JP2010524204A5 - - Google Patents

Description

本発明は、以下の形態で実現可能である。
［形態１］
近接ヘッドであって、
ヘッド面を備え、
前記ヘッド面は、
第１の平面領域と複数の第１の導管とを備え、前記複数の第１の導管の各々は、前記ヘッド面に存在し前記第１の平面領域にわたって配置された複数の第１の離散孔の内の対応する離散孔によって規定されており、
さらに、第２の平面領域と複数の第２の導管とを備え、前記複数の第２の導管は、前記ヘッド面に存在し前記第２の平面領域にわたって配置された対応する複数の第２の離散孔によって規定されており、
さらに、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置された第３の平面領域と複数の第３の導管とを備え、前記複数の第３導管は、前記ヘッド面に存在し前記第３の平面領域にわたって配置された対応する複数の第３の離散孔によって規定されており、前記第３の導管は、前記第３の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は、３０°から６０°の間である、
近接ヘッド。
［形態２］
形態１に記載の近接ヘッドであって、前記複数の第１の導管は、第１の液体源に接続され、第１の液体を前記ヘッド面に供給し、前記複数の第２の導管は、第２の流体源に接続され、第２の流体を前記ヘッド面に供給し、前記複数の第３の導管は、真空源に接続され、真空を前記ヘッド面に供給する、近接ヘッド。
［形態３］
形態１に記載の近接ヘッドであって、前記第３の離散孔は、後縁部に沿って形成される、近接ヘッド。
［形態４］
形態１に記載の近接ヘッドであって、前記第１の導管は、前記第１の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第２の角度は、３０°から６０°の間である、近接ヘッド。
［形態５］
形態１に記載の近接ヘッドであって、前記第１の離散孔は、第１の列に形成され、前記第２の離散孔は、第２の列に形成され、前記第３の離散孔は、第３の列に形成され、
前記第１の列、前記第２の列、および、前記第３の列は、実質的に平行であり、前記第３の列は、前記第１の列および前記第２の列の間に配置される、近接ヘッド。
［形態６］
形態５に記載の近接ヘッドであって、前記第２の導管は、前記第２の平面領域と第２の角度を成すよう形成され、前記第２の角度は、３０°から６０°の間であり、前記第２の導管は、前記第３の列から離れる方向に向けられる、近接ヘッド。
［形態７］
形態５に記載の近接ヘッドであって、さらに、
前記第１の列に関して前記第３の列の反対側に配置された第４の平面領域を備え、
前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、近接ヘッド。
［形態８］
形態５に記載の近接ヘッドであって、前記第２の列および前記第３の列は、約０．５インチから約０．７５インチの間の距離だけ離れている、近接ヘッド。
［形態９］
形態５に記載の近接ヘッドであって、前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、近接ヘッド。
［形態１０］
形態９に記載の近接ヘッドであって、前記第３の平面および前記第１の平面の間の前記オフセットは、約０．０２０インチから約０．０８０インチの間である、近接ヘッド。
［形態１１］
形態１０に記載の近接ヘッドであって、前記第３の列は、前記第１の平面領域に対する前記オフセットを有するよう前記第３の平面領域に形成される、近接ヘッド。
［形態１２］
形態１に記載の近接ヘッドであって、前記第３の離散孔は、面取りされている、近接ヘッド。
［形態１３］
形態１に記載の近接ヘッドであって、さらに、前記第１の導管に接続された第１のチャンバと、前記第２の導管に接続された第２のチャンバと、前記第３の導管に接続された第３のチャンバと、を備える、近接ヘッド。
［形態１４］
近接ヘッドであって、
ヘッド面を備え、
前記ヘッド面は、
第１の平面領域と複数の第１の導管とを備え、前記複数の第１の導管の各々は、前記ヘッド面に存在し前記第１の平面領域にわたって配置された複数の第１の離散孔の内の対応する離散孔によって規定されており、
さらに、第２の平面領域と複数の第２の導管とを備え、前記複数の第２の導管は、前記ヘッド面に存在し前記第２の平面領域にわたって配置された対応する複数の第２の離散孔によって規定されており、
さらに、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置された第３の平面領域と複数の第３の導管とを備え、
前記複数の第３導管は、前記ヘッド面に存在し前記第３の平面領域にわたって配置された対応する複数の第３の離散孔によって規定されており、前記第３の導管は、前記第３の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は、３０°から６０°の間であり、
前記第３の離散孔は、後縁部に沿って形成され、
前記第１の列に関して前記第３の列の反対側に第４の平面領域が配置されており、
前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされており、
前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、
近接ヘッド。
［形態１５］
近接ヘッドの製造するための方法であって、
前記近接ヘッド内に第１のチャンバを形成する工程と、
前記近接ヘッド内に第２のチャンバを形成する工程と、
前記近接ヘッド内に第３のチャンバを形成する工程と、
ヘッド面から前記第１のチャンバに至る複数の第１の導管を形成する工程と、
ヘッド面から前記第２のチャンバに至る複数の第２の導管を形成する工程と、
ヘッド面から前記第３のチャンバに至る複数の第３の導管を形成する工程と、
を備え、
前記第３の導管は、前記ヘッド面と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は、３０°から６０°の間である、方法。
［形態１６］
形態１５に記載の方法であって、さらに、
前記ヘッド面上に第１の平面領域を形成する工程と、
前記ヘッド面上に第２の平面領域を形成する工程と、
前記ヘッド面上に第３の平面領域を形成する工程と、
を備え
前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置され、前記第３平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、方法。
［形態１７］
形態１５に記載の方法であって、さらに、
第４の平面領域を形成する工程を備え、
前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、方法。
［形態１８］
形態１５に記載の方法であって、前記近接ヘッドは、単一のワークピースから形成される、方法。
［形態１９］
近接ヘッドを用いて基板を処理する方法であって、
前記基板の表面に近接し、前記基板の表面と実質的に平行な第１の平面内に存在するように、前記近接ヘッドを配置する工程と、
前記近接ヘッドのヘッド面の第１の平面領域と前記基板の表面との間に、液体メニスカスを形成する工程と、
前記液体メニスカスの後縁部に真空を作用させる工程と、
を備え、
前記真空は、前記液体メニスカスから実質的に途切れない液体の流れを引き込む、方法。
［形態２０］
形態１９に記載の方法であって、
前記液体メニスカスは、前縁部を備え、
前記ヘッド面は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し前記第１の平面領域からオフセットされた第２の平面領域を備え、
前記第２の平面領域は、前記第１の平面領域よりも前記基板の表面の近くに配置されるようオフセットされ、
前記液体メニスカスは、前記第２の平面領域と前記基板の表面との間に形成された前縁部を備える、方法。
本発明のその他の態様および利点については、本発明の原理を例示した添付図面を参照しつつ行う以下の詳細な説明から明らかになる。

Claims (23)

1. 近接ヘッドであって、
   ヘッド面を備え、
   前記ヘッド面は、
   第１の平面領域と複数の第１の導管とを備え、前記複数の第１の導管の各々は、前記ヘッド面に存在し前記第１の平面領域にわたって配置された複数の第１の離散孔の内の対応する離散孔によって規定されており、
   さらに、第２の平面領域と複数の第２の導管とを備え、前記複数の第２の導管は、前記ヘッド面に存在し前記第２の平面領域にわたって配置された対応する複数の第２の離散孔によって規定されており、
   さらに、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置された第３の平面領域と複数の第３の導管とを備え、前記複数の第３導管は、前記ヘッド面に存在し前記第３の平面領域にわたって配置された対応する複数の第３の離散孔によって規定されており、前記第３の導管は、前記第３の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は前記第１の導管側に形成されて、３０°から６０°の間である、
   近接ヘッド。
2. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記複数の第１の導管は、第１の液体源に接続され、第１の液体を前記ヘッド面に供給し、前記複数の第２の導管は、第２の流体源に接続され、第２の流体を前記ヘッド面に供給し、前記複数の第３の導管は、真空源に接続され、真空を前記ヘッド面に供給する、近接ヘッド。
3. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第３の離散孔は、前記第１の液体で形成されたメニスカスの後縁部に沿って形成される、近接ヘッド。
4. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第１の導管は、前記第１の平面領域と第２の角度を成すよう形成され、前記第２の角度は、３０°から６０°の間である、近接ヘッド。
5. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第１の離散孔は、第１の列に形成され、前記第２の離散孔は、第２の列に形成され、前記第３の離散孔は、第３の列に形成され、
   前記第１の列、前記第２の列、および、前記第３の列は、実質的に平行であり、前記第３の列は、前記第１の列および前記第２の列の間に配置される、近接ヘッド。
6. 請求項５に記載の近接ヘッドであって、前記第２の導管は、前記第３の平面領域と第２の角度を成すよう形成され、前記第２の角度は、３０°から６０°の間であり、前記第２の導管は、前記第３の列から離れる方向に向けられる、近接ヘッド。
7. 請求項５に記載の近接ヘッドであって、さらに、
   前記第１の列に関して前記第３の列の反対側に配置された第４の平面領域を備え、
   前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、近接ヘッド。
8. 請求項５に記載の近接ヘッドであって、前記第２の列および前記第３の列は、約０．５インチから約０．７５インチの間の距離だけ離れている、近接ヘッド。
9. 請求項５に記載の近接ヘッドであって、前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、近接ヘッド。
10. 請求項９に記載の近接ヘッドであって、前記第３の平面領域および前記第１の平面領域の間の前記オフセットは、約０．０２０インチから約０．０８０インチの間である、近接ヘッド。
11. 請求項１０に記載の近接ヘッドであって、前記第３の列は、前記第１の平面領域に対する前記オフセットを有するよう前記第３の平面領域に形成される、近接ヘッド。
12. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、前記第３の離散孔は、面取りされている、近接ヘッド。
13. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、さらに、前記第１の導管に接続された第１のチャンバと、前記第２の導管に接続された第２のチャンバと、前記第３の導管に接続された第３のチャンバと、を備える、近接ヘッド。
14. 近接ヘッドであって、
    ヘッド面を備え、
    前記ヘッド面は、
    第１の平面領域と複数の第１の導管とを備え、前記複数の第１の導管の各々は、前記ヘッド面に存在し前記第１の平面領域にわたって配置された複数の第１の離散孔の内の対応する離散孔によって規定されており、
    さらに、第２の平面領域と複数の第２の導管とを備え、前記複数の第２の導管は、前記ヘッド面に存在し前記第２の平面領域にわたって配置された対応する複数の第２の離散孔によって規定されており、
    さらに、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置された第３の平面領域と複数の第３の導管とを備え、
    前記複数の第３導管は、前記ヘッド面に存在し前記第３の平面領域にわたって配置された対応する複数の第３の離散孔によって規定されており、前記第３の導管は、前記第３の平面領域と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は前記第１の導管側に形成されて、３０°から６０°の間であり、
    前記第３の離散孔は、前記第１の液体で形成されたメニスカスの後縁部に沿って形成され、
    前記第１の列に関して前記第３の列の反対側に第４の平面領域が配置されており、
    前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされており、
    前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、
    近接ヘッド。
15. 近接ヘッドを製造するための方法であって、
    前記近接ヘッド内に第１のチャンバを形成する工程と、
    前記近接ヘッド内に第２のチャンバを形成する工程と、
    前記近接ヘッド内に第３のチャンバを形成する工程と、
    ヘッド面から前記第１のチャンバに至る複数の第１の導管を形成する工程と、
    ヘッド面から前記第２のチャンバに至る複数の第２の導管を形成する工程と、
    ヘッド面から前記第３のチャンバに至る複数の第３の導管を形成する工程と、
    を備え、
    前記第３の導管は、前記ヘッド面と第１の角度を成すよう形成され、前記第１の角度は、３０°から６０°の間である、方法。
16. 請求項１５に記載の方法であって、さらに、
    前記ヘッド面上に第１の平面領域を形成する工程と、
    前記ヘッド面上に第２の平面領域を形成する工程と、
    前記ヘッド面上に第３の平面領域を形成する工程と、
    を備え
    前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域および前記第２の平面領域の間に隣接して配置され、前記第３平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、方法。
17. 請求項１５に記載の方法であって、さらに、
    第４の平面領域を形成する工程を備え、
    前記第４の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされている、方法。
18. 請求項１５に記載の方法であって、前記近接ヘッドは、単一のワークピースから形成される、方法。
19. 近接ヘッドを用いて基板を処理する方法であって、
    前記基板の表面に近接し、前記基板の表面と実質的に平行な第１の平面内に存在するように、前記近接ヘッドを配置する工程と、
    前記近接ヘッドのヘッド面の第１の平面領域と前記基板の表面との間に、第１の離散孔から供給された第１の液体で形成されたメニスカスの液体メニスカスを形成する工程と、
    前記液体メニスカスの後縁部に真空を作用させる工程と、
    を備え、
    前記真空は、前記液体メニスカスから実質的に途切れない液体の流れを引き込む、方法。
20. 請求項１９に記載の方法であって、
    前記液体メニスカスは、前縁部を備え、
    前記ヘッド面は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し前記第１の平面領域からオフセットされた第２の平面領域を備え、
    前記第２の平面領域は、前記第１の平面領域よりも前記基板の表面の近くに配置されるようオフセットされ、
    前記液体メニスカスは、前記第２の平面領域と前記基板の表面との間に形成された前縁部を備える、方法。
21. 請求項１４に記載の近接ヘッドであって、
    前記複数の第３の離散孔のそれぞれは、前記第３の平面領域内にある後端と、前記第１の平面領域にある前端と、を有する、近接ヘッド。
22. 請求項１４に記載の近接ヘッドであって、
    前記第３の平面領域のオフセットは、前記第３の平面領域と前記基板表面との距離を増大させる、近接ヘッド。
23. 請求項１に記載の近接ヘッドであって、
    前記複数の第３の離散孔のそれぞれは、前記第３の平面領域内にある後端と、前記第１の平面領域にある前端と、を有し、
    前記第３の平面領域は、前記第１の平面領域と実質的に平行な平面内に存在し、前記第１の平面領域からオフセットされており、
    前記オフセットは、前記第３の平面領域と前記基板表面との距離を増大させる、近接ヘッド。