JP2011082487A - 薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】電気的特性が向上した薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】本基板上に形成された第1ゲート電極と、第1ゲート電極を含む上部に形成されたゲート絶縁膜と、第1ゲート電極を含むゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、活性層上に形成された保護層と、保護層上に活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、ソース電極とドレイン電極との間の保護層上に形成された第2ゲート電極とを備える薄膜トランジスタを提供する。
【選択図】図1
【解決手段】本基板上に形成された第1ゲート電極と、第1ゲート電極を含む上部に形成されたゲート絶縁膜と、第1ゲート電極を含むゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、活性層上に形成された保護層と、保護層上に活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、ソース電極とドレイン電極との間の保護層上に形成された第2ゲート電極とを備える薄膜トランジスタを提供する。
【選択図】図1
Description
本発明は、酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置に関し、より詳細には、二重ゲート構造の薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置に関する。
一般的に、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor)は、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を提供する活性層と、チャネル領域と重なり、かつゲート絶縁膜により活性層と絶縁されるゲート電極とからなる。
このように構成された薄膜トランジスタの活性層は、一般に、非晶質シリコンやポリシリコンなどの半導体物質で形成される。ところが、活性層が非晶質シリコンで形成されると、移動度(mobility)が低く、高速で動作する駆動回路の実現が難しく、ポリシリコンで形成された場合は、移動度は高いものの、閾値電圧が不均一なため、別の補償回路を付加しなければならないという問題がある。
また、低温ポリシリコン(Low Temperature Poly−Silicon:LTPS)を用いた従来の薄膜トランジスタの製造方法では、レーザ熱処理などのような高価な工程が含まれる上、特性の制御が難しいため、大面積の基板に適用しにくいという問題がある。
これらの問題を解決すべく、最近では酸化物半導体を活性層として用いるための研究が進められている。
特許文献1には、酸化亜鉛(Zinc Oxide:ZnO)または酸化亜鉛(ZnO)を主成分とする酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタが開示されている。
酸化亜鉛(ZnO)を主成分とする酸化物半導体は、非晶質形態で、かつ安定した材料として評価されており、この酸化物半導体を活性層として用いると、別の工程装置を追加購入しなくても、従来の工程装置を用いて低温で薄膜トランジスタを製造することができ、イオン注入工程が省略されるなど、様々な利点がある。
しかし、酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタは、構造及び工程条件により電気的特性が変化しやすくなるため、信頼性が低いという問題がある。特に、定電圧または低電流駆動時に電流特性が低下して閾値電圧が変化し、これにより、電気的特性が低下してしまうという問題があった。
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、電気的特性が向上した薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置を提供することにある。
また、本発明が他の目的とするところは、製造工程に用いられるマスクの数を減少させることのできる薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板と、上記基板上に形成された第1ゲート電極と、上記第1ゲート電極を含む上記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、上記第1ゲート電極を含む上記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、上記活性層上に形成された保護層と、上記保護層上に上記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極と上記ドレイン電極との間の上記保護層上に形成された第2ゲート電極とを備える薄膜トランジスタが提供される。
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、基板上に第1ゲート電極を形成するステップと、上記第1ゲート電極を含む上記基板の上部にゲート絶縁膜を形成するステップと、上記第1ゲート電極を含む上記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により活性層を形成するステップと、上記活性層上に保護層を形成するステップと、上記保護層上に上記活性層と接続するソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極と上記ドレイン電極との間に配置される第2ゲート電極とを形成するステップとを含む薄膜トランジスタの製造方法が提供される。
また、上記課題を解決するために、本発明のさらに別の観点によれば、第1電極、有機発光層、及び第2電極からなる有機電界発光素子と、上記有機電界発光素子の動作を制御するための薄膜トランジスタとが形成された第1基板と、上記第1基板に対向するように配置された第2基板とを備え、上記薄膜トランジスタは、上記第1基板上に形成された第1ゲート電極と、上記第1ゲート電極を含む上記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、上記第1ゲート電極を含む上記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、上記活性層上に形成された保護層と、上記保護層上に上記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、上記ソース電極と上記ドレイン電極との間の上記保護層上に形成された第2ゲート電極とを備える有機電界発光表示装置が提供される。
本発明の実施形態に係る薄膜トランジスタは、二重ゲート構造を有する。活性層の両側に配置された2つのゲート電極に印加されるバイアス電圧により活性層の両面にチャネルが形成されるため、従来の薄膜トランジスタに比べて電流(on current)特性が向上し、バイアス電圧の大きさを調整すると、閾値電圧VTHを所望のレベルに容易に調整することができる。このため、向上した電気的特性を有する。また、本発明の実施形態に係る薄膜トランジスタは、1つのゲート電極がソース電極及びドレイン電極と同一平面に同一物質で形成されるため、別のマスクを追加しなくても、二重ゲート構造を容易に実現することができる。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
図1は、本発明の一実施形態による薄膜トランジスタを説明するための断面図である。
図1に示すように、基板10上にバッファ層11が形成され、バッファ層11上に第1ゲート電極12が形成される。第1ゲート電極12を含む基板10の上部にはゲート絶縁膜13が形成され、第1ゲート電極12を含むゲート絶縁膜13上には酸化物半導体により活性層14が形成される。活性層14は、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含み、チャネル領域が第1ゲート電極12と重なるように配置される。酸化物半導体としては、酸化亜鉛(ZnO)が使用可能であり、酸化亜鉛(ZnO)には、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、及びバナジウム(V)からなる群より選択された少なくとも1つのイオンがドープされ得る。
また、活性層14を含む基板10の上部には保護層15が形成され、保護層15上には、ソース領域及びドレイン領域の活性層14と接続するソース電極16a及びドレイン電極16bと、ソース電極16aとドレイン電極16bとの間に配置される第2ゲート電極16cとが形成される。ソース電極16a及びドレイン電極16bは、保護層15に形成されたコンタクトホールを介してソース領域及びドレイン領域の活性層14に接続され、第2ゲート電16cから所定距離離隔する。第2ゲート電極16cは、第1ゲート電極12と一部または全部重なり得る。
このように構成された薄膜トランジスタの第1ゲート電極12及び第2ゲート電極16cには互いに同一または互いに異なるバイアス電圧VGが印加され得る。1つのゲート電極のみを備える従来の薄膜トランジスタは、ゲート電極にバイアス電圧が印加されると、ゲート電極に隣接する活性層の一面にのみチャネルが形成されるが、本発明の薄膜トランジスタは、第1ゲート電極12及び第2ゲート電極16cに隣接する活性層14の両面にチャネルが形成されるため、電流(on current)特性が従来の薄膜トランジスタに比べて向上する。
図2は、ゲート電圧VGに応じたドレイン電流IDの変化(transfer curve)を示すグラフである。従来の薄膜トランジスタ(点線A)に比べて本発明の薄膜トランジスタ(実線B)が向上した閾値電圧VTH特性を有するものと測定された。
また、第1ゲート電極12及び第2ゲート電極16cに印加されるバイアス電圧VGの大きさをそれぞれ調整すると、閾値電圧VTHを所望のレベルに容易に調整することができる。
次に、薄膜トランジスタの製造過程に基づいて本発明の実施形態をより詳細に説明する。
図3a〜図3dは、本発明の一実施形態による薄膜トランジスタの製造方法を説明するための断面図である。
図3aに示すように、基板10上にバッファ層11を形成した後、バッファ層11上に第1ゲート電極12を形成する。基板10としては、シリコン(Si)などの半導体基板、ガラスやプラスチックなどの絶縁基板、または金属基板を使用する。第1ゲート電極12は、Al、Cr、MoWなどの金属で形成することができる。
図3bに示すように、第1ゲート電極12を含む基板10の上部にゲート絶縁膜13を形成する。そして、第1ゲート電極12を含むゲート絶縁膜13上に酸化物半導体層を形成した後、パターニングして、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含む活性層14を形成する。このとき、チャネル領域が第1ゲート電極12と重なるように活性層14をパターニングする。
ゲート絶縁膜13は、シリコン酸化物(SiO)、シリコン窒化物(SiN)などの絶縁物で形成する。酸化物半導体層は、酸化亜鉛(ZnO)で形成するか、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、及びバナジウム(V)からなる群より選択された少なくとも1つのイオンがドープされた酸化亜鉛(ZnO)、例えば、ZnO、ZnGaO、ZnInO、ZnSnO、GaInZnOなどで形成する。
図3cに示すように、活性層14を含む基板10の上部に保護層15を形成し、パターニングして、活性層14のソース領域及びドレイン領域が露出するようにコンタクトホール15aを形成する。
図3dに示すように、コンタクトホール15aが埋められるように、保護層15上に、Mo、MoW、Al、AlNd、AlLiLaなどで導電層を形成し、パターニングして、コンタクトホール15aを介してソース領域及びドレイン領域の活性層14と接続するソース電極16a及びドレイン電極16bと、ソース電極16aとドレイン電極16bとの間に配置される第2ゲート電極16cとを形成する。このとき、ソース電極16a及びドレイン電極16bは、第2ゲート電極16cから所定距離離隔して電気的に分離されるようにし、第2ゲート電極16cは、第1ゲート電極12と一部または全部重なるようにする。
上記導電層をパターニングする過程において保護層15をエッチング停止層(etch stop layer)として用いれば、エッチング工程が容易になり、活性層14の損傷や汚染を効果よく防止することができる。
このように構成された本発明の実施形態に係る薄膜トランジスタは、有機電界発光表示装置に適用可能である。
図4a及び図4bは、本発明による薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置の一実施例を説明するための平面図及び断面図である。図4a及び図4bを参照して、画像を表示する表示パネル200を中心に概略的に説明する。
図4aに示すように、基板210は、画素領域220と、画素領域220の周辺の非画素領域230とに分けられる。基板210の画素領域220には、走査ライン224とデータライン226との間にマトリクス方式で接続された複数の有機電界発光素子300が形成され、基板210の非画素領域230には、画素領域220の走査ライン224及びデータライン226から伸びた走査ライン224及びデータライン226と、有機電界発光素子300の動作のための電源供給ライン(図示せず)と、パッド228を介して外部から供給された信号を処理し、走査ライン224及びデータライン226に供給する走査駆動部234及びデータ駆動部236とが形成される。
図5に示すように、有機電界発光素子300は、アノード電極317と、カソード電極320と、アノード電極317とカソード電極320との間に形成された有機発光層319とを備える。有機発光層319は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、及び電子注入層をさらに含むことができる。有機電界発光素子300はまた、有機電界発光素子300の動作を制御するための薄膜トランジスタと、信号を保持させるためのキャパシタとをさらに備えることができる。
薄膜トランジスタは、図1のような構造を有し、図3a〜図3dを参照して説明した本発明の製造方法によって製造可能である。
このように構成された薄膜トランジスタを備える有機電界発光素子300を、図4a及び図5に基づいてより詳細に説明すると、次のとおりである。
基板210上にバッファ層11が形成され、画素領域220のバッファ層11上に第1ゲート電極12が形成される。このとき、画素領域220には、第1ゲート電極12と接続する走査ライン224が形成され、非画素領域230には、画素領域220の走査ライン224から伸びる走査ライン224と、外部から信号を受信するためのパッド228とが形成され得る。
第1ゲート電極12を含む基板10の上部には、ゲート絶縁膜13により第1ゲート電極12と絶縁され、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含む活性層14が形成される。
活性層14を含む基板10の上部には保護層15が形成され、保護層15には、活性層14のソース領域及びドレイン領域が露出するようにコンタクトホールが形成される。保護層15上には、コンタクトホールを介してソース領域及びドレイン領域の活性層14と接触するソース電極16a及びドレイン電極16bと、ソース電極16aとドレイン電極16bとの間に配置される第2ゲート電極16cとが形成される。このとき、画素領域220には、ソース電極16a及びドレイン電極16bと接続するデータライン226が形成され、非画素領域230には、画素領域220のデータライン226から伸びるデータライン226と、外部から信号を受信するためのパッド228とが形成される。
ソース電極16a及びドレイン電極16bと第2ゲート電極16cとを含む基板10の上部には平坦化層17が形成され、平坦化層17には、ソース電極16aまたはドレイン電極16bが露出するようにビアホールが形成される。そして、ビアホールを介してソース電極16aまたはドレイン電極16bと接続するアノード電極317が形成される。
アノード電極317を含む平坦化層17上には、アノード電極317の一部の領域(発光領域)が露出するように画素定義膜318が形成され、露出したアノード電極317上には有機発光層319が形成される。そして、有機発光層319を含む画素定義膜318上にはカソード電極320が形成される。
図4bに示すように、上記ように有機電界発光素子300が形成された基板210の上部には、画素領域220を封止させるための封止基板400が基板210に対向するように配置され、封止材410により封止基板400が基板210に貼り合わされ、表示パネル200が完成する。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
10、210 基板
11 バッファ層
12 第1ゲート電極
13 ゲート絶縁膜
14 活性層
15 保護層
17 平坦化層
200 表示パネル
300 有機電界発光素子
317 アノード電極
318 画素定義膜
319 有機発光層
320 カソード電極
400 封止基板
410 封止材
16a ソース電極
16b ドレイン電極
16c 第2ゲート電極
11 バッファ層
12 第1ゲート電極
13 ゲート絶縁膜
14 活性層
15 保護層
17 平坦化層
200 表示パネル
300 有機電界発光素子
317 アノード電極
318 画素定義膜
319 有機発光層
320 カソード電極
400 封止基板
410 封止材
16a ソース電極
16b ドレイン電極
16c 第2ゲート電極
Claims (24)
- 基板と、
前記基板上に形成された第1ゲート電極と、
前記第1ゲート電極を含む前記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、
前記第1ゲート電極を含む前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、
前記活性層上に形成された保護層と、
前記保護層上に前記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記保護層上に形成された第2ゲート電極とを備えることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 前記保護層が前記活性層を含む前記基板の上部に形成され、前記ソース電極及びドレイン電極が、前記保護層に形成されたコンタクトホールを介して前記活性層に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記第2ゲート電極が、前記第1ゲート電極と重なるように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記第2ゲート電極が、前記ソース電極及びドレイン電極から離隔していることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記ソース電極及びドレイン電極と第2ゲート電極とが、同一物質で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記酸化物半導体が、酸化亜鉛(ZnO)を含むことを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記酸化物半導体に、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、及びバナジウム(V)からなる群より選択された少なくとも1つのイオンがドープされていることを特徴とする請求項6に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記基板と前記第1ゲート電極との間に形成されたバッファ層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 基板上に第1ゲート電極を形成するステップと、
前記第1ゲート電極を含む前記基板の上部にゲート絶縁膜を形成するステップと、
前記第1ゲート電極を含む前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により活性層を形成するステップと、
前記活性層上に保護層を形成するステップと、
前記保護層上に前記活性層と接続するソース電極及びドレイン電極と、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に配置される第2ゲート電極とを形成するステップとを含むことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記保護層を形成するステップは、
前記活性層を含む上部に前記保護層を形成するステップと、
前記保護層にコンタクトホールを形成するステップとを含むことを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記ソース電極及びドレイン電極と第2ゲート電極とを形成するステップは、
前記コンタクトホールが埋められるように前記保護層上に導電層を形成するステップと、
前記導電層をパターニングして、前記コンタクトホールを介して前記活性層と接続する前記ソース電極及びドレイン電極と、前記ソース電極と前記ドレイン電極との間に配置される第2ゲート電極とを形成するステップとを含むことを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記導電層をパターニングするとき、前記保護層をエッチング停止層として用いることを特徴とする請求項11に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記第2ゲート電極を、前記第1ゲート電極と重なるように形成することを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記第2ゲート電極を、前記ソース電極及びドレイン電極から離隔するように形成することを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記酸化物半導体が、酸化亜鉛(ZnO)を含むことを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記酸化物半導体に、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、及びバナジウム(V)からなる群より選択された少なくとも1つのイオンがドープされていることを特徴とする請求項15に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記基板上にバッファ層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 第1電極、有機発光層、及び第2電極からなる有機電界発光素子と、前記有機電界発光素子の動作を制御するための薄膜トランジスタとが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向するように配置された第2基板とを備え、
前記薄膜トランジスタは、
前記第1基板上に形成された第1ゲート電極と、
前記第1ゲート電極を含む前記基板の上部に形成されたゲート絶縁膜と、
前記第1ゲート電極を含む前記ゲート絶縁膜上に酸化物半導体により形成された活性層と、
前記活性層上に形成された保護層と、
前記保護層上に前記活性層と接続するように形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の前記保護層上に形成された第2ゲート電極とを備えることを特徴とする有機電界発光表示装置。 - 前記保護層が前記活性層を含む前記基板の上部に形成され、前記ソース電極及びドレイン電極が、前記保護層に形成されたコンタクトホールを介して前記活性層に接続されていることを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記第2ゲート電極が、前記第1ゲート電極と重なるように形成されていることを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記第2ゲート電極が、前記ソース電極及びドレイン電極から離隔していることを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記ソース電極及びドレイン電極と第2ゲート電極とが、同一物質で形成されていることを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記酸化物半導体が、酸化亜鉛(ZnO)を含むことを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記酸化物半導体に、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、及びバナジウム(V)からなる群より選択された少なくとも1つのイオンがドープされていることを特徴とする請求項23に記載の有機電界発光表示装置。
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