JP2010541273A - 光束によるウェハの加熱方法 - Google Patents
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Abstract
前記加熱すべき層の温度が低温範囲(PBT)にある限り、前記加熱すべき層(2)による前記光束の吸収係数が低く、前記加熱すべき層の温度が、高温範囲(PHT)に入った時、前記吸収係数が大きく増加するように光束(7)、加熱すべき層(2)を選択する工程と、前記選択された波長における前記光束の前記吸収係数が、前記低温範囲(PBT)で高く、前記副層が前記光束にさらされた時に、前記温度が前記高温範囲(PHT)に入るように副層(4)を選択する工程と、前記光束(7)を前記ウェハ(1)に照射する工程を備える、方法に関する。
Description
光束を選択する工程であって、
−波長が、前記加熱すべき層の温度が低温範囲にある限り、前記加熱すべき層による前記光束の吸収係数が低く、前記加熱すべき層の温度が前記低温範囲のほぼ上に位置する高温範囲に入った時、前記吸収係数が大きく増加するような波長であり、
−前記パルスの強度および持続時間が、前記副層の非存在下において、前記加熱すべき層の温度が前記低温範囲内に留まるような強度および持続時間である工程と、
副層を選択する工程であって、
−前記選択された波長における前記光束の前記吸収係数が、前記低温範囲で高く、
−前記副層が前記光束にさらされた時に、前記温度が前記高温範囲に入る工程と、
前記光束を前記ウェハに、少なくとも局所的に、前記加熱すべき層における前記副層と反対側の面を介して照射する工程と
を備える。
光束7は、3.75*1.E6 W/cm2の光束で6マイクロ秒間持続するCO2レーザーパルスでよい。
−低温範囲PBT上の吸収係数の最大値Alphamaxの識別
−次いで、到達した最高温度Tmaxの指標は、Tmax=Phi*tau*alphamax/Cpにより与えられ、
式中、Cpは、熱容量であり、Phiは光束であり、Tauは光束持続時間であり、Cpは体積熱であり、
Phiが3.75*1.E6W/cm2に等しい場合、tau --- 6*1.E6S-alphamaxに等しく、--- 2cm-1 - Cpに等しく、--- 1.4J/cm3に等しい。
例1
図3に示すように、ドープされていない無配向(disoriented)粒子多結晶シリコン基板から出発し、面の一方を、マイクロエレクトロニクスで使用される従来技術を使用して酸化し、ドープされていない無配向粒子多結晶シリコン層2およびシリコン酸化物副層4を備えるウェハ1を得る。
図6に示すように、ドープされていない単結晶シリコン基板から出発し、バッキング8を形成し、マイクロエレクトロニクスで使用する従来技術を使用し、前記基板の面8aを、約1E20/cm-3のn型の表面ドーピングにより、局所的区域4aを形成し、前記局所的区域4aからなる吸収性副層4を得る。例えば、各区域4aは、正方形であり、厚さが約2ミクロン、側部が約50ミクロンであり、区域4a同士の間の間隔は約25ミクロンである。
Claims (11)
- 少なくとも一つの加熱すべき層(2)と前記加熱すべき層に少なくとも局所的に隣接した副層(4)とを備えるウェハ(1)を、少なくとも局所的に、少なくとも一つの光束パルスの影響下で、加熱する方法であって、
光束(7)を選択する工程であって、
−波長が、前記加熱すべき層(2)の温度が低温範囲(PBT)にある限り、前記加熱すべき層による前記光束の吸収係数が低く、前記加熱すべき層の温度が、前記低温範囲のほぼ上に位置する高温範囲(PHT)に入った時、前記吸収係数が大きく増加するような波長であり、
−前記パルスの強度および持続時間が、前記副層の非存在下において、前記加熱すべき層の温度が前記低温範囲内に留まるような強度および持続時間である工程と、
副層(4)を選択する工程であって、
−前記選択された波長における前記光束の前記吸収係数が、前記低温範囲(PBT)で高く、
−前記副層が前記光束にさらされた時に、前記温度が前記高温範囲(PHT)に入る工程と、
前記光束(7)を前記ウェハ(1)に、少なくとも局所的に、前記加熱すべき層(2)における前記副層(4)と反対側の面(3)を介して照射する工程と
を備え、
これにより、第一段階では、前記光束(7)が前記副層(4)を、前記副層の初期温度から、少なくとも前記高温範囲(PHT)にある温度に加熱し、第二段階では、前記副層(4)が、熱拡散により、前記加熱すべき層(2)に隣接した部分を前記高温範囲(PHT)にある温度に加熱し、第三段階では、前記隣接した部分が吸収性になり、前記加熱すべき層(2)中で、前記温度が前記高温範囲(PHT)にある吸収性熱フロント(10)を発生させ、前記熱フロント(10)の前方熱拡散と、前記加熱すべき層(2)のまだ吸収性にはなっていない残りの部分を介して前記熱フロントに到達する前記光束(7)による熱エネルギー供給との組合せまたは二重効果の下で、前記吸収性熱フロント(10)が前記前面(3)に向かって進行するようにした、方法。 - 前記低温範囲(PBT)および前記高温範囲(PHT)を、前記温度の関数としての前記吸収係数の挙動遷移閾値により分離することができる、請求項1に記載の方法。
- 前記温度の関数としての前記吸収係数の前記挙動遷移閾値(STC)が、ある温度範囲に及ぶ、請求項2に記載の方法。
- 前記加熱すべき層(2)が、低ドープされたシリコンである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記加熱すべき層(2)が、半導体材料である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記低温範囲(PBT)が、前記ドーピングが固有ではない範囲に実質的に対応し、前記高温範囲(PHT)が、前記ドーピングが固有である範囲に実質的に対応する、請求項5に記載の方法。
- 前記加熱すべき層(2)が窒化ガリウムである、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記副層(4)が非晶質シリコンである、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記副層(4)が高ドープされたシリコンである、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記加熱すべき層(2)が窒化ガリウムであり、前記副層がシリコンである、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記光束がレーザーにより発生する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013541197A (ja) * | 2010-09-10 | 2013-11-07 | ソイテック | 特定波長の光束を用いて基板を処理する方法および対応する基板 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2938116B1 (fr) * | 2008-11-04 | 2011-03-11 | Aplinov | Procede et dispositif de chauffage d'une couche d'une plaque par amorcage et flux lumineux. |
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CN114335778B (zh) * | 2021-12-30 | 2023-05-26 | 重庆长安新能源汽车科技有限公司 | 一种确定动力电池脉冲加热温度采集点的方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5810822A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-21 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 半導体装置の製造方法 |
JPS5860530A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-04-11 | Toshiba Corp | 半導体膜の製造方法 |
JPS6170713A (ja) * | 1984-09-14 | 1986-04-11 | Agency Of Ind Science & Technol | シリコン膜再結晶化方法 |
JP2007507897A (ja) * | 2003-09-29 | 2007-03-29 | ウルトラテック インク | 低濃度ドープシリコン基板のレーザー熱アニール |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4269631A (en) * | 1980-01-14 | 1981-05-26 | International Business Machines Corporation | Selective epitaxy method using laser annealing for making filamentary transistors |
JPS58169940A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-06 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPS6156409A (ja) * | 1984-08-28 | 1986-03-22 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
CN1131548C (zh) * | 1997-04-04 | 2003-12-17 | 松下电器产业株式会社 | 半导体装置 |
EP1083590A4 (en) * | 1999-03-05 | 2002-09-18 | Seiko Epson Corp | METHOD FOR PRODUCING A THIN-LAYER SEMICONDUCTOR COMPONENT |
US6380044B1 (en) * | 2000-04-12 | 2002-04-30 | Ultratech Stepper, Inc. | High-speed semiconductor transistor and selective absorption process forming same |
US20030040130A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-27 | Mayur Abhilash J. | Method for selection of parameters for implant anneal of patterned semiconductor substrates and specification of a laser system |
US20030160233A1 (en) * | 2002-02-28 | 2003-08-28 | Rendon Michael J. | Method of forming a semiconductor device having an energy absorbing layer and structure thereof |
FR2859820B1 (fr) * | 2003-09-17 | 2006-06-09 | Commissariat Energie Atomique | Structure multi-zones apte a subir un recuit par irradiation lumineuse et procede de mise en oeuvre de ladite structure |
TW200610059A (en) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Au Optronics Corp | Semiconductor device and method of fabricating an LTPS layer |
US7642205B2 (en) * | 2005-04-08 | 2010-01-05 | Mattson Technology, Inc. | Rapid thermal processing using energy transfer layers |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5810822A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-21 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 半導体装置の製造方法 |
JPS5860530A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-04-11 | Toshiba Corp | 半導体膜の製造方法 |
JPS6170713A (ja) * | 1984-09-14 | 1986-04-11 | Agency Of Ind Science & Technol | シリコン膜再結晶化方法 |
JP2007507897A (ja) * | 2003-09-29 | 2007-03-29 | ウルトラテック インク | 低濃度ドープシリコン基板のレーザー熱アニール |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013541197A (ja) * | 2010-09-10 | 2013-11-07 | ソイテック | 特定波長の光束を用いて基板を処理する方法および対応する基板 |
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