JP2011046595A - フッ化マグネシウム膜の製造方法、反射防止膜および光学素子 - Google Patents
フッ化マグネシウム膜の製造方法、反射防止膜および光学素子 Download PDFInfo
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Abstract
Description
上記の課題を解決する反射防止膜は、上記のフッ化マグネシウム膜の製造方法によって製造された、波長587nmにおける屈折率が1.35以下であることを特徴とする。
上記の課題を解決する光学素子は、上記の反射防止膜を有することを特徴とする。
一般式(2)で表されるフッ化カルボン酸の具体例として、トリフルオロ酢酸(CF3COOH)、ペンタフルオロプロピオン酸(CF3CF2COOH)、ヘプタフルオロ酪酸(CF3(CF2)2COOH)、ノナフルオロ吉草酸(CF3(CF2)3COOH)、ウンデカフルオロヘキサン酸(CF3(CF2)4COOH)等のパーフルオロカルボン酸、および置換基を有するフルオロカルボン酸を用いることができる。
(CH3COO)2Mg+2CF3COOH→(CF3COO)2Mg+2CH3COOH(1)
Mg(C2H5OH)+2CF3COOH→(CF3COO)2Mg+C2H5OH(2)
Mg+2CF3COOH→(CF3COO)2Mg+H2(3)
このうち(1)、(2)は溶液中での平衡反応であり、フッ化カルボン酸マグネシウムを単離する工程が必要となる。フッ化カルボン酸マグネシウムを作成するためには(3)の金属マグネシウムとフッ化カルボン酸による反応が好適である。
直径30mm、厚さ1mmのソーダライムガラス基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄、乾燥した後、コーティング用ガラス基板とした。
分光エリプソメーター(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)M−2000D)を用いて、波長190から1000nmの範囲で偏光解析により、屈折率の解析を行なった。表1には、波長587nmにおける屈折率を示す。
トリフルオロ酢酸をペンタフルオロプロピオン酸(CF3CF2COOH)に代えた以外は実施例1と同様に作成、評価をおこなった。
トリフルオロ酢酸をヘプタフルオロ酪酸(CF3(CF2)2COOH)に代えた以外は実施例1と同様に作成、評価をおこなった。
トリフルオロ酢酸をノナフルオロ吉草酸(CF3(CF2)3COOH)に代えた以外は実施例1と同 様に作成、評価をおこなった。
[実施例5]
トリフルオロ酢酸をウンデカフルオロヘキサン酸(CF3(CF2)4COOH)に代えた以外は実施例1と同様に作成、評価をおこなった。
トリフルオロ酢酸を3,3,3−トリフルオロプロピオン酸(CF3CH2COOH)に代えた以外は実施例1と同様に作成、評価をおこなった。
成膜条件として、UV照射しながらホットプレートで250℃、10分加熱に代えた以外は、実施例1から6と同様に作成、評価をおこなった。
成膜条件として、UV照射をメタルハライドランプに代えた以外は、実施例7から12と同様に作成、評価をおこなった。
UV照射(、ホットプレートでの加熱処理時間を20分および7分に代えた以外は、実施例1と同様に作成、評価をおこなった。
成膜条件として200℃、10分加熱のみに代えた以外は、実施例1から6と同様に作成、評価をおこなった。この成膜条件下では指触可能な被膜は形成できなかった。
成膜条件としてUV照射のみに代えた以外は実施例1と同様に作成、評価をおこなった。この成膜条件下では指触可能な被膜は形成できなかった。
実施例1においてUV波長をλ=254nmの高圧水銀灯(ウシオ電機(株)製、EX−250)に代えた以外は実施例1と同様に作成、評価をおこなった。この成膜条件下では指触可能な被膜は形成できなかった。
加熱を250℃に代えた以外は比較例8と同様に作成、評価をおこなった。この成膜条件下では指触可能な被膜は形成できなかった。
12 塗布膜
13 加熱手段
14 光線
Claims (5)
- 前記加熱処理温度が250℃以下で、かつ波長が185nm以下の光線を照射することを特徴とする請求項1記載のフッ化マグネシウム膜の製造方法。
- 前記加熱処理温度が200℃以下で、かつ波長が185nm以下の光線を照射することを特徴とする請求項1記載のフッ化マグネシウム膜の製造方法。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のフッ化マグネシウム膜の製造方法によって製造された、波長587nmにおける屈折率が1.35以下であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項4に記載の反射防止膜を有することを特徴とする光学素子。
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