JP2011121837A5 - - Google Patents

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本発明は、
(1)Tbを主成分とする立方晶系の多結晶焼結体(ただしTb以外の希土類元素を含有するものを除く)であって、前記焼結体は、気孔率が0.2%以下であり、1.06μmと532nmにおける3mm長さあたりの直線透過率がいずれも70%以上であり、1cmあたりTb3+イオンを2×1022個以上含むことを特徴とする、磁気光学素子用透光性酸化テルビウム焼結体。
(2)組成式(Tb1−a(式中、MはMg、Zr、Hfから選択される一種以上の元素、0.01≦a<0.3)で示される立方晶系の多結晶焼結体であって、気孔率が0.2%以下であり、1.06μmと532nmにおける3mm長さあたりの直線透過率がいずれも70%以上であることを特徴とする、磁気光学素子用透光性酸化テルビウム焼結体。
(3)前記添加元素Mが二種以上であって、一種はMgであり、他の一種以上はZrまたはHfであって、組成比が{Tb1−aMga/2(Zr,Hf)a/2(0.01≦a<0.2)となる(2)記載の磁気光学素子用透光性酸化テルビウム焼結体
(4)前記(1)〜(3)の透光性酸化テルビウム焼結体を磁気光学素子として用いたことを特徴とする磁気光学デバイス。
(5)Tbを含む粉末原料を成形し、これを1800℃以下の還元性雰囲気で焼成し、相転移による割れがない状態で室温まで冷却することによって、Tbを主成分とする立方晶系の透光性酸化テルビウム焼結体を製造する方法。
(6)Tbを含む粉末と、添加元素M (MはMg、Zr、Hfから選択される一種以上の元素)を含む粉末を、焼結後に組成式(Tb1−a(式中、0.01≦a<0.3)となるように秤量、混合、成形し、還元性雰囲気で焼成し、相転移による割れがない状態で室温まで冷却することによって、3価を越える高酸化状態のテルビウムイオンを実質含まない立方晶系の透光性酸化テルビウム焼結体を製造する方法。
に関する。
実施例2〜4[参考例]および実施例5
原料に相転移を抑制するための添加元素を含む粉末を加えた以外は、実施例1と同じ手順で焼結体を作製した。焼結体の一部からサンプリングし、X線回折分析したところ、その結晶構造は、全て立方晶系のC型希土類構造であった。

Claims (6)

  1. Tbを主成分とする立方晶系の多結晶焼結体(ただしTb以外の希土類元素を含有するものを除く)であって、
    前記焼結体は、気孔率が0.2%以下であり、1.06μmと532nmにおける3mm長さあたりの直線透過率がいずれも70%以上であり、1cmあたりTb3+イオンを2×1022個以上含むことを特徴とする、磁気光学素子用透光性酸化テルビウム焼結体。
  2. 組成式(Tb1−a(式中、MはMg、Zr、Hfから選択される一種以上の元素、0.01≦a<0.3)で示される立方晶系の多結晶焼結体であって、
    前記焼結体は、気孔率が0.2%以下であり、1.06μmと532nmにおける3mm長さあたりの直線透過率がいずれも70%以上であることを特徴とする、磁気光学素子用透光性酸化テルビウム焼結体。
  3. 前記添加元素Mが二種以上であって、一種はMgであり、他の一種以上はZrまたはHfであって、組成比が{Tb1−aMga/2(Zr,Hf)a/2(0.01≦a<0.2)となる請求項2記載の磁気光学素子用透光性酸化テルビウム焼結体。
  4. 請求項1〜3のいずれかの透光性酸化テルビウム焼結体を磁気光学素子として用いたことを特徴とする磁気光学デバイス。
  5. Tbを含む粉末原料を成形し、これを1800℃以下の還元性雰囲気で焼成し、相転移による割れがない状態で室温まで冷却することによって、Tbを主成分とする立方晶系の透光性酸化テルビウム焼結体(ただし、Tb以外の希土類元素を含有する場合を除く)を製造する方法。
  6. Tbを含む粉末と、添加元素M(MはMg、Zr、Hfから選択される一種以上の元素)を含む粉末を、焼結後に組成式(Tb1−a(式中、0.01≦a<0.3)となるように秤量、混合、成形し、還元性雰囲気で焼成し、相転移による割れがない状態で室温まで冷却することによって、3価を越える高酸化状態のテルビウムイオンを実質含まない立方晶系の透光性酸化テルビウム焼結体(ただし、Tb以外の希土類元素を含有する場合を除く)を製造する方法。
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