JP2011108932A - 光半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 56
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 48
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 32
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 75
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 16
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000005304 joining Methods 0.000 abstract description 4
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 21
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- -1 Phospho Chemical class 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0233—Mounting configuration of laser chips
- H01S5/0234—Up-side down mountings, e.g. Flip-chip, epi-side down mountings or junction down mountings
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0235—Method for mounting laser chips
- H01S5/02355—Fixing laser chips on mounts
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/04—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
- H01S5/042—Electrical excitation ; Circuits therefor
- H01S5/0425—Electrodes, e.g. characterised by the structure
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
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- H01S5/22—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure
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Abstract
【解決手段】バンク部31上に厚さ1.5μm以上のAuからなるバンク上パターン15を形成することにより、サブマウント21上のソルダ材20と、レーザチップ32のリッジ部12上部の通電層16の表面とを接触させずに離間させ、レーザチップ32とサブマウント21を接合させる際に接合部で発生する応力がリッジ部12にかかることを防ぐ。
【選択図】図1
Description
図1に、本実施の形態の光半導体装置を示す。図1は、GaAs基板1上に形成され、主面と、主面とは反対側の裏面を有するレーザチップ32の主面側を下向きにし、サブマウント21上に配線パターン23を介して形成されたソルダ材20上にレーザチップ32を接合しているものである。なお、ここではレーザチップ32はその主面を下向きにしてサブマウント21に取り付けられているため、以下の図1を参照した説明においては、レーザチップ32の主面が上側を向いているものとして各部の説明をする。
前記実施の形態1では、バンク部においてバンク上パターンの上から通電層を堆積した光半導体装置の製造工程を記載した。本実施の形態では、通電層上にバンク上パターンを形成するレーザダイオードについて説明する。
本実施の形態では、バンク上パターンの材質を絶縁物とし、バンク上パターン形成後にp側電極を堆積して形成する光半導体装置の製造工程を説明する。
2 n型クラッド層
3a、3b 光閉じ込め層
4a、4b 歪量子井戸層
5 バリア層
6 多重量子井戸活性層
7 第1p型クラッド層
8 エッチングストップ層
9 第2p型クラッド層
10 コンタクト層
11 絶縁膜
12 リッジ部
13 窒化シリコン膜
14 p側電極
15、27 バンク上パターン
16 通電層
20 ソルダ材
21 サブマウント
23 配線パターン
26 n側電極
31 バンク部
32 レーザチップ
Claims (5)
- レーザダイオードが形成された半導体基板をジャンクションダウン方式でサブマウントに接合した光半導体装置であって、
前記レーザダイオードは、
前記半導体基板の主面上に形成された、第1導電型のクラッド層と、
前記第1導電型のクラッド層の上面上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成された、第2導電型のクラッド層と、
前記第2導電型のクラッド層を含むリッジ部と、
前記リッジ部の側方に形成された、前記第2導電型のクラッド層を含むバンク部と、
前記リッジ部と電気的に接続され、前記リッジ部上部から前記バンク部上部にかけて連続して形成された第1電極と、
前記バンク部上部に形成されたバンク上パターンと、
前記半導体基板の裏面に形成された第2電極と、
を有し、
前記第1電極および前記バンク上パターンを含む前記バンク部の上面は、前記サブマウント上に形成された第3電極の上面と接合されており、
前記バンク部の上面の高さは前記リッジ部の上部の前記第1電極の上面の高さよりも高く、前記リッジ部の上部の前記第1電極の表面は、前記サブマウント上の前記第3電極の表面と離間していることを特徴とする光半導体装置。 - 前記バンク上パターンの膜厚は1.5μm以上であることを特徴とする請求項1記載の光半導体装置。
- 前記バンク上パターンは、金、酸化シリコンまたは窒化シリコンを含むことを特徴とする請求項1記載の光半導体装置。
- 前記バンク上パターンは前記第1電極の下に形成されているか、または前記第1電極の上面に接して形成されていることを特徴とする請求項1記載の光半導体装置。
- 前記レーザダイオードの前記バンク部における前記第1電極は、前記サブマウント上の前記第3電極とAuSnはんだを介して接合されていることを特徴とする請求項1記載の光半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009264062A JP5465514B2 (ja) | 2009-11-19 | 2009-11-19 | 光半導体装置 |
US12/948,794 US8442085B2 (en) | 2009-11-19 | 2010-11-18 | Semiconductor optical device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009264062A JP5465514B2 (ja) | 2009-11-19 | 2009-11-19 | 光半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011108932A true JP2011108932A (ja) | 2011-06-02 |
JP5465514B2 JP5465514B2 (ja) | 2014-04-09 |
Family
ID=44011265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009264062A Active JP5465514B2 (ja) | 2009-11-19 | 2009-11-19 | 光半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8442085B2 (ja) |
JP (1) | JP5465514B2 (ja) |
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JP2015041730A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | ウシオオプトセミコンダクター株式会社 | 半導体レーザ素子、及び半導体レーザ装置 |
US9231374B2 (en) | 2013-08-23 | 2016-01-05 | Ushio Opto Semiconductors, Inc. | Multi-beam semiconductor laser device |
JP2015135911A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 日本オクラロ株式会社 | 半導体光素子及び光モジュール |
JP2016082050A (ja) * | 2014-10-16 | 2016-05-16 | ウシオオプトセミコンダクター株式会社 | 光半導体装置 |
WO2020195282A1 (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | パナソニック株式会社 | 半導体レーザ素子 |
JP7391944B2 (ja) | 2019-03-25 | 2023-12-05 | パナソニックホールディングス株式会社 | 半導体レーザ素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8442085B2 (en) | 2013-05-14 |
JP5465514B2 (ja) | 2014-04-09 |
US20110116526A1 (en) | 2011-05-19 |
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