JP2011004494A - ガス絶縁機器、および、その製造方法 - Google Patents

ガス絶縁機器、および、その製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】ＣＯ２を含む絶縁ガスを用いたガス絶縁機器において、絶縁性能または消弧性能の低下を抑制する。
【解決手段】ガス絶縁機器（例えば、ガス絶縁遮断器）は、密閉容器１０内に高電圧部、ゼオライト２０、および、絶縁ガスを有する。絶縁ガスは、ＣＯ２ガスまたはＣＯ２ガスを含むガスである。ゼオライト２０は、ゼイライトケース２１に収納され、絶縁ガスの雰囲気下に配置されている。ゼオライト２０は、ガス絶縁機器の使用前においてＣＯ２を吸着したものである。
【選択図】図２

Description

本発明は、ＣＯ２を含む絶縁ガスを用いたガス絶縁機器、および、その製造方法に関する。
電力の送変電システムは、ガス絶縁遮断器およびガス絶縁断路器等の開閉装置、ガス絶縁変圧器、あるいは、ガス絶縁送電管などのガス絶縁送変電機器（以下、「ガス絶縁機器」という。）からなり、これらのガス絶縁機器の容器内には、絶縁ガスが充填されている。現在の高電圧用・大容量用のガス絶縁機器においては、この絶縁ガスとして、六弗化硫黄ガス（以下、「ＳＦ６ガス」という。）が多く用いられている。
このＳＦ６ガスは、ガス絶縁機器内の電路と容器との間の放電を防ぐための電気絶縁媒体、あるいは、通電による温度上昇を抑制する冷却媒体としての役割を果たす。さらに、ＳＦ６ガスは、ガス絶縁遮断器およびガス絶縁断路器等においては、開閉動作時に発生するアーク放電を消滅させる消弧媒体としての役割を果たす。例えば、特許文献１には、ＳＦ６ガスを利用したパッファ形ガス絶縁遮断器が開示されている。
特開２００７−２９４３５８号公報
内井敏之他６名著、電気学会論文Ｂ、２００４年発行、１２４巻、３号、ｐ．４７６〜４８４
ＳＦ６ガスは、安定性が非常に高い不活性ガスであり、無毒・不燃性であるという特徴を有する。また、上述の絶縁性能および消弧性能に極めて優れている。そのため、ＳＦ６ガスは、高電圧用のガス絶縁機器に適し、ガス絶縁機器のコンパクト化に大きく貢献している。
しかし、ＳＦ６ガスは、ＣＯ２ガスの２３，９００倍という高い地球温暖化効果を有することから、ガス絶縁機器に用いる絶縁ガスとして、ＣＯ２ガスを適用する提案がなされている（非特許文献１を参照）。
ところで、上述したように、ガス絶縁機器においては、電路と容器との間で事故放電が発生することがある。さらに、ガス絶縁遮断器およびガス絶縁断路器等においては、開閉動作時にアーク放電が発生する。これらの放電により、容器内に充填された絶縁ガスがプラズマ化して、絶縁ガスの分子が解離・再結合することが知られている。
ここで、絶縁ガスにＳＦ６ガスを適用した場合には、高い安定性を有するＳＦ６分子の大多数は、解離後、ＳＦ６分子に再結合する。なお、ＳＦ６分子の解離により生じる硫黄（Ｓ）イオンおよびフッ素（Ｆ）イオンが容器内に存在する微量の水分と反応して、ＨＦやＳＯＦ２などの分解ガスがごく微量だけ発生することが知られているが、ガス絶縁機器の絶縁性能、消弧性能、および、通電性能を低下させる程の影響はない。
一方、絶縁ガスにＣＯ２ガスを適用した場合には、ＣＯ２分子の解離により生じる酸素（Ｏ）イオンが、ガス絶縁機器の大部分を構成している金属と反応してしまい、ＳＦ６ガスを適用した場合に比べて、ＣＯ２分子に再結合しにくい。そして、ＣＯ２分子は、解離後、分解ガスとしてＣＯガスを発生させる。このようにして、容器内に充填したＣＯ２ガスが徐々に減少して、分解ガスのＣＯガスが増加する。その結果、絶縁ガスにＳＦ６ガスを適用した場合に比べて、ガス絶縁機器の使用期間の経過に伴う絶縁性能または消弧性能の低下が顕著となり、ガス絶縁機器の保守や絶縁ガスの補充の頻度を増加せざるを得ない。
そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、ＣＯ２を含む絶縁ガスを用いたガス絶縁機器において、絶縁性能または消弧性能の低下を抑制することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明に係るガス絶縁機器は、密閉容器内に高電圧部が収納されたガス絶縁機器であって、前記密閉容器内に充填されたＣＯ２を含む絶縁ガスと、前記絶縁ガスの雰囲気下に配置されたゼオライトと、を具備したことを特徴とする。
また、上記の目的を達成するために、本発明に係るガス絶縁機器の製造方法は、密閉された容器内に高電圧部が収納されたガス絶縁機器の製造方法であって、ゼオライトにＣＯ２を吸着させる吸着工程と、前記容器内に高電圧部が収納し、前記容器内にＣＯ２を含む絶縁ガスを充填し、前記容器内に前記ＣＯ２を吸着させたゼオライトを配置して、前記容器を密閉する組立工程と、を具備したことを特徴とする。
本発明によれば、ＣＯ２を含む絶縁ガスを用いたガス絶縁機器において、絶縁性能または消弧性能の低下を抑制できる。
本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の一部概略断面図であって、ガス絶縁遮断器の閉極状態を示したものである。 本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の一部概略断面図であって、ガス絶縁遮断器の開極動作中の状態を示したものである。 本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器のゼオライトによる吸着を説明するための模式図であって、ゼオライトがＣＯ２を吸着している状態を示す。 本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器のゼオライトによる吸着を説明するための模式図であって、ゼオライトが分解ガスを吸着している状態を示す。 本発明の第２の実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁変圧器）の一部概略断面図である。
［第１の実施形態］
本発明のガス絶縁機器の第１の実施形態について、図１ないし図４を用いて説明する。本実施形態に係るガス絶縁機器は、パッファ形ガス絶縁遮断器である。
まず、本実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の構造について、図１および図２を用いて説明する。図１は、本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の一部概略断面図であって、ガス絶縁遮断器の閉極状態を示したものである。図２は、本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の一部概略断面図であって、ガス絶縁遮断器の開極動作中の状態を示したものである。
ガス絶縁遮断器は、略円筒形状の密閉容器１０内に高電圧部、ゼオライト２０、および、絶縁ガスを有する。
密閉容器１０は、金属または碍子などにより構成され、接地されている。高電圧部は、大電流が通電し、かつ、その大電流を遮断する機能を有する。高電圧部から密閉容器１０への放電を極力防ぐために、高電圧部は、密閉容器１０の軸に沿って密閉容器１０と空間１１を空けて配置され、その空間（ガス充填空間）１１には、絶縁ガスが充填されている。
高電圧部は、固定部３０、可動部４０、および、導電部６１，６２を有する。
固定部３０と可動部４０とは、互いに対向して、密閉容器１０の軸に沿って配置されている。固定部３０および可動部４０は、それぞれ絶縁物からなる支持体７１，７２によって、密閉容器１０内に固定されている。
導電部６１，６２は、それぞれ絶縁物からなるスペーサ７３，７４によって、密閉容器１０に固定されている。なお、スペーサ７３，７４は、密閉容器１０とともにガス充填空間１１を仕切っている。
閉極状態（図１）においては、電流は、ブッシング（図示しない）を介してガス絶縁遮断器に流れ込み、導電部６１、固定部３０、可動部４０、および、導電部６２を流れて、ブッシング（図示しない）を介してガス絶縁遮断器から流れ出る。
固定部３０は、固定アーク接触子３１、固定通電接触子３２、および、固定通電板３３を有する。
固定アーク接触子３１は、密閉容器１０の軸に沿って延びた棒体である。固定通電接触子３２は、固定アーク接触子３１を囲むように、密閉容器１０の軸に沿って延びた円筒体である。また、固定通電板３３は、固定通電接触子３２の内部に密閉容器１０の軸に垂直に広がる板体であって、固定アーク接触子３１と固定通電接触子３２とを導通させている。
可動部４０は、可動アーク接触子４１、可動通電接触子４２、駆動ロッド４３、パッファシリンダ４４、連結板４５、絶縁ノズル４６、および、ピストン４７等を有する。
駆動ロッド４３は、密閉容器１０の軸に沿って延びた円筒体である。駆動ロッド４３の固定部３０と反対側の端部は、駆動装置７５に接続されていて、駆動ロッド４３は、駆動装置７５により、密閉容器１０の軸方向（図１および図２の左右方向）に移動する。
可動アーク接触子４１は、駆動ロッド４３の固定部３０側の端部から固定部３０側に突出した環状体である。閉極状態（図１）において、可動アーク接触子４１の内周面は、固定アーク接触子３１の外周面に接触している。
パッファシリンダ４４は、密閉容器１０の軸に沿って延びた円筒体であって、駆動ロッド４３と間隔を空けて駆動ロッド４３の外周に配置されている。連結板４５は、パッファシリンダ４４の固定部３０側の端部から駆動ロッド４３の外周面まで密閉容器１０の軸に垂直に広がる板体であって、駆動ロッド４３とパッファシリンダ４４とを接続している。
可動通電接触子４２は、連結板４５の固定部３０側の面から固定部３０側に突出した環状体であって、可動アーク接触子４１と間隔を空けて可動アーク接触子４１の外周に配置されている。閉極状態（図１）において、可動通電接触子４２の外周面は、固定通電接触子３２の内周面に接触している。
絶縁ノズル４６は、連結板４５の固定部３０側の面から固定部３０側に突出した環状体であって、可動アーク接触子４１と可動通電接触子４２との間に配置されている。絶縁ノズル４６は、可動アーク接触子４１と間隔を空けて配置され、可動アーク接触子４１の外周および先端を囲むような形状になっている。絶縁ノズル４６は、例えば、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂から構成された絶縁体である。
上述の可動アーク接触子４１、可動通電接触子４２、駆動ロッド４３、パッファシリンダ４４、連結板４５、および、絶縁ノズル４６は、一体構造となっていて、駆動装置７５により、一体となって密閉容器１０の軸方向（図１および図２の左右方向）に移動する。
ピストン４７は、内管４８および外管４９からなる二重管構造を有する。内管４８および外管４９は、密閉容器１０の軸に沿って延びていて、互いに間隔を空けて配置されている。内管４８と外管４９との間には、パッファシリンダ４４が摺動可能に配置されている。内管４８の固定部３０側の端部には、密閉容器１０の軸中心に向かって広がるフランジ５０が形成されていて、このフランジ５０には、駆動ロッド４３の外径に対応した貫通孔５１が形成されている。内管４８の内側には、駆動ロッド４３は、ピストン４７に対して摺動可能に貫通孔５１を挿通して、内管４８の内側に内管４８と間隔を空けて配置されている。
なお、内管４８および外管４９には、それぞれ第１連通孔５２および第２連通孔５３が形成されている。そのため、駆動ロッド４３、内管４８およびフランジ５０により囲まれた空間（以下、「ピストン室」という）５４には、絶縁ガスが充填されている。
また、フランジ５０には、第３連通孔５５が形成されていて、この第３連通孔５５には、逆止弁５６が設けられている。そのため、駆動ロッド４３、パッファシリンダ４４、フランジ５０および連結板４５により囲まれた空間（以下、「シリンダ室」という）５７は、第３連通孔５５および逆止弁５６を介して、ピストン室５４と連通している。逆止弁５６により、シリンダ室５７の内圧がピストン室５４の内圧より低い場合に、絶縁ガスは、ピストン室５４からシリンダ室５７に流れる。一方、絶縁ガスは、シリンダ室５７からピストン室５４に流れることはない。
本実施形態において、絶縁ガスは、ＣＯ２ガス、または、ＣＯ２ガスを含む混合ガス（例えば、ＣＯ２ガスの質量混合比が５０％以上の混合ガス）である。
絶縁ガスがＣＯ２ガスを含む混合ガスの場合には、ＣＯ２ガス以外のガスは、例えば、Ｎ２ガス、Ｏ２ガス、Ｈｅガスなどの無極性分子構造を持つガスであることが好ましい。または、このＣＯ２ガス以外のガスは、例えば、ＣＦ４ガスなどの分子径がＣＯ２より大きいガスであることが好ましい。
本実施形態に係るガス絶縁遮断器は、密閉容器１０内に、ゼオライトケース２１に収納されたゼオライト２０を備えている。ゼオライトケース２１には、例えば、数ｍｍ程度のビーズ形状またはペレット形状のゼオライトが収納されている。ゼオライトケース２１には、多数の通気孔２２が形成されていて、密閉容器１０内に充填されたＣＯ２ガスは、通気孔２２を通じて、ゼオライトケース２１内のゼオライトに接触できる。
ゼオライトケース２１は、高電圧部より上方に設置されることが好ましい。また、ゼオライトケース２１は、後述するアーク放電８１に吹付けられた後の絶縁ガスの流路（例えば、第６連通孔３５の近傍）に設置されることが好ましい。
ゼオライト２０は、例えば、合成ゼオライトであり、特に、細孔径が０．２ｎｍ以上０．５ｎｍ以下のもの（例えば、Ａ型ゼオライト）が好ましい。
ここで、本実施形態に係るガス絶縁遮断器の製造方法において、密閉容器１０内に高電圧部およびゼオライト２０を収納し、密閉容器１０内に絶縁ガスを充填し、密閉容器１０を組み立てる（組立工程）前に、予め、ゼオライト２０にＣＯ２ガスを吸着させておく（吸着工程）。
次に、本実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の開極動作について、図１および図２を用いて説明する。
閉極状態（図１）においては、固定アーク接触子３１と可動アーク接触子４１とが接触し、固定通電接触子３２と可動通電接触子４２とが接触し、固定部３０と可動部４０とが通電されている。
ここで、電流を遮断する場合には、駆動装置７５により、駆動ロッド４３を固定部３０から離れる方向（図１の左方向）に移動する。そうすると、固定アーク接触子３１と可動アーク接触子４１、および、固定通電接触子３２と可動通電接触子４２とが、互いに離れる。その結果、図２に示すように、固定アーク接触子３１と可動アーク接触子４１との間にアーク放電８１が発生する。
この開極動作に伴い、パッファシリンダ４４がピストン４６内に収納されるため、シリンダ室５７の容積が小さくなる。そうすると、シリンダ室５７内に充填された絶縁ガスが、連通板４５に形成された第４連通孔５８、および、可動アーク接触子４１と絶縁ノズル４７との間の空間５９を通過して、アーク放電８１に吹き付けられる。こうして、アーク放電７はその導電性を失い、電流は遮断される。一般に高い消弧性能を得るためには、高い吹付け圧力、および、豊富な絶縁ガスの流量が必要となる。
なお、吹き付けられた後の絶縁ガスは、固定通電板３３に形成された第５連通孔３４、および、固定通電接触子３２に形成された第６連通孔３５を通って、密閉容器１０内を対流する。
次に、本実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の作用について、図３および図４を用いて説明する。図３は、本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器のゼオライトによる吸着を説明するための模式図であって、ゼオライトがＣＯ２を吸着している状態を示す。図４は、本発明の第１の実施形態に係るガス絶縁機器のゼオライトによる吸着を説明するための模式図であって、ゼオライトが分解ガスを吸着している状態を示す。
ＣＯ２ガスは、絶縁性能および消弧性能において、ＳＦ６ガスには劣るものの、空気よりは遥かに優れている。さらに、ＣＯ２ガスは、地球温暖化作用において、ＳＦ６ガスより遥かに優れている。そのため、本実施形態によれば、高い絶縁性能・消弧性能を有し、かつ、地球温暖化の影響の小さいガス絶縁遮断器を提供できる。
ここで、絶縁ガスがアーク放電８１に吹付けられると、上述したとおり、ＣＯ２ガスが解離して、ＣＯガスが発生する。密閉容器１０内のＣＯガスの濃度が高くなると、ガス絶縁遮断器の絶縁性能・消弧性能が低下してしまう。本実施形態によれば、ゼオライト２０がＣＯ分子を吸着するため、密閉容器１０内のＣＯガスの濃度の上昇を抑制できる。したがって、ガス絶縁遮断器の絶縁性能・消弧性能の低下を抑制できる。
また、上述したとおり、ＣＯ２ガスの解離に伴い、密閉容器１０内にＣＯガスが発生し、密閉容器１０内のＣＯ２ガスが減少する。そうすると、ガス絶縁遮断器の絶縁性能・消弧性能が低下してしまう。本実施形態のように、ガス絶縁遮断器の組み立て前に、予め、ゼオライト２０にＣＯ２分子を吸着させておけば、ゼオライト２０が発生したＣＯ分子を吸着し、予めゼオライト２０に吸着されているＣＯ２分子を放出するため、密閉容器１０内のＣＯガスの増加を抑制し、かつ、ＣＯ２ガスの減少を抑制できる。したがって、ガス絶縁遮断器の絶縁性能・消弧性能の低下を抑制できる。
なお、図３に模式的に示したように、ゼオライト２０に吸着したＣＯ２分子８４は、物理的あるいは電気的にゼオライト２０の細孔２３内に束縛されている。ここで、ＣＯ２分子８４は、無極性分子構造を有するため、電気的な束縛は小さい。一方、ＣＯ分子８５は、極性分子構造を有するため、ＣＯ２分子８４に比べて電気的な束縛を受けやすく、ゼオライト２０に吸着されやすい。また、ＣＯ分子８５は、ＣＯ２分子８４より小さい分子であるため、ＣＯ２分子８４に比べて物理的にゼオライト２０に吸着されやすい。よって、図４に模式的に示したように、ＣＯ分子８５は、細孔２３内のＣＯ２分子８４を追い出して、代わりに細孔２３内に収まる。したがって、本実施形態によれば、ゼオライト２０がＣＯ分子８５を吸着し、予め吸着されているＣＯ２分子８４を放出するという「分子の交換」が効果的に行われ、密閉容器１０内のＣＯガスの増加を抑制し、かつ、ＣＯ２ガスの減少を抑制できる。
ここで、上述の「分子の交換」は、密閉容器１０内のガス充填圧力を一定に保つために、１対１で行われるのが好ましい。そのためにも、ゼオライト２０の細孔径は、細孔２３内にＣＯ２分子（分子径：約０．３５ｎｍ）８４またはＣＯ分子（分子径：約０．２８ｎｍ）８５のいずれかが１つ収まる大きさが好ましい。そこで、本実施形態のように、ゼオライト２０の平均細孔径は、０．２ｎｍ以上０．５ｎｍ以下であることが好ましい。なお、ゼオライト２０、ＣＯ２分子８４、および、ＣＯ分子８５の熱運動等により、平均細孔径より小さい分子径の分子も吸着されることがある。
また、本実施形態に係るガス絶縁遮断器においては、フッ素系樹脂からなる絶縁ノズル４６を備えている。そうすると、アーク放電８１により、絶縁ノズル４６が昇華して、フッ素（Ｆ）イオンが発生し、これが密閉容器１０内の水分と反応して、フッ化水素（ＨＦ）ガスが発生することがある。ここで、本実施形態によれば、図４に模式的に示したように、このＨＦ分子８６もゼオライト２０に吸着させることができる。なお、ＨＦ分子８６は、極性分子構造を有し、かつ、ＣＯ２分子に比べて分子径が小さいため、ＣＯ２分子に比べてゼオライト２０に吸着されやすい。
なお、本実施形態のように、ゼオライト２０の平均細孔径が０．２ｎｍ以上０．５ｎｍ以下であると、図４に示したように、１つの細孔２３内に１つのＣＯ分子８５と１つのＨＦ分子８６とが同時に吸着されることもある。
また、絶縁ガスがＣＯ２ガスを含む混合ガスの場合には、ＣＯ２ガス以外のガスは、無極性分子構造を持つガスであることが好ましく、このＣＯ２ガス以外のガスは、分子径がＣＯ２より大きいガスであることが好ましい。なぜならば、ＣＯ２ガス以外のガスが、極性分子構造を持つガスであると、予めゼオライト２０に吸着させたＣＯ２分子を追い出して、代わりにゼオライト２０に吸着されやすいからである。また、ＣＯ２ガス以外のガスが、ＣＯ２より小さい分子径のガスであると、予めゼオライト２０に吸着させたＣＯ２分子を追い出して、代わりにゼオライト２０に吸着されやすいからである。
さらに、アーク放電８１により発生したＣＯガスおよびＨＦガスは、絶縁ガスを構成するＣＯ２ガスより軽いため、密閉容器１０内の上方に集まる。そのため、ゼオライトケース２１を高電圧部より上方に設置すると、「分子の交換」が効果的に行われる。アーク放電８１に吹付けられた後の絶縁ガスの流路にゼオライトケース２１を設置すれば、ＣＯガスおよびＨＦガスが発生後すぐにゼオライト２０に吸着されやすく、ガス絶縁遮断器の絶縁性能・消弧性能を維持できる。
なお、上述では、密閉容器１０内での放電として、アーク放電８１を例に説明したが、図１に示すような事故放電８２が発生した場合も、ＣＯガスやＨＦガスが発生する。この場合にも、本実施形態によれば、ガス絶縁遮断器の絶縁性能・消弧性能の低下を抑制できる。
［第２の実施形態］
本発明のガス絶縁機器の第２の実施形態について、図５を用いて説明する。本実施形態に係るガス絶縁機器は、ガス絶縁変圧器である。
まず、本実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁遮断器）の構造について、図５を用いて説明する。図５は、本発明の第２の実施形態に係るガス絶縁機器（ガス絶縁変圧器）の一部概略断面図である。なお、本実施形態は、第１の実施形態の変形例であるため、重複説明を省略する。
ガス絶縁変圧器は、密閉容器１０内に高電圧部、ゼオライト２０、および、絶縁ガスを収納し、配管９４、ブロア９７、冷却器９８等を有する。
高電圧部は、鉄心９１、および、その外周を巻回しているコイル９２，９３を有する。
ブロア９７および冷却器９８は、密閉容器１０の外部に設置されている。密閉容器１０内の絶縁ガスは、ブロア９７により吸気口９５から吸い込まれ、配管９４を通って、冷却器９８に流れ込み、冷却される。冷却された絶縁ガスは、配管９４を通って、排気口９６から密閉容器１０内に戻る。このように、絶縁ガスは、ガス絶縁変圧器内を循環している。
ガス絶縁変圧器は、電流の開閉を伴わない静止器であるが、負荷に応じてコイル９２，９３を切り替えるためのタップ切替え装置（図示しない）が併設されている。このタップ切替え時には、密閉容器１０内で放電が発生する。また、絶縁不良などの不具合により、コイル９２，９３と密閉容器１０との間で事故放電８２が発生することがある。
第１の実施形態において説明したのと同様に、これらの放電により、絶縁ガスが解離して、ＣＯガス等の分解ガスが発生し、ＣＯ２ガスが減少してしまい、その結果、ガス絶縁変圧器の絶縁性能の低下が懸念される。
そこで、本実施形態においても、密閉容器１０内にゼオライト２０を収納したゼオライトケース２１を設置している。図５に示すように、絶縁ガスの循環流路である排気口９６付近にゼオライトケース２１を設置すると、効果的に分解ガスを吸着できる。なお、同様の理由から、ゼオライトケース２１は、吸気口９５付近に設置されても良い。また、配管９４の途中にゼオライト２０を収納した吸着室を設けても良い。
［他の実施形態］
第１および第２の実施形態は単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明のガス絶縁機器として、第１の実施形態では、ガス絶縁遮断器を例に挙げ、第２の実施形態では、ガス絶縁変圧器を例に挙げたが、本発明は、例えば、ガス絶縁断路器などのガス絶縁開閉器、ガス絶縁避雷器、および、ガス絶縁送電管などにも適用できる。
また、ゼオライト２０は、粉体をゼオライトケース２１に収納して用いる必要はなく、例えば、合成ゼオライト膜を用いても良い。
１０…密閉容器、１１…ガス充填空間、２０…ゼオライト、２１…ゼオライトケース、２２…通気孔、２３…ゼオライトの細孔、３０…固定部、３１…固定アーク接触子、３２…固定通電接触子、３３…固定通電板、３４…第５連通孔、３５…第６連通孔、４０…可動部、４１…可動アーク接触子、４２…可動通電接触子、４３…駆動ロッド、４４…パッファシリンダ、４５…連結板、４６…絶縁ノズル、４７…ピストン、４８…ピストンの内管、４９…ピストンの外管、５０…ピストンのフランジ、５１…貫通孔、５２…第１連通孔、５３…第２連通孔、５４…ピストン室、５５…第３連通孔、５６…逆止弁、５７…シリンダ室、５８…第４連通孔、５９…吹付け流路、６１，６２…導電部、７１，７２…支持体、７３，７４…スペーサ、７５…駆動装置、８１…アーク放電、８２…事故放電、８３…絶縁ガスの流れ、８４…ＣＯ２分子、８５…ＣＯ分子、８６…ＨＦ分子、９１…鉄心、９２，９３…コイル、９４…配管、９５…吸気口、９６…排気口、９７…ガスブロア、９８…クリーニングユニット

Claims (11)

  1. 密閉容器内に高電圧部が収納されたガス絶縁機器であって、
    前記密閉容器内に充填されたＣＯ２を含む絶縁ガスと、
    前記絶縁ガスの雰囲気下に配置されたゼオライトと、
    を具備したことを特徴とするガス絶縁機器。
  2. 前記ゼオライトは、その平均細孔径が０．２ｎｍ以上かつ０．５ｎｍ以下の合成ゼオライトであることを特徴とする請求項１に記載のガス絶縁機器。
  3. 前記ゼオライトは、前記ガス絶縁機器の使用前においてＣＯ２を吸着したものであることを特徴とする請求項１または２に記載のガス絶縁機器。
  4. 前記絶縁ガスは、ＣＯ２とＣＯ２以外の無極性分子構造を持つガスとを主成分とする混合ガスであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載のガス絶縁機器。
  5. 前記絶縁ガスは、ＣＯ２と分子径がＣＯ２より大きいガスとを主成分とする混合ガスであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載のガス絶縁機器。
  6. 前記絶縁ガスの雰囲気下にＣＯをＣＯ２に酸化可能な酸化触媒を配置したことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載のガス絶縁機器。
  7. 前記ゼオライトは、前記高電圧部より上方に配置されたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載のガス絶縁機器。
  8. 前記ガス絶縁機器は、開閉装置であって、
    前記高電圧部は、
    固定接触子と、
    前記固定接触子に対して接離可能であって、前記固定接触子と同軸上に向かい合って配置され、開離時には前記固定接触子との間にアーク放電が発生しうるように構成された可動接触子と、
    前記アーク放電に前記絶縁ガスを吹き付けるために、前記アーク放電を囲むように配置された絶縁ノズルと、
    を備えたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載のガス絶縁機器。
  9. 前記絶縁ノズルは、フッ素系樹脂を含むことを特徴とする請求項８に記載のガス絶縁機器。
  10. 前記ゼオライトは、前記絶縁ガスが前記アーク放電に吹き付けられた後に流れうる位置に配置されたことを特徴とする請求項８または９に記載のガス絶縁機器。
  11. 密閉された容器内に高電圧部が収納されたガス絶縁機器の製造方法であって、
    ゼオライトにＣＯ２を吸着させる吸着工程と、
    前記容器内に高電圧部を収納し、前記容器内にＣＯ２を含む絶縁ガスを充填し、前記容器内に前記ＣＯ２を吸着させたゼオライトを配置して、前記容器を密閉する組立工程と、
    を具備したことを特徴とするガス絶縁機器の製造方法。
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