDT)
ASTM D648に準拠し、荷重0.45MPaで測定した。
HDTは、耐熱性の目安を示すものである。
(4)粘度平均分子量(Mv)
ウベローデ型粘度管にて、20℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、次の関係式(Schnellの式)より計算した。〔η〕=1.23×10-5×Mv0.83
Claims (7)
- 下記一般式(I)で表される構成単位からなるポリカーボネートブロック及び下記一般式(II)で表される構成単位からなるポリオルガノシロキサンブロックからなるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A−1)であって、
(1)ポリオルガノシロキサンブロック部分の含有量が1〜30質量%であり、
(2)一般式(II)の構成単位の平均繰り返し単位数が70〜1000であり、
(3)共重合体の粘度平均分子量が13000〜26000であり、
(4)共重合体中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が400質量ppm以下である
ことを特徴とするポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
- アリル基を有するフェノール残基がアリルフェノール残基又はオイゲノール残基である請求項1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
- 一般式(I)で表される構成単位が、ビスフェノールAから誘導された構成単位である請求項1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
- 一般式(II)で表される構成単位中のR3及びR4が共にメチル基である請求項1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
- 請求項1に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A−1)100質量部及び(A−1)以外の芳香族ポリカーボネート(A−2)0〜90質量部からなるポリカーボネート樹脂であり、該ポリカーボネート樹脂中におけるアリル基を有するフェノール残基の含有量が200質量ppm以下であることを特徴とするポリカーボネート樹脂。
- ポリカーボネートオリゴマーと下記一般式(III)で表されるアリル基を有するフェノール化合物で末端が変性されたポリオルガノシロキサンとを混合し、次いで、アルカリ性化合物の存在下、二価フェノールを反応させるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の製造方法において、該ポリオルガノシロキサン中におけるアリル基を有するフェノール化合物の含有量が3000質量ppm以下であるポリオルガノシロキサンを用いることを特徴とするポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の製造方法。
- アリル基を有するフェノール化合物が、アリルフェノール又はオイゲノールであることを特徴とする請求項6に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の製造方法。
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