JP2011082525A - セラミック・パッケージならびにセラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法およびコンピュータ・プログラム(高速セラミック・モジュールにおけるノイズ結合低減およびインピーダンス不連続制御) - Google Patents

セラミック・パッケージならびにセラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法およびコンピュータ・プログラム(高速セラミック・モジュールにおけるノイズ結合低減およびインピーダンス不連続制御) Download PDF

Info

Publication number
JP2011082525A
JP2011082525A JP2010228875A JP2010228875A JP2011082525A JP 2011082525 A JP2011082525 A JP 2011082525A JP 2010228875 A JP2010228875 A JP 2010228875A JP 2010228875 A JP2010228875 A JP 2010228875A JP 2011082525 A JP2011082525 A JP 2011082525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
vcs
line
lines
length
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010228875A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5650974B2 (ja
Inventor
Jinwoo Choi
ジンウ、チェ
Anand Haridass
アナンダ、ハリダス
Roger Donell Weekly
ロジャー、ドネル、ウィークリー
Sungjun Chun
サンジュン、チャン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of JP2011082525A publication Critical patent/JP2011082525A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5650974B2 publication Critical patent/JP5650974B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30Circuit design
    • G06F30/39Circuit design at the physical level
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30Circuit design
    • G06F30/36Circuit design at the analogue level
    • G06F30/367Design verification, e.g. using simulation, simulation program with integrated circuit emphasis [SPICE], direct methods or relaxation methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0216Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
    • H05K1/0218Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
    • H05K1/0219Printed shielding conductors for shielding around or between signal conductors, e.g. coplanar or coaxial printed shielding conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/095Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
    • H01L2924/097Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
    • H01L2924/09701Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0216Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
    • H05K1/0218Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
    • H05K1/0224Patterned shielding planes, ground planes or power planes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09218Conductive traces
    • H05K2201/09236Parallel layout
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09654Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
    • H05K2201/09681Mesh conductors, e.g. as a ground plane
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

【課題】 改良された多層セラミック・パッケージを提供する。
【解決手段】 この多層セラミック・パッケージは、それぞれが1つまたは複数の信号線を有する複数の信号層と、それぞれが電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のうちの1つを提供する複数のビアと、1つまたは複数の信号層に隣接する少なくとも1つの基準メッシュ層と、複数の信号層内の第1の信号線の第1の側面上に延びる第1のVCS線および第1の信号線の第2の対向側面上に延びる第2のVCS線を備えた複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線とを含む。複数のVCS線のそれぞれは、そのVCS線が延びる指向性経路に沿って位置する1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる。信号線に対するVCS線の配置により、セラミック・パッケージ内の結合ノイズが低減され、インピーダンス不連続が制御される。
【選択図】 図3

Description

本発明は、一般に、集積回路のパッケージ化に関し、特に、改良されたセラミック・パッケージに関する。さらに詳細には、本発明は、信号トレース(signal trace)間のノイズ結合(noise coupling)の低減を示し、インピーダンス不連続制御(impedance discontinuity control)を最適化する、セラミック・パッケージを設計し製作するための方法に関する。
クロストークは、1つの線/トレース上の信号によって運搬されるエネルギーの一部が近接線/トレースに伝達される現象である。ノイズの発生源を備えた信号ネット(signal net)は攻撃ネット(aggressor net)またはアクティブ・ネット(active net)と呼ばれ、そこでノイズが生成されるネットは犠牲ネット(victimnet)または静止ネット(quiet net)と呼ばれる。クロストークは、電気回路内の信号線同士の間の容量結合および電磁結合のために発生する。クロストークにより、隣接静止信号線上にノイズが発生する可能性があり、その結果、誤った論理スイッチングを引き起こす可能性がある。また、クロストークは、複数の線が同時にスイッチングする場合にアクティブ線上のタイミングに影響を及ぼす可能性もある。
セラミック・パッケージは、優れた信頼性と多数の配線機能により広範囲の適用例で一般に使用されてきた。最近のASICの適用例では信号速度および信号入出力(I/O)の数が急速に増加しているが、このような高速信号間のノイズ結合の高さはセラミック・パッケージにおいて重大な懸念になっており、セラミック・パッケージに関する適用スペースを厳しく制限している。セラミック・パッケージ内のノイズ結合を低減するためのメカニズムの1つでは、メッシュ面(mesh plane)において金属充填物(metal filling)を使用することを提案している。しかし、このノイズ低減メカニズムは、層内の金属の量を大幅に増加する可能性があり、セラミック・パッケージ内の各金属層ごとに金属装填に関する限界を有する実際のセラミック・パッケージ適用例では制限される。
ノイズ結合を実質的に低減し、インピーダンス不連続を実質的に解消する、多層セラミック・パッケージが開示される。また、改良されたセラミック・パッケージを作成するための方法およびシステムも開示される。
このセラミック・パッケージは、それぞれが1つまたは複数の信号線を有する複数の信号層と、それぞれが電圧(Vdd)電力接続(voltage power connection)または接地(Gnd)接続(groundconnection)のうちの1つを提供する複数のビアと、1つまたは複数の信号層に隣接する少なくとも1つの基準メッシュ層(reference mesh layer)と、複数の信号層内の第1の信号線の第1の側面上に延びる第1の共面シールド線(coplanar shield line)および第1の信号線の第2の対向側面上に延びる第2の共面シールド線を備えた複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS:via-connected coplanar-type shield)線とを含む。複数のVCS線のそれぞれは、そのVCS線が延びる指向性経路(directional path)内に位置する複数のビアのうちの1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる。信号線に対するVCS線の長さおよび配置により、セラミック・パッケージ内の結合ノイズが低減され、インピーダンス不連続が制御される。
本発明の上記ならびに追加の目的、特徴、および利点は、以下の詳細な説明において明らかになるであろう。
本発明そのもの、ならびにその利点は、添付図面に併せて読んだときに、例示的な諸実施形態に関する以下の詳細な説明を参照することにより、最も良く理解されるであろう。
一実施形態の特徴を実装可能なデータ処理システムの一例のブロック図表現である。 従来技術により設計された従来のセラミック・パッケージの3次元図である。 一実施形態により、複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線がそこに挿入されている、改良されたセラミック・パッケージの3次元図である。 一実施形態により、配線/トレース層の信号線間のVCS線の相対配置を示す、改良されたセラミック・パッケージの断面図である。 一実施形態により、配線/トレース層の信号線間のVCS線の相対配置を示す、改良されたセラミック・パッケージの平面図(鳥瞰図)である。 隣接信号線をシールドするためにセラミック・パッケージ内でシールド線が使用される2通りの比較構成のうちの一方を示す図であり、少なくともしきい最小長のシールド線なしで適用されたときの構成を示す図である。 隣接信号線をシールドするためにセラミック・パッケージ内でシールド線が使用される2通りの比較構成のうちの一方を示す図であり、少なくともしきい最小長のシールド線なしで適用されたときの構成を示す図である。 隣接信号線をシールドするためにセラミック・パッケージ内でシールド線が使用される2通りの比較構成のうちの一方を示す図であり、一実施形態により、少なくともしきい最小長のVCS線を含む方法により適用されたときの構成を示す図である。 隣接信号線をシールドするためにセラミック・パッケージ内でシールド線が使用される2通りの比較構成のうちの一方を示す図であり、一実施形態により、少なくともしきい最小長のVCS線を含む方法により適用されたときの構成を示す図である。 一方はVCS構造を備えず、もう一方は一実施形態によりVCS構造を備える2通りの設計モデルについて、8つの攻撃ネットすべてによる犠牲信号ネット上のNE(近端)ノイズ波形を示すグラフである。 一方はVCS構造を備えず、もう一方は一実施形態によりVCS構造を備える2通りの設計モデルについて、8つの攻撃ネットすべてによる犠牲信号ネット上のFE(遠端)ノイズ波形を示すグラフである。 一実施形態により、VCS構造を使用して、結合ノイズの低減を示し、インピーダンス不連続の制御を可能にするためのセラミック・パッケージを設計し製作するプロセスを示す流れ図である。
例示的な諸実施形態は改良された多層セラミック・パッケージを提供し、このセラミック・パッケージは、それぞれが1つまたは複数の信号線を有する複数の信号層と、それぞれが電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のうちの1つを提供する複数のビアと、1つまたは複数の信号層に隣接する少なくとも1つの基準メッシュ層と、複数の信号層内の第1の信号線の第1の側面上に延びる第1の共面シールド線および第1の信号線の第2の対向側面上に延びる第2の共面シールド線を備えた複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線とを含む。複数のVCS線のそれぞれは、そのVCS線が延びる指向性経路内に位置する複数のビアのうちの1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる。信号線に対するVCS線の長さおよび配置により、セラミック・パッケージ内の結合ノイズが低減され、インピーダンス不連続が制御される。
さらに、この諸実施形態は、集積回路デバイスに使用されるセラミック・パッケージ/モジュール内で結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法、システム/装置、およびコンピュータ・プログラム(computer program product)をさらに提供する。多層セラミック・パッケージの設計/処理中に、処理装置内で実行されるモジュール・クロストーク低減(MCR:Module Crosstalk Reduction)ユーティリティは、信号ネットの構成を点検して、基準ビアの空間配置を決定する。MCRユーティリティは、隣接ビア間の最大しきい間隔を計算する。隣接ビア間の共振の発生を回避するために、MCRユーティリティは、周期的しきい間隔未満の距離だけ隣接ビアを分離するメッシュ層のピッチに関するレイアウト配置を選択する。このレイアウト配置はメッシュ層のピッチとして提供され、ビアはメッシュ層内に設けられたホール内に位置する。メッシュ層ピッチ(すなわち、メッシュ線間の距離)は複数の要因に基づいて変えられる設計パラメータであり、このピッチにより相互に対してビアの近接配置を可能にして共振を回避する必要性はこのような要因の1つである。MCRユーティリティは、共面シールド線のしきい長を決定し、しきい長程度かつ信号トレースの長さ程度になるように共面シールド線の長さを選択する。信号トレースの長さ全体に沿って両方の側面上に共面シールド線を平行配置することを選択することにより、MCRユーティリティは、結果として得られるセラミック・パッケージ内で結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御する。次に、MCRユーティリティによって評価された様々なパラメータは、セラミック・パッケージの生成/製作のための製作プロセスに転送される。
本発明の模範的な諸実施形態に関する以下の詳細な説明では、本発明を実施可能な特定の模範的な諸実施形態について、当業者が本発明を実施できるようにするために十分詳細に説明するが、他の諸実施形態も使用可能であり、本発明の精神または範囲を逸脱せずに、論理、アーキテクチャ、プログラム、機械、電気、その他の変更を行うことができることが理解されるはずである。したがって、以下の詳細な説明は限定的な意味で解釈すべきではなく、本発明の範囲は特許請求の範囲およびその同等物によって定義される。
図面の説明では、前の図(複数も可)と同様の要素には同様の名称および参照数字が与えられている。その後の図では異なるコンテキストでまたは異なる機能でその要素を使用する場合、その要素には、図番号を表す異なる先行数字が与えられる。その要素に割り当てられている特定の数字は、説明を支援するためにのみ与えられており、記載の実施形態に対する(構造または機能あるいはその他の)任意の制限を暗示するものではない。
特定のコンポーネント名、デバイス名、パラメータ名、あるいはこれらの組み合わせ(本明細書に記載されている実行ユーティリティ/ロジックのものなど)の使用は、例に過ぎず、本発明に対する任意の制限を暗示するものではないことは言うまでもない。したがって、本発明は、無制限にそのコンポーネント/デバイス/パラメータについて本明細書に記載するために使用される種々の命名法/用語で実装することができる。本明細書で使用する各用語には、その用語が使用されるコンテキストを考慮して最も広い解釈が与えられるはずである。
次に、図面に関連して説明すると、まず図1には、データ処理システム(DPS:data processing system)の一例のブロック図表現が描写されている。DPS100は、実質的に低減されたノイズ結合(すなわち、低減されたクロストーク)を含む、所望の機能特性を有するセラミック・パッケージを設計し、インピーダンス不連続を改善/制御し、セラミック・パッケージ/モジュール内の望ましくない共振の防止するための方法、プログラム(program product)、およびシステムに関連する上記の諸実施形態内で使用することができる。DPS100は、コンピュータ、または、一般に処理装置と見なすことができる任意の他のタイプの電子装置にすることができる。示されている通り、DPS100は、システム相互接続/バス104を介してシステム・メモリ106に接続された少なくとも1つのプロセッサまたは中央演算処理装置(CPU)102を含む。システム・バス104には入出力(I/O)コントローラ115も接続され、この入出力コントローラ115は入力装置に関する接続および制御を行い、入力装置のうちのポインティング・デバイス(またはマウス)116およびキーボード117が示されている。入出力コントローラ115は出力装置に関する接続および制御も行い、出力装置のうちのディスプレイ118が示されている。さらに、マルチメディア・ドライブ119(たとえば、読み取り/書き込みコンパクト・ディスク(CDRW:compact disk read/write)またはデジタル・ビデオ・ディスク(DVD:digital video disk)ドライブ)およびUSB(ユニバーサル・シリアル・バス)ポート120が入出力コントローラ115に結合された状態で示されている。マルチメディア・ドライブ119およびUSBポート120は、そこにデータ/命令/コードを保管することができるか、またはそこからデータ/命令/コードを取り出すことができるか、あるいはその両方を行うことができる、取り外し可能ストレージ・デバイス(たとえば、光ディスクまたは「サム(thumb)」ドライブ)の挿入を可能にする。また、DPS100は、同じくそこにデータ/命令/コードを保管することができるか、またはそこからデータ/命令/コードを取り出すことができるか、あるいはその両方を行うことができる、ストレージ122も含む。また、DPS100はネットワーク・インターフェース・デバイス(NID:network interface device)125とともに示されており、これによりDPS100は1つまたは複数のアクセス/外部ネットワーク130を介して1つまたは複数のリモート・サーバ132に接続することができ、そのネットワークのうち、一例としてインターネットが示されている。最後に、DPS100は製作設備/システム175に結合された状態で示されており、この製作設備/システム175は一般に、DPS100上で実行されるソフトウェア・コードを使用して設計されるセラミック・パッケージが実際に製作される設備を表している。製作設備175は必ずしもDPS100に結合されているわけではなく、DPS100によって生成された設計113は、取り外し可能媒体に保管するか、または外部ネットワーク130を介して別個のリモート製作設備に伝送することができる。
DPS100の上記のハードウェア・コンポーネントに加えて、メモリ106またはその他のストレージ(たとえば、ストレージ122)内に保管され、CPU102によって実行されるソフトウェア(またはファームウェア)コードまたはロジックを介して、様々なセラミック・パッケージ設計機能が完成/サポートされている。したがって、たとえば、メモリ106内には、オペレーティング・システム(OS)108(たとえば、マイクロソフト社の商標であるMicrosoft Windows(R)またはフリーソフトウェア財団およびLinux Mark Instituteの登録商標であるGNU(R)/Linux(R))、超高速集積回路ハードウェア記述言語(VHDL(Very High Speed Integrated Circuits Hardware Description Language)/Verilogアプリケーション112、シミュレータ111、トレース構成114、およびモジュール・クロストーク低減(MCR)ユーティリティ110を含む、いくつかのソフトウェア/ファームウェア/ロジック・コンポーネントが示されている。また、メモリ106には(電気的)設計113も含まれる。実際の実装例では、MCRユーティリティ110は、VHDL/Verilogアプリケーション112、設計113、およびトレース構成114を含む1つまたは複数の他のソフトウェア・モジュールと結合して、単一の実行可能コンポーネントを提供し、その実行可能コンポーネントに対応する複合コードがCPU102によって実行されたときにそれぞれの個別ソフトウェア・コンポーネントの様々な機能を一括して提供することができる。単純にするため、MCRユーティリティ110は、以下に記載する特定の機能を提供するスタンドアロンまたは個別のソフトウェア/ファームウェア・コンポーネント/モジュールとして示され記載されている。スタンドアロン・コンポーネント/モジュールとしてのMCRユーティリティ110は、VHDL/Verilogアプリケーション112などの既存のプログラム・アプリケーションに対する既製の(off-the-shelf)または販売後の(after-market)機能強化として取得することができる。少なくとも1つの実装例では、MCRユーティリティ110は、サーバまたはWebサイト(たとえば、リモート・サーバ132)からダウンロードして、DPS100上にインストールするか、またはサーバから実行することができる。
CPU102はMCRユーティリティ110ならびにOS108を実行し、OS108は、MCRユーティリティ110によってグラフィカル・ユーザ・インターフェース(GUI)の生成がサポート/提供される場合にそのGUIの生成などのMCRユーティリティ110のユーザ・インターフェース機能をサポートする。一実施形態では、MCRユーティリティ110は、MCRユーティリティ110の機能上の特徴とのユーザ対話またはその操作を可能にするために1つまたは複数のGUIを生成/提供する。
MCRユーティリティ/ロジック110によってサポートされるかまたは提供されるかあるいはその両方が行われる機能の一部は、DSP/CPU102またはその他のデバイス・ハードウェアあるいはその両方で実行される処理ロジック(またはコード)として使用可能になっており、その処理ロジックはこれらの機能(複数も可)の実装を完了する。MCRユーティリティ110によって提供されるソフトウェア・コード/命令/ロジックのうち、本発明の上記の諸実施形態に固有ものとしては、(a)設計中の特定のセラミック・パッケージのトレース・レイアウト内の隣接基準ビア間の周期的しきい間隔を決定するためのコード/ロジック、(b)最大しきい間隔未満の距離だけ隣接ビアを分離するトレース・レイアウト配置(すなわち、セラミック・パッケージのメッシュ層のピッチ)を選択するためのコード/ロジック、(c)共面シールド線のしきい長を決定するためのコード/ロジック、および(d)共面シールド線のしきい長より大きいかまたはそれに等しい最小長で、1つまたは複数の信号トレースの両方の側面上の共面シールド線の配置および長さを選択することにより、結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するためのコード/ロジックがある。セラミック・パッケージを構成するコンポーネントの相対位置および長さを決定する機能プロセスをMCRユーティリティ110が完了すると、特定の設計パラメータが設計113として保管されるか、改良されたセラミック・パッケージ(図3および図4を参照)を製作するために製作設備/システム175に伝送されるか、あるいはその両方が行われる。
例示的な諸実施形態によれば、CPU102がMCRユーティリティ110を実行すると、CPU102/DPS100は、上記の機能上の特徴ならびに追加の特徴/機能を使用可能にする一連の機能プロセスを開始する(たとえば、図12を参照)。これらの特徴/機能については、図3〜図12の説明において以下により詳細に説明する。具体的には、セラミック・パッケージ内のVCS線の利用については、後述する図3の3次元トレース構成およびそれに対応して図4〜図5に描写されている断面表現を使用して示されている。VCS構造により設計されたセラミック・パッケージに関連するインピーダンス不連続の矯正または制御あるいはその両方と、結合ノイズの相対的低減については、図6〜図11によって示されている。最後に、本明細書に記載されている改良された機能特性を提供するために、VCS構成のセラミック・パッケージの設計段階中にMCRユーティリティ110が相互に対するビア、信号線、およびVCS線の配置および寸法を決定するプロセスについては、図12によって示されている。
当業者であれば、図1に描写されているハードウェア・コンポーネントまたは基本構成あるいはその両方(ならびに本明細書に提示されているその他の図面内に描写されている構成)が様々になる可能性があることを認識するであろう。これらの図面内の例示的なコンポーネント(たとえば、DPS100)は、網羅するためのものではなく、むしろ、本発明の一実施形態を実装するために使用される本質的なコンポーネントを協調するために描写されている。たとえば、描写されているハードウェアに加えてまたはその代わりに、他のデバイス/コンポーネントを使用することができる。描写されている例は、現在記載されている諸実施形態または本発明全体あるいはその両方に関するアーキテクチャまたはその他の制限を暗示するものではない。図1に描写されているデータ処理システムは、たとえば、ニューヨーク州アーモンクのインターナショナル・ビジネス・マシーンズ社の製品であって、拡張対話式エグゼクティブ(AIX:Advanced Interactive Executive)オペレーティング・システムまたはLINUXオペレーティング・システムが実行されるIBM eServer pSeriesシステムにすることができる。
次に、図2を参照すると、3次元セラミック・パッケージの従来のモデル/設計が示されている。図示の通り、この従来のセラミック・パッケージ200は、4つのメッシュ層/面220、225、230、235と、メッシュ層/面220、225、230、235の間に差し込まれて延びる信号線260〜267を備えた複数の信号(トレース)層(3つ示されている)と、メッシュ層220、225、230、235を貫通して延びる複数の接地(Gnd)ビア240〜246および電圧(Vdd)電力ビア250〜256とを含む。特に、この従来のセラミック・パッケージ200の従来のモデル/設計では、セラミック・パッケージ内の隣接信号ネット間の結合ノイズ/クロストーク、インピーダンス不連続、および共振の問題は、望ましいものではないが、一般的である。
図3は、例示的な一実施形態により、ビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造により設計/製作された3次元の高速セラミック・パッケージの一例を示している。セラミック・パッケージ300は、一般にメッシュ面320、325、330、および335として表される4つのメッシュ層/面を含む。これらのメッシュ面の間には、第1の信号層、第2の信号層、および第3の信号層という3つの信号(トレース)層が差し込まれており、そのそれぞれはメッシュ面によって他の層から分離されている。第1の信号層は、S1トレース360、S2トレース361、およびS3トレース362という3つの信号トレース/線を含む。第2の信号層は、S4トレース363、S5犠牲トレース364、およびS6トレース365を含む。第3の信号層は、S7トレース366、S8トレース367、およびS9トレース368を含む。一実施形態では、第1の信号層、第2の信号層、および第3の信号層の信号トレースは、第1の集積回路(IC)を第2のICに接続する(どちらも明示的に示されていない)。また、セラミック・パッケージ300内には、複数の接地(Gnd)ビア340〜346および電圧(Vdd)電力ビア350〜356も示されている。最後に、周期的位置には、複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造/線370〜375が信号線の長さ全体に沿って平行方向に(または種々の信号層に対して直交するように横切って)延びており、VCS線が延びている経路内に(または指向性平面に沿って)位置する1つまたは複数のビアに接続する。セラミック・パッケージ300内のこれらのVCS線370〜375の特定の位置ならびにVCS線370〜375の長さは、MCRユーティリティ110(図1)によって完了する一連のプロセス(図12を参照)によって決定される。
特に、従来のセラミック・パッケージ200(図2)は、セラミック・パッケージ300のVCS構造を含まない。したがって、従来のセラミック・パッケージ200(およびひいては、セラミック・パッケージ200を使用して設計された集積回路(IC)デバイス)は、セラミック・パッケージ300(またはセラミック・パッケージ300を使用して作成されたICデバイスあるいはその両方)のノイズ低減、インピーダンス制御、およびその他の恩恵を達成できない。
次に、図4に関連して説明すると、VCS構造により設計または製作あるいはその両方が行われた図3のセラミック・パッケージ例300と同様のセラミック・パッケージの断面の一例を示すブロック図表現が描写されている。断面図400は、メッシュ面320、325、330、335を示している。断面図400内のセラミック・パッケージのエッジは、第1の完全導体(PEC:perfect electric conductor)境界410および第2のPEC境界412で打ち切られている。メッシュ面の間には、第1の信号層402、第2の信号層404、および第3の信号層406として描写されている3つの信号(トレース)層が差し込まれている。第1の信号層402内には、S1トレース360、S2トレース361、およびS3トレース362が示されている。本明細書で使用する信号トレースおよび信号線という用語は、区別なく使用され、同義語である。第2の信号層404は、S4トレース363、S5犠牲トレース364、およびS6トレース365を含む。第3の信号層406は、S7トレース366、S8トレース367、およびS9トレース368を含む。一実施形態では、S5トレース(364)は、他の信号トレースに対してS5トレース(364)が中央に位置する結果として、犠牲トレースと呼ばれる。他の信号トレースに対するその位置により、S5犠牲トレース364は、他の信号トレースに比較してより大きいセットの隣接信号トレースを有する。また、断面図400には、第1の接地ビア352と、第1の電圧電力ビア342と、第2の接地ビア350と、第2の電圧電力ビア340とを含む、複数のビアも示されている。
また、第1の信号層402内には、第1の信号層402内の3つの信号トレースに隣接してそれに平行方向に延びる第1のVCS線370および第2のVCS線371が示されている。第1のVCS線370はS2トレース361の第1の側面に沿って配置され、第2のVCS線371はS2トレース361の第2の対向側面上に配置されている。この配置により、第1のVCS線370はS1トレース360とS2トレース361との間に延び、第2のVCS線371はS2トレース361とS3トレース362との間に延びる。同様に、第2の信号層404内のVCS線372および373ならびに第3の信号層406内のVCS線374および375は、その特定の信号層内の隣接信号線間に延びる。さらに示されているように、VCS線370〜375はそれぞれ、そのVCS線が延びる指向性平面内の隣接信号線の近くに位置する接地ビアまたは電圧電力ビアの1つに接続し、それを越えて続く。したがって、シールド線のこのような構成は、接地ビアまたは電圧電力ビアのいずれか一方に接続されている線の特性を示すために、ビア接続共面タイプ・シールド線と適切に命名されている。VCS線は隣接信号間および犠牲トレース/線間(すなわち、その対向側面上)にのみ延びるので、いかなる信号線も電圧電力ビア340の右または接地ビア352の左に提供されないため、どのVCS線も電圧電力ビア340または接地ビア352に結合された状態で示されていない。
図5は、図4の第3の信号層406の構造レイアウトの平面図または鳥瞰図を示している。示されているコンポーネントが類似しているので、VCS構成セラミック・パッケージ(300)のこの図については簡単な説明のみを示す。第3の信号層406内のコンポーネントをより明確に提示できるようにするために、平面図401は、第1のメッシュ面(320)層を取り除いて示されている。第3の信号層406の下にはメッシュ面325が位置している。図示の通り、第3の信号層406内には、S7トレース366、S8トレース367、およびS9トレース368がある。この単一層構成により、セラミック・パッケージのxy寸法を想定すると、S8トレース367は、他の2つの信号トレースに対してS8トレース367が中央に位置する結果として、犠牲トレースを表すことになるであろう。また、平面図401内には、4つの接地ビア340、342、344、346と、4つの電圧電力ビア350、352、354、356とを含む、複数のビアが示されている。VCS線374、375は犠牲トレース(S8トレース367)に沿って延び、それぞれの線はその特定のVCS線が延びる指向性経路に沿って位置する1つまたは複数のビアに相互接続されている。したがって、たとえば、VCS線374は電圧電力ビア350および354と相互接続し、VCS線375は接地ビア342および346と相互接続する。また、それぞれのVCS線374、375は、信号線/トレース(S8トレース367)の対向側面上の信号線/トレース(S8トレース367)の長さ全体に沿って延びる。
上記のセラミック・パッケージ例の設計中に、モジュール・クロストーク低減(MCR)ユーティリティ110は、信号ネットの構成を点検して、基準ビア(すなわち、接地ビアおよびソース電力ビア)の空間配置を決定する。セラミック・モジュール300および断面図400または平面図401では、ビア間間隔460は、1対の隣接ビア(たとえば、第2の接地ビア350と第2の電圧電力ビア340)間の分離距離を表す。MCRユーティリティ110は、隣接基準ビア間の周期的しきい間隔の値を計算する。具体的には、MCRユーティリティ110は、複数の信号トレースに対応する隣接ビア間の最大しきい間隔を決定する。実質的に隣接ビア間の共振の発生を回避する(またはその発生を低減する)ために、MCRユーティリティ110は、周期的しきい間隔未満の間隔値(すなわち、ビア間間隔460)を選択する。
次に、共面シールド線の寸法(長さ)および配置を決定するプロセスを参照すると、MCRユーティリティ110は、共面シールド線(たとえば、第1の共面シールド線241および第2の共面シールド線243)のしきい長を決定し、そのしきい長は、キャパシタンスによるクロストークが特定の動作周波数で発生する可能性のある最小長に対応する。関心のある周波数(すなわち、動作周波数)では、決定されたしきい長より長い共面シールド線は、キャパシタンスによるクロストークの発生を実質的に回避する。加えて、MCRユーティリティ110は、所定のレイアウト構成に基づいて信号トレースの長さを識別する。信号トレースの全長より小さい結合長の場合にのみ延びるものとは対照的に、信号トレース(たとえば、犠牲トレース)の長さ全体に沿って延びる共面シールド線を使用すると、インピーダンス不連続が実質的に解消される。たとえば、一実施形態では、S5トレース364はS4トレース363より長い可能性がある。第3の共面シールド線372の長さは、より長いS5トレース364の長さ(すなわち、未結合長)のみに基づいて選択され、S4トレース363の(より短い)長さに依存しない。加えて、第3の共面シールド線372はS5トレース364に平行に延びる。したがって、MCRユーティリティ110は、(a)共面シールド線のしきい長および(b)信号トレース長に少なくとも等しいかまたはそれより大きい共面シールド線の(最小)長さを選択する。加えて、MCRユーティリティ110は、信号トレースの両方の側面上の共面シールド線の配置を提供する。さらに、MCRユーティリティ110は、共面シールド線が信号トレースの長さ全体に沿って延びるように、共面シールド線を配置する。
図6、図8と、図7、図9は、シールドの従来の実装例およびVCSシールドが提供される実装例において隣接信号線をシールドするためにセラミック・パッケージ内でシールド線が使用される2通りの比較構成を示している。具体的には、図6は、どちらも信号線510の長さより短い第1の距離だけ延びている2つの隣接シールド線502、504を備えた単一信号線510(犠牲線であると想定される)を示している。図7は、第1の信号線520の第1のセグメントについてのみ相互に平行に延びる、第1の信号線520および第2の信号線522という2つの隣接信号線を示している。第1の信号線は犠牲線であると想定される。第1の信号線520の長さに沿ったある点で、第2の信号線522は、第1の信号線が延び続ける方向とは異なる方向に逸れている。図6の構成は、シールド線502および504が信号線510の長さ全体に延びていない、シールド線の従来の適用例を示している。同様に、図7の従来の構成では、シールド線513および515は、第1の信号線520が延びる方向から第2の信号線522が逸れている第1の信号線(520)に沿った点まで犠牲トレース520の長さの一部分に沿って(2つの隣接信号線の間に)挿入される。この2つの従来の手法により、シールド線の延びが止まる点におけるインピーダンス特性の変化が発生し、その結果、インピーダンス不連続が発生する。次に、インピーダンス不連続により、セラミック・パッケージは、セラミック・パッケージ内またはセラミック・パッケージにより製造された任意のデバイス内あるいはその両方の望ましくないフィードバックおよびクロストーク(ノイズ結合による)を含む、否定的な信号伝搬特性を示す。
MCRユーティリティ110によって提供されるプロセスおよびVCS構造の使用により、図8および図9によって示されるように、最も長い信号線(または犠牲線あるいはその両方)の長さ全体に沿って、最も長い信号線に平行に、シールド線506、508および517、519が提供される。このVCS構造の適用は、信号線が相互に平行に延び続けるかどうかにかかわらず行われる。したがって、図8および図9の例示により、VCS線(506、508および517、519)は、少なくともMCRユーティリティ110によって計算されたしきい最小長の分だけ延びる。
したがって、MCRユーティリティ110は、シールドされた線を信号線間に敷設することによって結合ノイズを低減する。信号線間にVCS構造を配置したことにより、信号線間の電場および磁場がブロックされ、それにより、信号線間の相互キャパシタンスおよび相互インダクタンスが低減され、最終的に信号線間のクロストークが低減される。MCRユーティリティ110は、(1)これらのVCS線が接地ビアおよびVddビアに交互に接続され、(2)同じく接地ビアおよびVddビアに交互に接続されるメッシュ面によってセラミック・モジュールのすべての信号層が処理される、レイアウト構成を選択する。
一実施形態では、MCRユーティリティ110は共面シールド線の直交配置を選択する。特に、MCRユーティリティ110は、トレース層の「xy」構成により、第2の層「y」内の第2の/隣接シールド線に対して直交して第1の層「x」内の第1のシールド線を配置する。「xy」層構成は、隣接信号層の垂直配置を記述するものである。この構成では、第1の電力分配側面からのビアが第2の電力分配側面からの他のビアに対して侵入的に配置されるように、基準ビアが配置される。この「xy」構成では、MCRユーティリティ110は、xyビアに関連する一様ではない基準戻り電流の静電結合を容易にする。
本明細書に記載されており、VCS構造を使用する設計済みの方法により、近端(NE)および遠端(FE)ノイズ特性の測定可能な改善がセラミック・パッケージ例(300)内で観測される。以下の表Iは、一実施形態により、ビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造ありのレイアウト構成とビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造なしのレイアウト構成のノイズ結合比較を示している。
Figure 2011082525
図示の通り、表Iは、(a)構成列、最大NE(近端)ノイズ列、および最大絶対FE(遠端)ノイズ列という3つの列を含む。表Iは、この表の行によって示されている2通りの別個の構成に関する結合ノイズ結果を示している。第1の構成行は、VCS構造を使用しない構成に関する結果を示し、第2の構成行は、VCS構造を使用する構成に関する結果を示している。これらの構成は、コンピュータで生成され、ノイズ結合比較を提供するためにPower SPICEシミュレータで実行される。75ピコ秒(psec)の立ち上がり時間を有する1ボルト(1V)のランプ・ソースが信号線S1、S2、S3、S4、S6、S7、S8、およびS9の入力に加えられる。信号ネットS5(図4を参照)はこのシミュレーションでは犠牲ネットとして選択されたものである。これらの信号線の入力および出力は50オームの抵抗器で終端されている。
表Iは、VCS構造なしの構成およびVCS構造ありの構成について、8つの攻撃ネットのすべてによるS5犠牲信号ネット364に対する近端(NE)結合ノイズの影響を示している。表Iは、最大NEノイズ電圧がVCS構造によって大幅に低減されること(この場合、46%の低減)を示している。これは、信号線間のVCS構造により、信号線間の電場および磁場がブロックされ、それにより、信号線間の相互キャパシタンスおよび相互インダクタンスが低減され、最終的に信号線間のクロストークが低減されるからである。
加えて、表Iは、VCS構造ありの構造およびVCS構造なしの構造について、すべての攻撃ネットによるS5犠牲信号ネット220に対する遠端(FE)結合ノイズの影響を示している。セラミック・パッケージでは、FEノイズは典型的にNEノイズよりかなり大きく、したがって、FEノイズの低減はセラミック・パッケージの設計および製作中の望ましい目標である。表Iは、最大FEノイズ電圧がVCS構造によって大幅に低減されること(この場合、63%の低減)を示しており、これはシステム・パフォーマンスにとって重大なことである。
以下の表IIは、一実施形態により、VCS構造なしのセラミック・パッケージ内の犠牲信号線とVCS構造ありのセラミック・パッケージ内の犠牲信号線の特性インピーダンス比較を示している。
Figure 2011082525
表IIは、(a)構成(タイプ)列および(b)特性インピーダンス列を含む。表IIは、この表の行によって示されている2通りの別個の構成に関するインピーダンス結果を示している。第1の構成行は、VCS構造を使用しない構成に関する結果を示し、第2の構成行は、VCS構造を使用する構成に関する結果を示している。この場合も、これらの構成は、コンピュータで生成され、Power SPICEシミュレータで実行される。表IIは、VCS構造なしの構成およびVCS構造ありの構成における犠牲信号線(S5)の特性インピーダンス比較を示している。表IIは、VCS構造なしの構造とVCS構造ありの構造の特性インピーダンスがほぼ同じであることを示している。これは、VCS構造が主に信号線間の相互キャパシタンスおよび相互インダクタンスに影響を及ぼすからである。しかし、VCS構造は、信号線の自己キャパシタンスおよび自己インダクタンスにもわずかに影響を及ぼす。
最後に、以下の表IIIは、一実施形態により、メッシュ面内の金属充填物を有するレイアウト構成とVCS構造ありのレイアウト構成のノイズ結合比較を示している。
Figure 2011082525
示されている通り、表IIIは、構成列、最大NE(近端)ノイズ列、および最大絶対FE(遠端)ノイズ列を含む。表IIIは、この表の行によって示されている2通りの別個の構成に関する結合ノイズ結果を示している。第1の構成行は、メッシュ面内の金属充填物を使用する構成に関する結果を示し、第2の構成行は、VCS構造を使用する構成に関する結果を示している。前の2つの表と同様に、これらの構成は、コンピュータで生成され、ノイズ結合比較を提供するためにシミュレータで実行される。75ピコ秒(psec)の立ち上がり時間を有する1ボルト(1V)のランプ・ソースが信号線S1、S2、S3、S4、S6、S7、S8、およびS9の入力に加えられる。信号ネットS5はこのシミュレーションでは犠牲ネットとして選択される。これらの信号線の入力および出力は50オームの抵抗器で終端されている。
表IIIは、金属充填物を有する構成およびビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造を有する構成について、8つの攻撃ネットのすべてによるS5犠牲信号ネット364(図4)に対する近端(NE)結合ノイズの影響を示している。表IIIは、最大NEノイズ電圧がVCS構造によって低減されること(この場合、17%の低減)を示している。加えて、表IIIは、金属充填物を有する構造およびVCS構造を有する構造について、すべての攻撃ネットによるS5犠牲信号ネット220に対する遠端(FE)結合ノイズの影響を示している。表IIIは、最大FEノイズ電圧がVCS構造によって低減されること(この場合、19%の低減)を示している。
観測されたノイズ低減に加えて、セラミック・パッケージ内のVCS構造の使用は、セラミック・パッケージ内の金属装填限界に違反しない。したがって、VCS構造の使用は、メッシュ面内の金属充填物を使用する方法より、実際のセラミック・パッケージにおいてより大きいノイズ低減を可能にする。
図10は、(1)第1の従来設計のセラミック・パッケージ(メッシュ面上のシールド金属とともに設計されたものなど)、および(2)一実施形態により、ビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造とともに設計されたセラミック・パッケージ例について、8つの攻撃ネットすべてによる犠牲信号ネット(たとえば、図3または図4および図5の信号トレース5 364)上のNE(近端)ノイズ波形の比較を示すグラフである。グラフ600は、VCS構造なしのトレース構成による第1のNE(近端)ノイズ波形602を描写している。また、グラフ600は、VCS構造を有するトレース構成による第2のNE(近端)ノイズ波形604も描写している。第1のNEノイズ波形602と第2のNEノイズ波形604の比較は、最大NEノイズ電圧がVCS構造によって大幅に低減されること(グラフ600の場合、46%の低減)を示している。信号線間に配置されたVCS構造が信号線間の電場および磁場をブロックするので、VCS構造ありのモデルは相当なノイズ低減を達成する。その結果、信号線間の相互キャパシタンスおよび相互インダクタンスが低減され、最終的に信号線間のクロストークが低減される。
図11は、(1)第1の従来設計のセラミック・パッケージ(メッシュ面上のシールド金属とともに設計されたものなど)、および(2)一実施形態により、ビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造とともに設計されたセラミック・パッケージ例について、8つの攻撃ネットすべてによる犠牲信号ネット(たとえば、図3または図4および図5の信号トレース5 364)上のFE(遠端)ノイズ波形の比較を示すグラフである。グラフ620は、VCS構造を有するトレース構成による第1のFE(遠端)ノイズ波形622を描写している。加えて、グラフ620は、VCS構造なしのトレース構成による第2のFE(遠端)ノイズ波形624も描写している。第1のFEノイズ波形622と第2のFEノイズ波形624の比較は、最大FEノイズ電圧がVCS構造によって大幅に低減されること(すなわち、グラフ620の場合、63%の低減)を示しており、このノイズ低減は、セラミック・パッケージまたはセラミック・パッケージから製作されたICあるいはその両方のパフォーマンスにとって重大なことである。
図12は、例示的な諸実施形態の上記のプロセスが完了される方法を示す流れ図である。特に、図12は、セラミック・パッケージに関するワイヤ・トレース構成において結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するためにVCS構造を有するセラミック・パッケージを設計するプロセスを示している。図12に示されている方法は、図1および図3〜図9に示されているコンポーネントに関連して説明することができるが、これは便宜上に過ぎず、この方法を実装するときにその代替コンポーネントまたは構成あるいはその両方を使用できることを理解されたい。この方法の主要部分は、プロセッサ(たとえば、DPS100(図1)内のプロセッサ102)上で実行され、DPS100の特定の動作/DPS100上の特定の動作を制御するMCRユーティリティ110によって完了することができる。したがって、この方法については、MCRユーティリティ110およびDPS100のいずれか一方/両方の観点から説明する。
図12のプロセスは、イニシエータ・ブロック702から始まり、ブロック704に移行し、そこでモジュール・クロストーク低減(MCR)ユーティリティ110は信号ネットの構成を点検して基準ビアの空間配置を決定する。ブロック706で、MCRユーティリティ110は隣接ビア間の最大しきい間隔を計算する。ブロック708で、MCRユーティリティ110は、しきい間隔未満の距離だけ隣接ビアを分離するレイアウト配置を選択する。このしきい間隔は、メッシュ層のピッチがしきい間隔より小さくなるように、メッシュ層の構成に要因として考慮される。ブロック710で、MCRユーティリティ110は共面シールド線のしきい長を決定する。ブロック712で、MCRユーティリティ110は信号トレースの長さを識別する。ブロック714で、MCRユーティリティ110は、しきい長程度かつ信号トレースの長さ程度になるように共面シールド線の長さを選択する。ブロック716で、MCRユーティリティ110は、各信号トレースの両方の側面上の共面シールド線の配置を選択する。ブロック718で、MCRユーティリティ110は、VCS構造により構成されたセラミック・パッケージのトレース・レイアウト設計を製作システムに提供する。次に、製作システムは、ブロック720に示されるように、MCRユーティリティによって生成されたレイアウト/設計に基づいてVCS構造を有する強化セラミック・パッケージを生成/製作する。プロセスはブロック722で終了する。
上記の流れ図では、この方法の特定のプロセスは、本発明の精神および範囲を逸脱せずに、結合されるか、同時にまたは異なる順序で実行されるか、あるいは省略される。したがって、方法プロセスは特定の順番で記載され示されているが、特定の順番のプロセスの使用は、本発明に対する任意の制限を暗示するものではない。本発明の精神または範囲を逸脱せずに、プロセスの順番に関して変更を行うことができる。したがって、特定の順番の使用は限定的な意味で解釈するべきではなく、本発明の範囲は特許請求の範囲およびその同等物に及ぶものである。
当業者であれば分かるように、本発明のソフトウェア態様は、コンピュータ・プログラム内の方法またはロジックあるいはその両方として実施することができる。したがって、本発明は、完全にハードウェアの実施形態、完全にソフトウェアの実施形態(ファームウェア、常駐ソフトウェア、マイクロコードなどを含む)、またはハードウェアとソフトウェアの態様を結合する実施形態の形を取ることができ、そのいずれも本明細書では一般に「回路」、「モジュール」、「ロジック」、または「システム」と呼ぶことができる。さらに、本発明は、コンピュータ使用可能プログラム・コードがその媒体に実施されているコンピュータ使用可能記憶媒体上のコンピュータ・プログラムの形を取ることができる。
したがって、上記に詳細に記載されているように、この実施形態の方法またはプログラム実装例は、セラミック・パッケージの製作システムを提供し、そこでセラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法が実装される。この方法は、少なくとも1つの基準メッシュ層を設けるステップと、複数の信号トレース層を設けるステップであって、それぞれの信号層が1つまたは複数の信号トレース/線を有し、そのメッシュ層が複数の信号層のうちの1つまたは複数の信号層に隣接する、設けるステップと、少なくとも1つの基準メッシュ層内の周期的位置に複数のビアを配置するステップであって、それぞれのビアが電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のうちの1つを提供する、配置するステップと、1つまたは複数の信号線に対して複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線を選択的に配置するステップであって、第1の共面シールド線が複数の信号層内の第1の信号線の第1の側面上に延び、第2の共面シールド線が前記第1の信号線の第2の対向側面上に延びる、選択的に配置するステップとを含む。複数の共面シールド線のそれぞれは、その共面シールド線が延びる指向性平面に沿って位置する複数のビアのうちの1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる。
さらに、この方法およびプログラムは、複数の信号トレースに対応する隣接ビア間の最大しきい間隔を決定する機能と、最大しきい間隔未満の距離だけ隣接ビアを分離する配線/トレース層の構成を提供する機能と、共面シールド線のしきい長を計算するモジュール・クロストーク低減(MCR)ユーティリティを製作システムのプロセッサが実行する機能と、しきい長に基づいて共面シールド線の最小長を選択する機能とを提供する。複数のVCS線を選択的に配置するステップは、複数の信号トレース内の1つの信号トレースの第1の側面上に少なくとも最小長の第1の共面シールド線を配置し、前記信号トレースの第2の対向側面上に同じく少なくとも最小長の第2の共面シールド線を配置するステップをさらに含む。また、第1の共面シールド線および第2の共面シールド線は信号トレースに平行に配置される。
さらに分かるように、本発明の諸実施形態のプロセスは、ソフトウェア、ファームウェア、マイクロコード、またはハードウェアの任意の組み合わせを使用して実装することができる。ソフトウェアで本発明を実施する前の予備ステップとして、プログラミング・コード(ソフトウェアかファームウェアにかかわらず)は典型的に、固定(ハード)ドライブ、ディスケット、磁気ディスク、光ディスク、磁気テープ、RAM、ROM、PROMなどの半導体メモリなどの1つまたは複数の機械可読記憶媒体に保管され、それにより、本発明による装置(article of manufacture)が作成される。プログラミング・コードを含むこの装置は、記憶装置から直接、そのコードを実行するか、記憶装置からDPS100(図1)のメモリ106またはハード・ディスクなどの他の記憶装置にそのコードをコピーするか、あるいはデジタルおよびアナログ通信リンクなどの伝送タイプの媒体を使用してリモート実行するためにそのコードを伝送することによって使用される。この媒体は、電子、磁気、光、電磁、赤外線、半導体システム(あるいは装置またはデバイス)、もしくは伝搬媒体にすることができる。さらに、この媒体は、実行システム、装置、またはデバイスによってあるいはそれらに関連して使用するために、プログラムを収容、保管、通信、伝搬、または伝送することができる、任意の装置にすることができる。本発明の方法は、上記の実施形態(複数も可)によるコードを含む1つまたは複数の機械可読記憶装置と、そこに含まれるコードを実行するための適切な処理ハードウェアを結合することによって実施することができる。本発明を実施するための装置は、本発明によりコード化されたプログラム(複数も可)を含むかまたはそれに(サーバを介して)ネットワーク・アクセスできる、1つまたは複数の処理装置および記憶システムにすることができる。一般に、コンピュータ、コンピュータ・システム、またはデータ処理システムという用語は、メモリ媒体からの命令/コードを実行するプロセッサ(または処理装置)を有する任意の装置を包含するように広く定義することができる。
模範的な諸実施形態に関連して本発明を説明してきたが、当業者であれば、本発明の範囲を逸脱せずに、様々な変更が可能であり、その要素の代わりに同等物を代用できることを理解するであろう。加えて、その本質的な範囲を逸脱せずに、その特定のシステム、デバイス、またはコンポーネントを本発明の教示に適合させるために多くの修正を行うことができる。したがって、本発明は本発明を実施するために開示された特定の諸実施形態に制限されず、特許請求の範囲に該当するすべての諸実施形態を含むことが意図されている。その上、第1、第2などの用語の使用は任意の順序または重要性を示すものではなく、むしろ、第1、第2などの用語はある要素を他の要素と区別するために使用される。
300 セラミック・パッケージ
320、325、330、335 メッシュ面
360 S1トレース
361 S2トレース
362 S3トレース
363 S4トレース
364 S5犠牲トレース
365 S6トレース
366 S7トレース
367 S8トレース
368 S9トレース
340〜346 接地(Gnd)ビア
350〜356 電圧(Vdd)電力ビア
370〜375 ビア接続共面タイプ・シールド(VCS)構造/線

Claims (20)

  1. それぞれが1つまたは複数の信号線を有する複数の信号層と、
    セラミック・パッケージ内に配置され、それぞれのビアが電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のうちの1つを提供する複数のビアと、
    前記複数の信号層のうちの1つまたは複数の信号層に隣接する少なくとも1つの基準メッシュ層であって、前記少なくとも1つの基準メッシュ層のそれぞれが電圧電力接続または接地接続のいずれか一方に接続される、少なくとも1つの基準メッシュ層と、
    複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線であって、第1のVCS線が前記複数の信号層のうちの1つの信号層内の第1の信号線の第1の側面に沿って延び、第2の共面シールド線が前記第1の信号線の第2の対向側面に沿って延びる、複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線とを含み、
    前記複数のVCS線のそれぞれが、前記VCS線が延びる指向性経路を横切って延びる前記複数のビアのうちの1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる、
    多層セラミック・パッケージ。
  2. 前記複数のビアのうちの選択ビアとVCS線との相互接続の周期性により、前記セラミック・パッケージ内の相互接続間のノイズ結合の低減が提供される、請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  3. 前記複数のVCS線のそれぞれが1つまたは複数の隣接信号線の長さに対して少なくとも第1のしきい長の分だけ延び、前記第1のしきい長が、隣接信号線間のノイズ結合が実質的に低減され、インピーダンス不連続が制御される長さである、請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  4. 前記複数のビアが前記複数の信号層のうちの1つまたは複数の信号層および前記複数の基準メッシュ層のうちの1つまたは複数の基準メッシュ層を貫通して垂直に延び、
    VCS線に結合された各ビアが、前記ビアによる共振が実質的に解消される所定の最大しきい間隔未満の距離だけ次の隣接ビアから分離される、
    請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  5. 前記複数のVCS線のそれぞれが、前記VCS線によってシールドされる前記信号線の前記長さに沿って平行方向に延びる、請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  6. 前記複数のVCS線がxy平面対構造内の層間で互いに直交するように延びる、請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  7. 前記信号線間に位置する前記1つまたは複数のVCS線が前記信号線間の電場および磁場をブロックし、前記信号線間の相互キャパシタンスおよび相互インダクタンスを低減し、それが前記信号線間のクロストークをさらに低減する、請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  8. 前記多層セラミック・パッケージがガラスセラミック・パッケージである、請求項1記載の多層セラミック・パッケージ。
  9. 請求項1記載の前記多層セラミック・パッケージを使用して製造された集積回路。
  10. セラミック・パッケージの製作システムにおいて、セラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法であって、
    少なくとも1つの基準メッシュ層を設けるステップと、
    複数の信号トレース層を設けるステップであって、それぞれの信号層が1つまたは複数の信号線を有し、
    前記少なくとも1つの基準メッシュ層が前記複数の信号層のうちの1つまたは複数の信号層に隣接する、前記設けるステップと、
    前記少なくとも1つの基準メッシュ層の各セクションを通って複数のビアを配置するステップであって、前記複数のビアのうちのそれぞれのビアが電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のうちの1つを提供する、前記配置するステップと、
    前記1つまたは複数の信号線に対して複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線を選択的に配置するステップであって、第1のVCS線が前記複数の信号層内の第1の信号線の第1の側面に沿って延び、第2のVCS線が前記第1の信号線の第2の対向側面に沿って延び、
    前記複数のVCS線のそれぞれが、前記VCS線が延びる指向性経路内に位置する前記複数のビアのうちの1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる、前記選択的に配置するステップと、
    を含む、方法。
  11. 前記複数の信号トレースに対応する隣接ビア間の最大しきい間隔を決定するステップと、
    前記最大しきい間隔未満の距離だけ隣接ビアを分離する配線/トレース層の構成を提供するステップと、
    前記VCS線のしきい長を計算するモジュール・クロストーク低減(MCR)ユーティリティを前記製作システムのプロセッサが実行するステップと、
    前記しきい長に基づいて前記VCS線の最小長を選択するステップと、
    をさらに含み、
    前記複数のVCS線を選択的に配置するステップが、前記複数の信号トレース内の1つの信号トレースの第1の側面上に少なくとも前記最小長の第1のVCS線を配置し、前記信号トレースの第2の側面上に同じく少なくとも前記最小長の第2のVCS線を配置するステップを含み、前記第1のVCS線および前記第2のVCS線が前記信号トレースに平行に配置される、請求項10記載の方法。
  12. 前記最大しきい間隔を決定するステップが、
    前記最大しきい間隔の値として、それ以下で共振の発生が実質的に回避される間隔値を計算するステップ
    をさらに含み、
    前記共振が隣接ビア間の分離に依存する、請求項11記載の方法。
  13. 前記共面シールド線の前記最小長を選択するステップが、
    前記しきい長より大きい前記VCS線の長さを選択するステップであって、関心のある周波数で、前記VCS線の前記最小長がキャパシタンスによるクロストークの発生を実質的に回避する、前記選択するステップ
    をさらに含む、請求項11記載の方法。
  14. 前記VCS線の前記最小長を選択するステップが、
    前記複数の信号トレース内の前記信号トレースの信号トレース長を識別するステップと、
    前記VCS線の前記最小長として、(a)前記しきい長、および(b)前記信号トレース長に少なくとも等しいかまたはそれより大きい、選択された長さを選択するステップと、
    をさらに含む、請求項11記載の方法。
  15. 第2の信号層内の第2のVCS線に対して第1の信号層内の第1のVCS線の直交配置を提供するステップであって、前記第1の信号層が前記第2の信号層に対して垂直に構成される、前記提供するステップ
    をさらに含む、請求項11記載の方法。
  16. 前記少なくとも1つのメッシュ面を接地ビアおよび電圧電力ビアのうちの1つに接続するステップであって、前記少なくとも1つの基準メッシュ層のそれぞれが、電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のいずれか一方に接続される、前記接続するステップと、
    前記VCS線を信号トレースの平面に平行に延ばすステップと、
    (a)第1の側面上の接地ビアと第2の側面上の電力供給ビアとの間に信号トレースを配置するプロセスと、(b)あるタイプのビアに基づいてビアを配置するための第2の交互配置で第1のタイプのビアと第2のタイプのビアを構成するプロセスにより、ビアおよび信号トレースの第1の交互配置を提供するステップであって、
    前記第1のタイプのビアが接地ビアであり、前記第2のタイプのビアが電力供給ビアである、前記提供するステップと、
    前記第2の交互配置でVCS線を接地ビアおよび電力供給ビアに接続するステップと、
    をさらに含む、請求項11記載の方法。
  17. 高速セラミック・パッケージの製作および設計時に使用するためのコンピュータ・プログラムであって、
    コンピュータ可読媒体と、
    前記コンピュータ可読媒体上のプログラム・コードであって、データ処理装置内で実行されたときに、
    少なくとも1つの基準メッシュ層を設ける機能と、
    複数の信号トレース層を設ける機能であって、それぞれの信号層が1つまたは複数の信号トレース/線を有し、
    前記少なくとも1つの基準メッシュ層が前記複数の信号層のうちの1つまたは複数の信号層に隣接する、前記設ける機能と、
    前記少なくとも1つの基準メッシュ層の各セクションに複数のビアを配置する機能であって、それぞれのビアが電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のうちの1つを提供する、前記配置する機能と、
    前記1つまたは複数の信号線に対して複数のビア接続共面タイプ・シールド(VCS)線を選択的に配置する機能であって、第1のVCS線が前記複数の信号層内の第1の信号線の第1の側面上に延び、第2のVCS線が前記第1の信号線の第2の対向側面上に延び、
    前記複数のVCS線のそれぞれが、前記VCS線が延びる指向性経路に沿って位置する前記複数のビアのうちの1つまたは複数のビアと相互接続し、それを通り越して延びる、前記選択的に配置する機能と、
    を提供するプログラム・コードと、
    を含む、コンピュータ・プログラム。
  18. 前記プログラム・コードが、
    前記複数の信号トレースに対応する隣接ビア間の最大しきい間隔を決定するためのコードと、
    前記最大しきい間隔未満の距離だけ隣接ビアを分離する配線/トレース層の構成を提供するためのコードと、
    前記VCS線のしきい長を計算するモジュール・クロストーク低減(MCR)ユーティリティを前記プロセッサが実行するためのコードと、
    前記しきい長に基づいて前記VCS線の最小長を選択するためのコードと、
    をさらに含み、
    前記複数のVCS線を選択的に配置する機能が、前記複数の信号トレース内の1つの信号トレースの第1の側面上に少なくとも前記最小長の第1のVCS線を配置し、前記信号トレースの第2の側面上に同じく少なくとも前記最小長の第2のVCS線を配置する機能を含み、前記第1のVCS線および前記第2のVCS線が前記信号トレースに平行に配置される、請求項17記載のコンピュータ・プログラム。
  19. 前記最大しきい間隔を決定するためのプログラム・コードが、
    前記最大しきい間隔の値として、それ以下で共振の発生が実質的に回避される間隔値を計算するためのプログラム・コードであって、前記共振が隣接ビア間の分離に依存する、プログラム・コード
    をさらに含み、
    前記VCS線の前記最小長を選択するためのプログラム・コードが、
    前記しきい長より大きい前記VCS線の長さを選択するためのプログラム・コードであって、関心のある周波数で、前記VCS線の前記最小長がキャパシタンスによるクロストークの発生を実質的に回避する、前記選択するためのプログラム・コードと、
    前記複数の信号トレース内の前記信号トレースの信号トレース長を識別するためのプログラム・コードと、
    前記VCS線の前記最小長として、(a)前記しきい長、および(b)前記信号トレース長に少なくとも等しいかまたはそれより大きい、選択された長さを選択するためのプログラム・コードと、
    をさらに含む、請求項17記載のコンピュータ・プログラム。
  20. 前記プログラム・コードが、
    前記少なくとも1つのメッシュ面を接地ビアおよび電圧電力ビアのうちの1つに接続するためのコードであって、前記少なくとも1つの基準メッシュ層のそれぞれが、電圧(Vdd)電力接続または接地(Gnd)接続のいずれか一方に接続される、前記接続するためのコードと、
    前記VCS線を信号線の平面に平行に延ばすためのコードと、
    (a)第1の側面上の接地ビアと第2の側面上の電力供給ビアとの間に信号線を配置するプロセスと、(b)あるタイプのビアに基づいてビアを配置するための第2の交互配置で第1のタイプのビアと第2のタイプのビアを構成するプロセスにより、ビアおよび信号線の第1の交互配置を提供するためのコードであって、
    前記第1のタイプのビアが接地ビアであり、前記第2のタイプのビアが電力供給ビアである、前記提供するためのコードと、
    前記第2の交互配置でVCS線を接地ビアおよび電力供給ビアに接続するためのコードと、
    をさらに含む、請求項17記載のコンピュータ・プログラム。
JP2010228875A 2009-10-12 2010-10-08 セラミック・パッケージならびにセラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法およびコンピュータ・プログラム(高速セラミック・モジュールにおけるノイズ結合低減およびインピーダンス不連続制御) Expired - Fee Related JP5650974B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/577259 2009-10-12
US12/577,259 US8288657B2 (en) 2009-10-12 2009-10-12 Noise coupling reduction and impedance discontinuity control in high-speed ceramic modules

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011082525A true JP2011082525A (ja) 2011-04-21
JP5650974B2 JP5650974B2 (ja) 2015-01-07

Family

ID=43853933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010228875A Expired - Fee Related JP5650974B2 (ja) 2009-10-12 2010-10-08 セラミック・パッケージならびにセラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法およびコンピュータ・プログラム(高速セラミック・モジュールにおけるノイズ結合低減およびインピーダンス不連続制御)

Country Status (3)

Country Link
US (2) US8288657B2 (ja)
JP (1) JP5650974B2 (ja)
KR (1) KR101211285B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013115430A (ja) * 2011-11-28 2013-06-10 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 交互間隔を備えるメッシュ平面を作製するための多層セラミック・パッケージ、方法、システム、およびコンピュータ読み取り可能媒体

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8927879B2 (en) 2010-11-22 2015-01-06 International Business Machines Corporation Crosstalk reduction between signal layers in a multilayered package by variable-width mesh plane structures
CN103778266A (zh) * 2012-10-18 2014-05-07 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 信号线走线检查系统及方法
US9113555B2 (en) 2012-12-21 2015-08-18 Intel Corporation Apparatus for differential far-end crosstalk reduction
US20140252638A1 (en) * 2013-03-08 2014-09-11 Qualcomm Incorporated Vertical interconnects crosstalk optimization
CN104470266A (zh) * 2014-12-09 2015-03-25 深圳怡化电脑股份有限公司 一种控制高速pcb信号阻抗的方法
WO2017111834A1 (en) * 2015-12-26 2017-06-29 Intel Corporation Ground plane vertical isolation of, ground line coaxial isolation of, and impedance tuning of horizontal data signal transmission lines routed through package devices
DE112017006314B4 (de) 2016-12-15 2022-12-29 Fraunhofer-Gesellschaft Vorrichtung für Spannungsverteilungen, Verfahren zum Zusammensetzen eines Spannungsverteilungsnetzes für mehrere integrierte Schaltungen und Nichttransitorisches oder transitorisches computerlesbares Medium
WO2019232172A1 (en) * 2018-05-30 2019-12-05 University Of Kansas Multipurpose front-end board to characterize solid-state sensors for particle detection
US10652998B2 (en) 2018-09-21 2020-05-12 International Business Machines Corporation Multilayer ceramic electronic package with modulated mesh topology
US11071197B2 (en) 2018-09-21 2021-07-20 International Business Machines Corporation Multilayer ceramic electronic package with modulated mesh topology and alternating rods

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6021A (en) * 1849-01-09 Cast-iron cab-wheel
JPH044405U (ja) * 1990-04-25 1992-01-16
JPH05343601A (ja) * 1992-02-03 1993-12-24 Ncr Internatl Inc 集積回路の接続システム
JPH0653351A (ja) * 1992-05-20 1994-02-25 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 多層配線を有する電子パッケージ基板及び方法
JPH0883295A (ja) * 1994-07-29 1996-03-26 Hewlett Packard Co <Hp> コンピュータ支援設計方法及び装置
JP2000020573A (ja) * 1998-07-03 2000-01-21 Nec Corp プリント基板配線処理システム及び方法
JP2001007518A (ja) * 1999-06-24 2001-01-12 Kyocera Corp 多層配線基板
JP2001102817A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Nec Corp 高周波回路及び該高周波回路を用いたシールディドループ型磁界検出器
WO2007077623A1 (ja) * 2006-01-04 2007-07-12 Fujitsu Limited 半導体集積回路におけるシールド線の配置方法、半導体集積回路の設計装置、及び半導体集積回路の設計プログラム
JP2009151364A (ja) * 2007-12-18 2009-07-09 Ydc Corp 基板設計装置
JP2009224475A (ja) * 2008-03-14 2009-10-01 Toshiba Corp プリント配線板
WO2009122494A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 富士通株式会社 配線基板設計支援装置、配線基板設計支援方法、配線基板設計支援プログラムおよび同プログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4866507A (en) * 1986-05-19 1989-09-12 International Business Machines Corporation Module for packaging semiconductor integrated circuit chips on a base substrate
US4811082A (en) * 1986-11-12 1989-03-07 International Business Machines Corporation High performance integrated circuit packaging structure
US5508938A (en) * 1992-08-13 1996-04-16 Fujitsu Limited Special interconnect layer employing offset trace layout for advanced multi-chip module packages
US5272600A (en) * 1992-09-02 1993-12-21 Microelectronics And Computer Technology Corporation Electrical interconnect device with interwoven power and ground lines and capacitive vias
US5410107A (en) * 1993-03-01 1995-04-25 The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Multichip module
US5329498A (en) * 1993-05-17 1994-07-12 Hewlett-Packard Company Signal conditioning and interconnection for an acoustic transducer
JP3199592B2 (ja) * 1995-01-27 2001-08-20 株式会社日立製作所 多層印刷回路基板
JPH0918156A (ja) 1995-06-27 1997-01-17 Mitsubishi Electric Corp 多層プリント配線板
WO1998047331A1 (fr) * 1997-04-16 1998-10-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Tableau de connexions, son procede de fabrication et boitier de semi-conducteur
US6483714B1 (en) * 1999-02-24 2002-11-19 Kyocera Corporation Multilayered wiring board
JP2001085849A (ja) 1999-09-17 2001-03-30 Kyocera Corp 多層配線基板
JP2001085848A (ja) 1999-09-17 2001-03-30 Kyocera Corp 多層配線基板
US6442041B2 (en) * 1999-12-21 2002-08-27 International Business Machines Corporation MCM—MLC technology
US6510545B1 (en) * 2000-01-19 2003-01-21 Sun Microsystems, Inc. Automated shielding algorithm for dynamic circuits
JP2002033556A (ja) 2000-07-18 2002-01-31 Nippon Mektron Ltd 可撓性回路基板
US6545346B2 (en) * 2001-03-23 2003-04-08 Intel Corporation Integrated circuit package with a capacitor
JP2002329976A (ja) * 2001-04-26 2002-11-15 Kyocera Corp 多層配線基板
US6657130B2 (en) * 2001-09-20 2003-12-02 International Business Machines Corporation Electrical and physical design integration method and apparatus for providing interconnections on first level ceramic chip carrier packages
US6734472B2 (en) * 2002-04-25 2004-05-11 Synplicity, Inc. Power and ground shield mesh to remove both capacitive and inductive signal coupling effects of routing in integrated circuit device
US6800939B2 (en) * 2002-05-29 2004-10-05 The Board Of Trustees For The University Of Arkansas Apparatus and method for providing low-loss transmission lines in interconnected mesh plane systems
US7943436B2 (en) * 2002-07-29 2011-05-17 Synopsys, Inc. Integrated circuit devices and methods and apparatuses for designing integrated circuit devices
US7176383B2 (en) * 2003-12-22 2007-02-13 Endicott Interconnect Technologies, Inc. Printed circuit board with low cross-talk noise
US7348667B2 (en) * 2005-03-22 2008-03-25 International Business Machines Corporation System and method for noise reduction in multi-layer ceramic packages
CN101043788A (zh) * 2006-03-21 2007-09-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 印刷电路板
US7465882B2 (en) * 2006-12-13 2008-12-16 International Business Machines Corporation Ceramic substrate grid structure for the creation of virtual coax arrangement
US8028406B2 (en) * 2008-04-03 2011-10-04 International Business Machines Corporation Methods of fabricating coplanar waveguide structures
US20110061898A1 (en) * 2009-09-15 2011-03-17 International Business Machines Corporation Reducing cross-talk in high speed ceramic packages using selectively-widened mesh

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6021A (en) * 1849-01-09 Cast-iron cab-wheel
JPH044405U (ja) * 1990-04-25 1992-01-16
JPH05343601A (ja) * 1992-02-03 1993-12-24 Ncr Internatl Inc 集積回路の接続システム
JPH0653351A (ja) * 1992-05-20 1994-02-25 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 多層配線を有する電子パッケージ基板及び方法
JPH0883295A (ja) * 1994-07-29 1996-03-26 Hewlett Packard Co <Hp> コンピュータ支援設計方法及び装置
JP2000020573A (ja) * 1998-07-03 2000-01-21 Nec Corp プリント基板配線処理システム及び方法
JP2001007518A (ja) * 1999-06-24 2001-01-12 Kyocera Corp 多層配線基板
JP2001102817A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Nec Corp 高周波回路及び該高周波回路を用いたシールディドループ型磁界検出器
WO2007077623A1 (ja) * 2006-01-04 2007-07-12 Fujitsu Limited 半導体集積回路におけるシールド線の配置方法、半導体集積回路の設計装置、及び半導体集積回路の設計プログラム
JP2009151364A (ja) * 2007-12-18 2009-07-09 Ydc Corp 基板設計装置
JP2009224475A (ja) * 2008-03-14 2009-10-01 Toshiba Corp プリント配線板
WO2009122494A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 富士通株式会社 配線基板設計支援装置、配線基板設計支援方法、配線基板設計支援プログラムおよび同プログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013115430A (ja) * 2011-11-28 2013-06-10 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 交互間隔を備えるメッシュ平面を作製するための多層セラミック・パッケージ、方法、システム、およびコンピュータ読み取り可能媒体

Also Published As

Publication number Publication date
US8288657B2 (en) 2012-10-16
US20110083888A1 (en) 2011-04-14
US20120204141A1 (en) 2012-08-09
JP5650974B2 (ja) 2015-01-07
KR20110040684A (ko) 2011-04-20
KR101211285B1 (ko) 2012-12-12
US8645889B2 (en) 2014-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5650974B2 (ja) セラミック・パッケージならびにセラミック・パッケージ内の結合ノイズを低減し、インピーダンス不連続を制御するための方法およびコンピュータ・プログラム(高速セラミック・モジュールにおけるノイズ結合低減およびインピーダンス不連続制御)
US6256769B1 (en) Printed circuit board routing techniques
JP2005535118A5 (ja)
US6218631B1 (en) Structure for reducing cross-talk in VLSI circuits and method of making same using filled channels to minimize cross-talk
US11076493B2 (en) Implementing high-speed signaling via dedicated printed circuit-board media
US20100332193A1 (en) Method of Multi-segments Modeling Bond Wire Interconnects with 2D Simulations in High Speed, High Density Wire Bond Packages
GB2456849A (en) Modelling the electromagnetic behaviour of bondwires
US20150318834A1 (en) Common mode noise reduction circuit
CN109842989B (zh) 高速电路及其高速差分线结构
US8683413B2 (en) Method for making high-speed ceramic modules with hybrid referencing scheme for improved performance and reduced cost
JP6517920B2 (ja) 超電導回路用の接地グリッド
US20110061898A1 (en) Reducing cross-talk in high speed ceramic packages using selectively-widened mesh
US8407644B2 (en) Reducing crosstalk in the design of module nets
JP4218725B2 (ja) 統合電源系解析システム、統合電源系解析方法及び多層プリント回路基板
JP2003332437A (ja) 半導体回路設計方法
Bai et al. Analysis of Power-via-Induced Quasi-Quarter-Wavelength Resonance to Reduce Crosstalk
Yi et al. Crosstalk analysis of interconnection structures fabricated on silicon interposer
Parkerson et al. Design considerations for using integrated passive components
CN106793463A (zh) 一种降低emi干扰的布线方法及电路板
Mishra et al. Crosstalk Scenario in Multiline VLSI Interconnects
Occhiali IC package high-speed interconnections: electrical modeling methodologies for standard industrial applications
Kollipara et al. Printed Wiring Boards
Deutsch et al. New methodology for combined Simulation of delta-I noise interaction with interconnect noise for wide, on-chip data-buses using lossy transmission-line power-blocks
TW201020826A (en) Layout method for electromagnetic protection component of circuit board
Mardiguian et al. Printed Circuit Board Design

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130603

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140311

RD12 Notification of acceptance of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7432

Effective date: 20140423

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20140424

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140529

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141028

RD14 Notification of resignation of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7434

Effective date: 20141028

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141114

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5650974

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees