JP2011044511A - 太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】エネルギーの変換効率の向上を図り得る太陽電池装置を提供する。
【解決手段】n型半導体にされた透明電極2と、この透明電極2の下面に且つ当該下面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブ3と、これら各カーボンナノチューブ3の透明電極2とは反対側の下面に配置された金属電極4とを具備し、上記並置されたカーボンナノチューブ3の直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブ3に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体となし、さらに太陽電池1の透明電極2の表面に、太陽光線を分光させる分光器12を配置するとともに、この太陽電池1における各カーボンナノチューブ3にて得られた電気を所定電圧に調整する電圧調整器14を具備したもの。
【選択図】図1

Description

本発明は、カーボンナノチューブを用いた太陽電池およびその製造方法並びにこの太陽電池を用いた太陽電池装置に関するものである。
太陽電池は、単結晶、多結晶、アモルファスシリコンからなるシリコン系のものが主流であり、住宅や事業所などに普及しつつあるが、エネルギーの変換効率が低いという欠点がある。エネルギーの変換効率が低い要因の一つとして、通常の太陽電池は、バンドギャップが1つしかなく、バンドギャップ未満のエネルギーを有する長波長光線については光電変換できず、逆に、バンドギャップを超えるエネルギーを有する短波長光線については、バンドギャップ分のエネルギーしか光電変換できなかった。
このような欠点に対処するものとして、2つ以上の異なるバンドギャップを有する太陽電池が提案されている(特許文献1参照)。
特開2003−197930号公報
上述したように、エネルギーの変換効率を向上させためには、特許文献1に示すように、2つ以上のバンドギャップを有するように、言い換えれば、バンドギャップを細かくすることが考えられる。
しかし、シリコン等の結晶を利用した半導体では、化合物半導体も含めて、元素の選択の仕方により、バンドギャップが固定されてしまい、任意のバンドギャップを得ることが困難であり、したがってエネルギーの変換効率の向上を図ることができなかった。また、タンデムタイプおよびそれ以上の重ね合わせタイプでは、上層の太陽電池が太陽光線を吸収および散乱させることになり、下部の太陽電池に必要な光が減衰してしまう。
そこで、本発明は、エネルギーの変換効率の向上を図り得る太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の請求項1に係る太陽電池は、透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させたものである。
また、請求項2に係る太陽電池は、n型半導体にされた透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブに元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体にしたものである。
また、請求項3に係る太陽電池は、透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
これら各カーボンナノチューブにおける透明電極側部分に元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体にするとともに、金属電極側部分に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体となし、
さらに上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させたものである。
また、請求項4に係る太陽電池は、透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブに元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体となし、
さらに上記金属電極と上記カーボンナノチューブとの間にp型半導体層を配置したものである。
また、請求項5に係る太陽電池の製造方法は、n型半導体にされた透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に、複数のカーボンナノチューブを、その直径が一方側から他方側に向かって段階的に変化するように並列に形成し、次にこれらのカーボンナノチューブに元素周期表第5族の原子をドーピングしてp型半導体となし、次にこのカーボンナノチューブの端面に金属電極を形成する方法である。
また、請求項6に係る太陽電池の製造方法は、金属電極の表面にp型半導体層を形成し、次にこのp型半導体層の表面に且つ当該表面に垂直に、複数のカーボンナノチューブを、その直径が一方側から他方側に向かって段階的に変化するように並列に形成し、次にこれらのカーボンナノチューブに元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体となし、次にこのカーボンナノチューブの端面に透明電極を形成する方法である。
また、請求項7に係る太陽電池の製造方法は、一方の透明電極と他方の金属電極との間で且つこれら電極表面に対して垂直に複数のカーボンナノチューブを、その直径が一方側から他方側に向かって段階的に変化するように並列に形成し、
次に上記カーボンナノチューブの透明電極側部分に元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体にするとともに、カーボンナノチューブの金属電極側部分に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体にする方法である。
さらに、請求項8に係る太陽電池装置は、請求項1乃至4のいずれかに記載の太陽電池を用いた太陽電池装置であって、
太陽電池の透明電極の表面に、太陽光線を分光させる分光器を配置するとともに、この太陽電池における各カーボンナノチューブにて得られた電気を所定電圧に調整する電圧調整器を具備したものである。
上記太陽電池、太陽電池の製造方法および太陽電池装置の構成によると、透明電極と金属電極との間にカーボンナノチューブを配置するとともに、このカーボンナノチューブの直径を、順次、段階的に変化させるようにしたので、例えば太陽光線を分光させた際に、それぞれの波長に応じた、つまり任意のバンドギャップを有するカーボンナノチューブを形成しておくことができる。したがって、太陽光線の広範囲の波長領域に亘って光電変換を行うことができるので、エネルギーの変換効率が優れた、すなわち光電変換効率が優れた太陽電池および太陽電池装置を提供することができる。
本発明の実施の形態に係る太陽電池および太陽電池装置の概略構成を示す斜視図である。 同太陽電池の製造方法を説明する斜視図である。 同太陽電池における光電変換効率を説明するグラフで、(a)は本実施の形態に係るものを示し、(b)は従来例に係るタンデム型のものを示す。 本発明の実施例1に係る太陽電池の概略構成を示す斜視図である。 本発明の実施例2に係る太陽電池の概略構成を示す斜視図である。 本発明の実施例3に係る太陽電池の概略構成を示す斜視図である。 本発明の実施例4に係る太陽電池の概略構成を示す斜視図である。 本発明の実施例4に係る太陽電池の変形例の概略構成を示す斜視図である。
以下、本発明の実施の形態に係る太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置について説明する。
まず、本実施の形態に係る太陽電池およびこの太陽電池を用いた太陽電池装置の基本的構成について説明する。
すなわち、太陽電池の基本的な構成は、透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された対向電極としての金属電極とを具備し、上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させたものである。
この基本的な構成をもう少し詳しく説明すると、一対の電極同士間にn型半導体およびp型半導体が配置されるとともに、これら両半導体のうち、少なくとも、一方の半導体をカーボンナノチューブ(CNT)で構成したもので、またこのカーボンナノチューブについては、電極表面に対して垂直(所謂、垂直配向である)に且つ多数(ここでは、3つ以上であり、言い方によっては、「3つ以上の複数」と呼ぶこともできる)並列に設けられたもので、例えば多数領域に且つ列状に分けられるとともにこれら各領域毎にその直径が順次変化されている。
具体的には、多数のカーボンナノチューブからなる領域(以下、チューブ列ともいう)が5つ(3つ以上、すなわち3列以上であればよい)並列に設けられる(並置される)とともに、これらのカーボンナノチューブの直径をチューブ列毎に段階的に変化させたもので、例えば太いものから細いものが順番に設けられている。
そして、これら各チューブ列におけるカーボンナノチューブの上下面に、電極が形成されたものである。
ところで、上述したカーボンナノチューブの形成方向である「垂直」には、当然ながら許容範囲があり、カーボンナノチューブの根元と先端とを結ぶ直線が、電極表面の垂線に対して、例えば90±10°の範囲内であればよい。この意味では、「略垂直」と言い換えることもできる。
なお、上記「少なくとも一方の半導体をカーボンナノチューブで構成した」という意味は、一方の電極を半導体にまたは一方の電極側に半導体層を形成するとともに、カーボンナノチューブを半導体にする構成、およびカーボンナノチューブ自体にn型半導体とp型半導体とを形成する構成を考慮したものである。
以下、上記基本的構成に係る太陽電池の製造方法を、図1および図2に基づき説明する。
まず、図1に基づき太陽電池の具体的な構成について説明しておく。
この太陽電池1は、長方形の板状にされるとともにn型半導体にされた透明電極2と、この透明電極2の下面(図1に基づき上下を規定したもので、具体的には、太陽光線の入射側を上側として説明する。勿論、上下を逆にしたものでもよく、したがって単に、透明電極の表面ということもできる。)に垂直に並置された多数のカーボンナノチューブ3と、これらカーボンナノチューブ3の下端面(表面ともいえる)に配置された対向電極としての金属電極4とから構成されている。なお、具体的には、カーボンナノチューブ3は3つ以上(多数)の列状でもって、ここでは、5つの列状で形成されているものとして説明する。
そして、上記太陽電池1に太陽光線を、5つの波長領域に分光して導くためのプリズムなどの分光器(分光素子と呼ぶこともできる)12と、太陽電池1の列状のカーボンナノチューブ3により得られた電気を電気配線13を介して導き所定電圧に調整するための電圧調整器(電圧出力回路でもある)14とを具備することで、太陽電池装置11が構成されており、その詳細については後述する。なお、分光器12の手前には、太陽光線を集める集光用レンズ部15が配置される。
ところで、この集光用レンズ部15としては、例えば、径の大きさが異なるシリンドリカルレンズが用いられている。すなわち、この集光用レンズ部15は、径が大きい第1シリンドリカルレンズ15aと径が小さい第2シリンドリカルレンズ15bとから構成され、互いの設置間隔Lは、第1シリンドリカルレンズ15aの焦点距離f1と第2シリンドリカルレンズ15bの焦点距離f2とを合わせた距離(L=f1+f2)にされている。したがって、第1シリンドリカルレンズ15aに平行な太陽光線が入射されると、太陽光線は一度焦点を結んだ後、第2シリンドリカルレンズ15bに入射して再び平行光線で出射することになる。このとき、出射した太陽光線である平行光線の幅はf2/f1に縮小されている。なお、この出射した平行光線の幅はできるだけ狭い(細い)ほうがよい。
そして、この平行光線を分光器12により、分光光線として太陽電池1(正確には透明電極2上)に入射させる。また、分光器12と太陽電池1との距離は、第1シリンドリカルレンズ15aより、太陽電池1の大きさが小さくて済むような距離にすることが望ましい。なお、集光用レンズ部15は、シリンドリカルレンズを平面上に複数配置することで、太陽光線を無駄なく太陽電池1側に導くことができるが、レンズの形状についてはこれに限定されず、円形レンズであってもよい。
次に、図2に基づき、上記太陽電池1の製造方法を概略的に説明する。
まず、図2(a)に示すように、n型半導体にされた透明電極(FTO,ZnO,ITO,FTO/ITO,GZO,AZOなどが用いられる)2の表面にスパッタリングなどの方法により触媒としての金属[例えば、鉄(Fe)]の薄膜を形成した後、電子ビームにより縦横に切れ目を入れるとともにこの切れ目を入れる際の間隔を調整して触媒微粒子10を形成する。この鉄の触媒微粒子10については、チューブ列毎におけるカーボンナノチューブ3の直径に応じた大きさにされている。例えば、図面の左側から右側に向かって、直径が大きいものから小さいものにされている。すなわち、左側の触媒微粒子10Aの直径が大きくされて、右側に行くにしたがって触媒微粒子10B〜10Eの直径が段階的に小さくされている。
なお、触媒微粒子10をカーボンナノチューブ3の直径に応じた大きさにする方法として、スパッタリングなどの方法により形成する薄膜の厚みを左側から右側に行くにしたがって薄くしてもよい。スパッタリングを用いる場合は、スパッタ条件(スパッタ時間・スパッタ源と薄膜形成面との距離)により薄膜の厚みを変えることができる。また、スパッタ源と薄膜形成面との距離を連続的に変えることにより、薄膜の厚みを連続的に変化させることができるため、やはり、カーボンナノチューブ3の直径を連続的に変化させることができる。
次に、図2(b)に示すように、熱CVD(化学気相成長)法により、鉄の触媒微粒子10上にカーボンナノチューブ3を形成する。このとき、触媒微粒子10の大きさに応じて、その上面に形成されるカーボンナノチューブ3の直径つまり太さが決まる。
次に、図2(c)に示すように、カーボンナノチューブ3に元素周期表第3族の原子をドーピングする(なお、熱CVD法を行う時に第3族原子を含むガスを微量に混ぜて成長させるようにしてもよい)。
次に、図2(d)に示すように、電極境界部分にマスクをして、各チューブ列の上面に金属電極4をPVD(物理気相成長)法により形成する。
ここで、熱CVD法について、少し具体的に説明しておく。
すなわち、透明電極の基板上に鉄の触媒微粒子を形成し、この触媒微粒子を核として高温雰囲気下で原料ガスを導きカーボンナノチューブを成長させる。なお、触媒微粒子としては、Feの代わりに、Ni、Coなどを用いてもよい。
具体的には、これらの金属またはその錯体等の化合物の溶液をスプレーや刷毛で透明電極の基板に塗布し、またはクラスター銃で透明電極の基板に打ち付けた後、乾燥させ、必要であれば加熱して皮膜を形成する。
皮膜の厚みは、厚過ぎると加熱による粒子化が困難になるので、好ましくは1〜100nmの範囲とされる。
次に、この皮膜を、好ましくは減圧下または非酸化雰囲気中にて、650〜800℃の範囲で加熱すると、直径0.1〜50nm程度の鉄の触媒微粒子が形成される。なお、触媒微粒子の形成方法については、上述したように、スパッタリングによる方法であってもよい。また、カーボンナノチューブの原料ガスとしては、アセチレン、メタン、エチレンなどの脂肪族炭化水素を使用することができ、特に、アセチレンが好ましい。アセチレンの場合、太さ0.4〜38nmのカーボンナノチューブが鉄の触媒微粒子を核として透明電極上にブラシ状に形成される。カーボンナノチューブの形成温度は、好ましくは650〜800℃の範囲で、また熱CVD法による形成時間(以下、CVD時間という)は1〜30分の範囲である。
また、金属電極4を形成するPVD法としては、真空蒸着法またはスパッタリング法が用いられる。
次に、太陽電池1を用いた太陽電池装置11について説明する。
すなわち、太陽電池1の各チューブ列3A〜3Eに太陽光線の分光が照射されるように、分光器(分光素子でもある)12を配置し、分光された光線が、それぞれの波長に対応するチューブ列3A〜3Eの透明電極2上に導かれるようにする。
そして、各金属電極4に電気配線13を介して電圧調整器14が接続されて、それぞれ所定の電圧が得られるようにされている。なお、この電圧調整器14は、チューブ列3に電気配線13を介して接続されたDC/DCコンバータ16と、これらDC/DCコンバータ16に電気配線17を介して接続された電力加算部18とから構成されて、所定電圧の電力が出力される。なお、DC/DCコンバータ16は、各チューブ列3A〜3Eから取り出される電圧が同一(所定電圧)となるように調整(変換)するためのものである。
ここで、カーボンナノチューブ3の直径が異なる場合の光電変換能力、すなわちエネルギーのバンドギャップについて説明しておく。
カーボンナノチューブの直径が異なると、それぞれのバンドギャップの値が異なり、したがって分光された太陽光線が持っているエネルギーhνと等しいバンドギャップを持った直径のカーボンナノチューブをp型またはn型半導体として作っておけばよい。
すなわち、バンドギャップの異なるカーボンナノチューブ(バンドギャップがEg〜Eg、但し、Egn−1<Eg)がn個ある場合、Egより小さくEg以上のエネルギーをもった光はバンドギャップEgの太陽電池で受光されて光電変換が行われる。また、Egより小さくEg以上のエネルギーをもった光については、バンドギャップEgの太陽電池で受光されて光電変換が行われる。以下、同様に、バンドギャップEgを越え、紫外線までの最大エネルギーを有する光については、Egのバンドギャップを持った太陽電池で受光して光電変換が行われる。
このような構成の太陽電池を用いることにより、光電変換し得るエネルギー量を図示すると、図3(a)のグラフのようになる。なお、比較例として、従来技術であるタンデム型の太陽電池の場合を(b)に示しておく。これらのグラフから、カーボンナノチューブの直径を順次段階的に変化させることにより得られる、つまり光電変換し得るエネルギー量が格段に優れていることが分かる。
すなわち、この太陽電池の構成によると、透明電極と金属電極との間にカーボンナノチューブを配置するとともに、このカーボンナノチューブの直径を、順次、段階的に変化させるようにしたので、例えば太陽光線を分光させた際に、それぞれの波長に応じたバンドギャップを有するカーボンナノチューブを形成しておくことができる。したがって、太陽光線の広範囲の波長領域に亘って光電変換を行うことができるので、エネルギーの変換効率が優れた、すなわち光電変換効率が優れた太陽電池を提供することができる。
なお、上記太陽電池装置においては、一つの太陽電池を用いた構成として説明したが、勿論、上記太陽電池を多数設けることにより、大きい発電電力が得られることは言うまでもない。この場合、電圧調整器を例えば一つに纏めることもできる。
また、上記説明においては、カーボンナノチューブの直径を触媒微粒子の大きさにより調整するようにしたが、例えばCVD時間を調節するようにしても、その直径を制御することができる。
ところで、この太陽電池の具体例、すなわち実施例としては、下記に示すようなものがある。
以下、本発明の実施例1に係る太陽電池について説明する。
図4に示すように、この太陽電池21は、n型半導体にされた透明電極(例えば、FTO電極が用いられる)22と、この透明電極22の下面(表面)に且つ当該下面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブ23と、これら各カーボンナノチューブ23の透明電極22とは反対側の下面(表面)に配置された対向電極としての金属電極24とを具備し、上記並置されたカーボンナノチューブ23の直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブ23に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体にしたものである。
この太陽電池21の製造方法について説明する。
まず、n型半導体の透明電極22の表面に、大きさが異なる鉄(Fe)の触媒微粒子(Pt,Coなどの微粒子でもよい)を形成する。なお、大きさとしては、上述したように、5段階で、すなわち5列でもって設けられる。
なお、触媒微粒子の粒径を変化させて形成する方法としては下記に示すような2種類の方法がある。
(1).透明電極に触媒としての金属の薄膜を形成した後、電子ビームにより、縦横に切れ目を入れるとともに、この切れ目を入れる際にその間隔を調整して触媒微粒子を形成する。間隔の調整に際し、加熱してその粒径および形状を整える。
(2).透明電極の表面に、スパッタリングにより触媒に係る金属の薄膜を形成する。この薄膜を形成する際に、金属源と透明電極との間の距離を変化させることにより、直径の異なる触媒微粒子が形成される。
次に、上記透明電極22の表面に形成された触媒微粒子上に、カーボンナノチューブ23を熱CVD法により形成する。つまり、カーボンナノチューブ23を成長させる。
例えば、透明電極22を高温にして、熱分解したC,CHなどの炭化水素ガスを供給すると、触媒微粒子からカーボンナノチューブ23が成長する。勿論、成長するカーボンナノチューブ23の直径(太さ)は、触媒微粒子の大きさに依存する。
また、上述したように、カーボンナノチューブの直径を変えるのに、触媒微粒子の大きさを変える以外に、CVD時間を変えるようにしてもよい。すなわち、CVD時間が短い場合には、カーボンナノチューブは低層数で細くなり、CVD時間が長い場合には、多層で太くなる。このように、CVD時間によりカーボンナノチューブの太さを調節することができる。なお、太いカーボンナノチューブは多層構造になっているが、最外殻のカーボンナノチューブのバンドギャップを利用することになる。
次に、カーボンナノチューブ23に元素周期表第3族の原子(B,Al,Ga,In,Ti等)をドーピングしてP型半導体にする。具体的には、第3族原子を含んだジボラン(B)などのガスを熱分解してカーボンナノチューブ23に吹き付ける。なお、カーボンナノチューブ23の生成工程において、炭化水素ガスに第3族の原子を含んだガスを微量に混入させるようにしてもよい。
次に、直径の異なるカーボンナノチューブ23毎に、つまりチューブ列毎に金属電極24を形成すれば、太陽電池21が得られる。
すなわち、チューブ列毎に区切るためのマスクを被せた後、マスクが被せられないカーボンナノチューブ23の上端に、PVD法により、Cu,Au,Ag,Alなどの金属を付着させる。なお、PVD法の代わりに、熱式真空蒸着、電子ビームによる蒸着、スパッタリングなどを用いてもよい。
以下、本発明の実施例2に係る太陽電池について説明する。
図5に示すように、この太陽電池31は、二酸化ケイ素(SiO)により形成された透明基板32と、この透明基板32の下面(表面)に配置されるとともにn型半導体にされた透明電極(例えば、FTO電極が用いられる)33と、この透明電極33の下面(表面)に且つ当該下面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブ34と、これら各カーボンナノチューブ34の透明電極33とは反対側の下面(表面)に配置された対向電極としての金属電極35とを具備し、上記並置されたカーボンナノチューブ34の直径を一方側から他方側に向かって、段階的に変化させる、例えば細くするとともに、これら各カーボンナノチューブ34に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体にしたものである。
この太陽電池31の製造方法について説明する。
この製造方法は、基本的には実施例1と同様であるため、概略的に説明する。
まず、二酸化ケイ素により形成された透明基板32の表面に、n型半導体の透明電極33を形成する。
次に、この透明電極33の表面に、大きさが異なるFe,Pt,Coなどの触媒微粒子を形成する。なお、大きさとしては、上述したように、5段階に、すなわち大きさが異なる触媒微粒子が5列でもって形成される。
次に、実施例1と同様の方法により、透明電極33の表面に形成された触媒微粒子上に、カーボンナノチューブ34を熱CVD法により形成する。
次に、カーボンナノチューブ34に、B,Al,Ga,In,Tiなどの第3族の原子をドーピングしてP型半導体にする。
そして、直径が異なるチューブ列毎に金属電極35をスパッタリング法などで形成すれば、太陽電池31が得られる。
以下、本発明の実施例3に係る太陽電池について説明する。
図6に示すように、この太陽電池41は、二酸化ケイ素(SiO)により形成された透明基板42と、この透明基板42の下面(表面)に配置されたn型半導体にされた透明電極(例えば、FTO電極が用いられる)43と、この透明電極43の下面(表面)に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブ44と、これら各カーボンナノチューブ44の透明電極43とは反対側の下面(表面)に配置された対向電極としての金属電極45とを具備し、これら各カーボンナノチューブ44における透明電極側部分44aに元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体にするとともに、金属電極側部分44bに元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体となし、さらに上記並置されたカーボンナノチューブ44の直径を一方側から他方側に向かって、段階的に変化させたものである。
次に、この太陽電池41の製造方法について説明する。
まず、二酸化ケイ素よりなる透明基板42の表面に、スパッタリングにより透明電極43を形成する。
次に、この透明電極43の表面に、Feの触媒微粒子をスパッタリングにより形成する。
次に、この触媒微粒子上に、例えば熱CVD法によりカーボンナノチューブ44を形成する。このとき、ホスフィン(PH)などが微量に添加されて、カーボンナノチューブ44の透明電極側部分44aがn型半導体にされる。
そして、さらにこのn型のカーボンナノチューブ44aの端面上に、p型のカーボンナノチューブ44bを形成する。このとき、ジボラン(B)などが微量に添加されてp型半導体にされる。すなわち、カーボンナノチューブ44の金属電極側部分44bがp型半導体にされる。
次に、直径の異なるカーボンナノチューブ44毎に、つまりチューブ列毎にAlなどにより金属電極45を形成すればよい。
なお、本実施例3では、透明基板42の表面に透明電極43を配置するように説明したが、勿論、透明電極だけであってもよい。
以下、本発明の実施例4に係る太陽電池について説明する。
図7に示すように、この太陽電池51は、SUS(ステンレスのJIS記号)などよりなる金属電極52と、この金属電極52の表面に配置されるとともに元素周期表第3族のボロン(B)などの原子がドーピングされてなるp型半導体基板(p型半導体層)53と、このp型半導体基板53の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブ54と、これら各カーボンナノチューブ54の金属電極52とは反対側の表面に形成された対向電極としての透明電極(例えば、FTO電極が用いられる)55とを具備し、上記並置されたカーボンナノチューブ54の直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブ53に元素周期表第5族のリン(P)などの原子をドーピングしてn型半導体にしたものである。
この太陽電池51の製造方法について説明する。
この製造方法は、基本的には実施例1と同様であるため、概略的に説明する。
例えば、長方形の板状にされたステンレス(SUS)などにより形成された金属電極52の表面に、シリコン(Si)などの基板に元素周期表第3族のボロン(B)などの原子をドーピングしてp型半導体基板53を形成する。
次に、このp型半導体基板53の表面に、大きさが異なるFe(Pt,Coなどでもよい)の触媒微粒子を形成する。なお、大きさとしては、上述したように、5段階に、すなわち大きさが異なる触媒微粒子が5列でもって設けられる。
次に、実施例1と同様の方法により、p型半導体基板53の表面に形成された触媒微粒子上に、カーボンナノチューブ54を熱CVD法により形成する。
次に、カーボンナノチューブ54に、Pなどの元素周期表第5族原子をドーピングしてn型半導体にする。
そして、直径が異なるチューブ列毎に透明電極55をスパッタリング法などで形成すれば、太陽電池51が得られる。
本実施例4では、上述したとおり、カーボンナノチューブ54を形成した後に、透明電極55を形成するため、熱CVD法における高温下では適用が困難なITOなども用いることができる。
なお、この実施例4に係る太陽電池の金属電極52およびp型半導体基板53の代わりに、図8に示すように、Moなどにより形成されたCuなどにより形成された金属電極62および金属基板63を用いて、太陽電池61を得ることもできる。
1 太陽電池
2 透明電極
3 カーボンナノチューブ
4 金属電極
10 触媒微粒子
11 太陽電池装置
12 分光器
14 電圧調整器
16 DC/DCコンバータ
22 透明電極
23 カーボンナノチューブ
24 金属電極
31 太陽電池
32 透明基板
33 透明電極
34 カーボンナノチューブ
35 金属電極
41 太陽電池
42 透明基板
43 透明電極
44 カーボンナノチューブ
44a 透明電極側部分
44b 金属電極側部分
45 金属電極
51 太陽電池
52 金属電極
53 p型半導体基板
54 カーボンナノチューブ
55 透明電極
61 太陽電池
62 金属電極
63 p型半導体基板

Claims (8)

  1. 透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
    上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させたことを特徴とする太陽電池。
  2. n型半導体にされた透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
    上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブに元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体にしたことを特徴とする太陽電池。
  3. 透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
    これら各カーボンナノチューブにおける透明電極側部分に元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体にするとともに、金属電極側部分に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体となし、
    さらに上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させたことを特徴とする太陽電池。
  4. 透明電極と、この透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に複数並置されたカーボンナノチューブと、これら各カーボンナノチューブの透明電極とは反対側に配置された金属電極とを具備し、
    上記並置されたカーボンナノチューブの直径を一方側から他方側に向かって段階的に変化させるとともに、これら各カーボンナノチューブに元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体となし、
    さらに上記金属電極と上記カーボンナノチューブとの間にp型半導体層を配置したことを特徴とする太陽電池。
  5. n型半導体にされた透明電極の表面に且つ当該表面に垂直に、複数のカーボンナノチューブを、その直径が一方側から他方側に向かって段階的に変化するように並列に形成し、次にこれらのカーボンナノチューブに元素周期表第5族の原子をドーピングしてp型半導体となし、次にこのカーボンナノチューブの端面に金属電極を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法。
  6. 金属電極の表面にp型半導体層を形成し、次にこのp型半導体層の表面に且つ当該表面に垂直に、複数のカーボンナノチューブを、その直径が一方側から他方側に向かって段階的に変化するように並列に形成し、次にこれらのカーボンナノチューブに元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体となし、次にこのカーボンナノチューブの端面に透明電極を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法。
  7. 一方の透明電極と他方の金属電極との間で且つこれら電極表面に対して垂直に複数のカーボンナノチューブを、その直径が一方側から他方側に向かって段階的に変化するように並列に形成し、
    次に上記カーボンナノチューブの透明電極側部分に元素周期表第5族の原子をドーピングしてn型半導体にするとともに、カーボンナノチューブの金属電極側部分に元素周期表第3族の原子をドーピングしてp型半導体にすることを特徴とする太陽電池の製造方法。
  8. 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の太陽電池を用いた太陽電池装置であって、
    太陽電池の透明電極の表面に、太陽光線を分光させる分光器を配置するとともに、この太陽電池における各カーボンナノチューブにて得られた電気を所定電圧に調整する電圧調整器を具備したことを特徴とする太陽電池装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011108763A (ja) * 2009-11-16 2011-06-02 Hitachi Zosen Corp 太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置
WO2013031665A1 (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 日立造船株式会社 太陽電池および太陽電池装置
WO2013036098A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 Mimos Berhad A solar cell and method of fabricating thereof
JP2013191713A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Hitachi Zosen Corp 太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置
WO2014034631A1 (ja) * 2012-08-30 2014-03-06 日立造船株式会社 太陽電池の発電層およびその製造方法並びに太陽電池
WO2014034634A1 (ja) * 2012-08-30 2014-03-06 日立造船株式会社 太陽電池
JP7343425B2 (ja) 2020-03-13 2023-09-12 日立造船株式会社 カーボンナノチューブの製造方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105554185B (zh) * 2015-11-27 2019-02-01 努比亚技术有限公司 太阳能充电系统和移动终端
CN107731934A (zh) * 2017-11-22 2018-02-23 国家纳米科学中心 一种光电转换器及其转换方法
JPWO2020225987A1 (ja) * 2019-05-07 2020-11-12

Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5148985A (ja) * 1974-10-24 1976-04-27 Sharp Kk
JPS5680177A (en) * 1979-12-04 1981-07-01 Nec Corp Power generator by solar ray
US4367366A (en) * 1980-02-15 1983-01-04 Werner H. Bloss Solar cell arrangement
JPS5877262A (ja) * 1981-10-20 1983-05-10 ビクト−ル・フオスカノウイツチ・アフイアン 太陽電池
JPH04296060A (ja) * 1991-03-26 1992-10-20 Hitachi Ltd 太陽電池
JPH06104463A (ja) * 1992-09-18 1994-04-15 Hitachi Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2002033193A (ja) * 2000-07-13 2002-01-31 Hitachi Ltd 有機発光素子
JP2003510236A (ja) * 1999-09-23 2003-03-18 コモンウエルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション パターン化されたカーボンナノチューブ
JP2003285299A (ja) * 2002-03-27 2003-10-07 Sony Corp 機能材料又は機能素子、及びその製造方法
JP2004152787A (ja) * 2002-10-28 2004-05-27 Sharp Corp 半導体素子及びその製造方法
JP2005067976A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd ナノチューブの製造方法
JP2005322897A (ja) * 2004-04-05 2005-11-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> レーザ装置,発光素子及びその製造方法
JP2006261666A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 General Electric Co <Ge> 高効率無機ナノロッド強化光起電素子
JP2006342040A (ja) * 2005-05-09 2006-12-21 Kumamoto Univ 筒状分子構造およびその製造方法、並びに前処理基板およびその製造方法
JP2007043150A (ja) * 2005-07-29 2007-02-15 Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw 細長いナノ構造体を有する波長センシティブ検出器
JP2007096136A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Univ Nagoya カーボンナノ構造体を用いた光起電力素子
JP2008053730A (ja) * 2006-08-25 2008-03-06 General Electric Co <Ge> 単一コンフォーマル接合のナノワイヤ光起電力装置
JP2009164547A (ja) * 2008-01-02 2009-07-23 Samsung Electro Mech Co Ltd 太陽電池及びその製造方法
US20090183770A1 (en) * 2008-01-18 2009-07-23 Eloret Corporation Carbon nanotube patterning on a metal substrate
JP2010114316A (ja) * 2008-11-07 2010-05-20 Toyota Motor Corp 光起電力素子およびその製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3723125B2 (ja) 2001-12-21 2005-12-07 三菱重工業株式会社 タンデム型太陽電池の製造方法
JP2003333757A (ja) * 2002-05-14 2003-11-21 Sony Corp 電源装置
KR20080013979A (ko) * 2005-05-03 2008-02-13 유니버시티 오브 델라웨어 초고효율 태양 전지
EP1748494B1 (en) * 2005-07-29 2008-04-09 Interuniversitair Microelektronica Centrum Wavelength-sensitive detector with elongate nanostructures
JP5116961B2 (ja) * 2005-09-29 2013-01-09 国立大学法人名古屋大学 カーボンナノウォールを用いたダイオード
US20080314438A1 (en) * 2007-06-20 2008-12-25 Alan Anthuan Tran Integrated concentrator photovoltaics and water heater

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5148985A (ja) * 1974-10-24 1976-04-27 Sharp Kk
JPS5680177A (en) * 1979-12-04 1981-07-01 Nec Corp Power generator by solar ray
US4367366A (en) * 1980-02-15 1983-01-04 Werner H. Bloss Solar cell arrangement
JPS5877262A (ja) * 1981-10-20 1983-05-10 ビクト−ル・フオスカノウイツチ・アフイアン 太陽電池
JPH04296060A (ja) * 1991-03-26 1992-10-20 Hitachi Ltd 太陽電池
JPH06104463A (ja) * 1992-09-18 1994-04-15 Hitachi Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2003510236A (ja) * 1999-09-23 2003-03-18 コモンウエルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション パターン化されたカーボンナノチューブ
JP2002033193A (ja) * 2000-07-13 2002-01-31 Hitachi Ltd 有機発光素子
JP2003285299A (ja) * 2002-03-27 2003-10-07 Sony Corp 機能材料又は機能素子、及びその製造方法
JP2004152787A (ja) * 2002-10-28 2004-05-27 Sharp Corp 半導体素子及びその製造方法
JP2005067976A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd ナノチューブの製造方法
JP2005322897A (ja) * 2004-04-05 2005-11-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> レーザ装置,発光素子及びその製造方法
JP2006261666A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 General Electric Co <Ge> 高効率無機ナノロッド強化光起電素子
JP2006342040A (ja) * 2005-05-09 2006-12-21 Kumamoto Univ 筒状分子構造およびその製造方法、並びに前処理基板およびその製造方法
JP2007043150A (ja) * 2005-07-29 2007-02-15 Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw 細長いナノ構造体を有する波長センシティブ検出器
JP2007096136A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Univ Nagoya カーボンナノ構造体を用いた光起電力素子
JP2008053730A (ja) * 2006-08-25 2008-03-06 General Electric Co <Ge> 単一コンフォーマル接合のナノワイヤ光起電力装置
JP2009164547A (ja) * 2008-01-02 2009-07-23 Samsung Electro Mech Co Ltd 太陽電池及びその製造方法
US20090183770A1 (en) * 2008-01-18 2009-07-23 Eloret Corporation Carbon nanotube patterning on a metal substrate
JP2010114316A (ja) * 2008-11-07 2010-05-20 Toyota Motor Corp 光起電力素子およびその製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011108763A (ja) * 2009-11-16 2011-06-02 Hitachi Zosen Corp 太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置
WO2013031665A1 (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 日立造船株式会社 太陽電池および太陽電池装置
JPWO2013031665A1 (ja) * 2011-08-29 2015-03-23 日立造船株式会社 太陽電池および太陽電池装置
WO2013036098A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 Mimos Berhad A solar cell and method of fabricating thereof
JP2013191713A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Hitachi Zosen Corp 太陽電池およびその製造方法並びに太陽電池装置
WO2014034631A1 (ja) * 2012-08-30 2014-03-06 日立造船株式会社 太陽電池の発電層およびその製造方法並びに太陽電池
WO2014034634A1 (ja) * 2012-08-30 2014-03-06 日立造船株式会社 太陽電池
JP2014049511A (ja) * 2012-08-30 2014-03-17 Hitachi Zosen Corp 太陽電池の発電層およびその製造方法並びに太陽電池
JP2014049510A (ja) * 2012-08-30 2014-03-17 Hitachi Zosen Corp Cnt太陽電池
US10283726B2 (en) 2012-08-30 2019-05-07 Kyoto University Electricity-generating layer of solar cell, method for producing same, and solar cell
JP7343425B2 (ja) 2020-03-13 2023-09-12 日立造船株式会社 カーボンナノチューブの製造方法

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