JP2012251822A - ステージ装置及び処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、つなぎ合わされた第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視する監視装置８７と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
【選択図】図５
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、つなぎ合わされた第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視する監視装置８７と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
【選択図】図５
Description
本発明は、ステージ装置及び処理装置等に関する。
基板などのワークに種々の処理を施す処理装置において、ワークを支持したり保持したりするためのステージ装置を有するものがある。
このようなステージ装置では、従来、複数の構成体に分割されているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
このようなステージ装置では、従来、複数の構成体に分割されているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
上記特許文献１によれば、複数の構成体をつなぎ合わせ（結合させ）ることによって、１つのステージ装置が組み立てられている。このような分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体に分割できるので、同じ大きさのステージ装置を一体で構成（以下、一体構造と呼ぶ）する場合に比較して、ステージ装置を輸送しやすくすることができる。
しかしながら、分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体の結合によって構成されるため、一体構造に比較して、構成体同士間の精度が変化しやすい。構成体同士間の精度が変化すると、ワークに対する処理精度が低下することが考えられる。
このように、従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難であるという課題がある。
しかしながら、分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体の結合によって構成されるため、一体構造に比較して、構成体同士間の精度が変化しやすい。構成体同士間の精度が変化すると、ワークに対する処理精度が低下することが考えられる。
このように、従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難であるという課題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
［適用例１］ワークを支持するテーブルと、前記テーブルの移動を案内する第１ガイド部と、前記第１ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第２ガイド部と、つなぎ合わされた前記第１ガイド部と前記第２ガイド部との間の精度を監視する監視装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例のステージ装置は、テーブルと、第１ガイド部と、第２ガイド部と、監視装置と、を有する。
テーブルは、ワークを支持する。
第１ガイド部は、テーブルの移動を案内する。
第２ガイド部は、第１ガイド部につなぎ合わされている。第２ガイド部は、テーブルの移動経路を延長する。
監視装置は、つなぎ合わされた第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度を監視する。
このステージ装置では、監視装置が設けられているので、例えば、第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度が許容範囲を超えて変化したことを監視することができる。これにより、ワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
テーブルは、ワークを支持する。
第１ガイド部は、テーブルの移動を案内する。
第２ガイド部は、第１ガイド部につなぎ合わされている。第２ガイド部は、テーブルの移動経路を延長する。
監視装置は、つなぎ合わされた第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度を監視する。
このステージ装置では、監視装置が設けられているので、例えば、第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度が許容範囲を超えて変化したことを監視することができる。これにより、ワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
［適用例２］上記のステージ装置であって、前記監視装置は、前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出した結果に基づいて、前記第１ガイド部と前記第２ガイド部との間の精度を監視する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例では、第１ガイド部及び第２ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出した結果に基づいて、第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度を監視することができる。
［適用例３］上記のステージ装置であって、前記監視装置は、前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出する検出装置を有する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例では、検出装置によって、第１ガイド部及び第２ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出することができる。
［適用例４］上記のステージ装置であって、前記検出装置は、前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的な段差を検出する第１センサーと、前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的な傾きを検出する第２センサーと、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例では、第１センサーと第２センサーとによって、第１ガイド部及び第２ガイド部の一方に対する他方の相対的な段差と相対的な傾きとを検出することができ、最少の構成により、高精度で第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度を監視することができる。
［適用例５］上記のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
この適用例の処理装置は、第１ガイド部と第２ガイド部との間の精度を監視することができるステージ装置と、テーブルに支持されたワークに対して処理を施す処理部と、を有する。これにより、ワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
［適用例６］上記の処理装置であって、前記処理部は、前記第１ガイド部よりも前記第２ガイド部側に設けられており、前記ステージ装置は、ワークを支持する第２テーブルと、前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側で前記第２ガイド部につなぎ合わされており、前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側から前記第２ガイド部に前記第２テーブルを案内する第３ガイド部と、つなぎ合わされた前記第２ガイド部と前記第３ガイド部との間の精度を監視する第２監視装置と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
この適用例では、処理部は、第１ガイド部よりも第２ガイド部側に設けられている。
また、この適用例では、ステージ装置は、第２テーブルと、第３ガイド部と、第２監視装置と、を有する。
第２テーブルは、ワークを支持する。
第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側で第２ガイド部につなぎ合わされている。第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側から第２ガイド部に第２テーブルを案内する。
第２監視装置は、つなぎ合わされた第２ガイド部と第３ガイド部との間の精度を監視する。
このステージ装置では、第２監視装置が設けられているので、例えば、第２ガイド部と第３ガイド部との間の精度が許容範囲を超えて変化したことを監視することができる。これにより、この処理装置では、第２テーブルに支持されたワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
また、このステージ装置では、第１ガイド部及び第３ガイド部のそれぞれが第２ガイド部につなぎ合わされている。テーブルは、第１ガイド部と第２ガイド部との間を往来することができる。また、第２テーブルは、第３ガイド部と第２ガイド部との間を往来することができる。
これにより、例えば、テーブル及び第２テーブルのうちの一方に支持されているワークが処理部によって処理されている間に、テーブル及び第２テーブルのうちの他方に新たなワークをセットすることができる。この結果、この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
また、この適用例では、ステージ装置は、第２テーブルと、第３ガイド部と、第２監視装置と、を有する。
第２テーブルは、ワークを支持する。
第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側で第２ガイド部につなぎ合わされている。第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側から第２ガイド部に第２テーブルを案内する。
第２監視装置は、つなぎ合わされた第２ガイド部と第３ガイド部との間の精度を監視する。
このステージ装置では、第２監視装置が設けられているので、例えば、第２ガイド部と第３ガイド部との間の精度が許容範囲を超えて変化したことを監視することができる。これにより、この処理装置では、第２テーブルに支持されたワークに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
また、このステージ装置では、第１ガイド部及び第３ガイド部のそれぞれが第２ガイド部につなぎ合わされている。テーブルは、第１ガイド部と第２ガイド部との間を往来することができる。また、第２テーブルは、第３ガイド部と第２ガイド部との間を往来することができる。
これにより、例えば、テーブル及び第２テーブルのうちの一方に支持されているワークが処理部によって処理されている間に、テーブル及び第２テーブルのうちの他方に新たなワークをセットすることができる。この結果、この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。
本実施形態における液滴吐出装置１は、概略の構成を示す斜視図である図１に示すように、ワーク搬送装置３と、キャリッジ７と、キャリッジ搬送装置１１と、を有している。
キャリッジ７には、ヘッドユニット１８が設けられている。
液滴吐出装置１では、ヘッドユニット１８と基板などのワークＷとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット１８から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークＷに液状体で所望のパターンを描画（記録）することができる。つまり、液滴吐出装置１は、ワークＷに描画（記録）処理を施す処理装置の１つである。なお、図中のＹ方向はワークＷの移動方向を示し、Ｘ方向は平面視でＹ方向とは直交する方向を示している。また、Ｘ方向及びＹ方向によって規定されるＸＹ平面と直交する方向は、Ｚ方向として規定される。
キャリッジ７には、ヘッドユニット１８が設けられている。
液滴吐出装置１では、ヘッドユニット１８と基板などのワークＷとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット１８から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークＷに液状体で所望のパターンを描画（記録）することができる。つまり、液滴吐出装置１は、ワークＷに描画（記録）処理を施す処理装置の１つである。なお、図中のＹ方向はワークＷの移動方向を示し、Ｘ方向は平面視でＹ方向とは直交する方向を示している。また、Ｘ方向及びＹ方向によって規定されるＸＹ平面と直交する方向は、Ｚ方向として規定される。
このような液滴吐出装置１は、種々のワークＷへの描画（記録）処理に適用され得る。
液滴吐出装置１は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の３色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置１は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各着色層に対応する各液体を、ワークＷに液滴として吐出させることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機ＥＬ装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層（有機層）を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークＷに液滴として吐出されることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
液滴吐出装置１は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の３色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置１は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各着色層に対応する各液体を、ワークＷに液滴として吐出させることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機ＥＬ装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層（有機層）を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークＷに液滴として吐出されることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
ここで、液滴吐出装置１の各構成について、詳細を説明する。
ワーク搬送装置３は、図１に示すように、ベース部２１と、ガイドレール２３と、ガイドレール２４と、ワークテーブル２５と、ワークテーブル２７と、を有している。
ベース部２１は、例えば石などの経時変化の小さい材料で構成されており、Ｙ方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、例えば石などの経時変化の小さい材料で構成されており、ベース部２１の上面２２上に配設されている。ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、Ｙ方向に沿って延在している。ガイドレール２３とガイドレール２４とは、互いにＸ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
ワーク搬送装置３は、図１に示すように、ベース部２１と、ガイドレール２３と、ガイドレール２４と、ワークテーブル２５と、ワークテーブル２７と、を有している。
ベース部２１は、例えば石などの経時変化の小さい材料で構成されており、Ｙ方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、例えば石などの経時変化の小さい材料で構成されており、ベース部２１の上面２２上に配設されている。ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、Ｙ方向に沿って延在している。ガイドレール２３とガイドレール２４とは、互いにＸ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４を挟んでベース部２１の上面２２に対向した状態で設けられている。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ベース部２１から浮いた状態でガイドレール２３及びガイドレール２４上に載置されている。つまり、ガイドレール２３及びガイドレール２４上には、ワークテーブル２５とワークテーブル２７とが並存している。ワークテーブル２５とワークテーブル２７とは、Ｙ方向において、互いに対峙している。
ワークテーブル２５は、ワークＷが載置される面である載置面２５ａを有している。ワークテーブル２７は、ワークＷが載置される面である載置面２７ａを有している。以下において、ワークテーブル２５に載置されているワークＷと、ワークテーブル２７に載置されているワークＷとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル２５に載置されているワークＷがワークＷ１と表記され、ワークテーブル２７に載置されているワークＷがワークＷ２と表記される。
載置面２５ａ及び載置面２７ａは、それぞれ、ベース部２１側とは反対側（上側）に向けられている。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４によってＹ方向に沿って案内され、ベース部２１上をＹ方向に沿って往復移動可能に構成されている。
載置面２５ａ及び載置面２７ａは、それぞれ、ベース部２１側とは反対側（上側）に向けられている。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４によってＹ方向に沿って案内され、ベース部２１上をＹ方向に沿って往復移動可能に構成されている。
ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）Ｙ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれをＹ方向に沿って移動させるための動力源として、ワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介してワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに伝達される。これにより、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４に沿って、すなわちＹ方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５の載置面２５ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２７の載置面２７ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介してワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに伝達される。これにより、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４に沿って、すなわちＹ方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５の載置面２５ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２７の載置面２７ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。
ヘッドユニット１８は、キャリッジ７を図１中のＡ視方向に見たときの正面図である図２に示すように、ヘッドプレート３１と、吐出ヘッド３３と、を有している。
吐出ヘッド３３は、底面図である図３に示すように、ノズル面３５を有している。ノズル面３５には、複数のノズル３７が形成されている。なお、図３では、ノズル３７をわかりやすく示すため、ノズル３７が誇張され、且つノズル３７の個数が減じられている。
吐出ヘッド３３において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って配列するノズル列３９を構成している。ノズル列３９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って所定のノズル間隔Ｐで形成されている。
吐出ヘッド３３は、底面図である図３に示すように、ノズル面３５を有している。ノズル面３５には、複数のノズル３７が形成されている。なお、図３では、ノズル３７をわかりやすく示すため、ノズル３７が誇張され、且つノズル３７の個数が減じられている。
吐出ヘッド３３において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って配列するノズル列３９を構成している。ノズル列３９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って所定のノズル間隔Ｐで形成されている。
吐出ヘッド３３は、図２中のＢ−Ｂ線における断面図である図４に示すように、ノズルプレート４６と、キャビティープレート４７と、振動板４８と、複数の駆動素子４９と、を有している。本実施形態では駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されている。
ノズルプレート４６は、ノズル面３５を有している。複数のノズル３７は、ノズルプレート４６に設けられている。
キャビティープレート４７は、ノズルプレート４６のノズル面３５とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート４７には、複数のキャビティー５１が形成されている。各キャビティー５１は、各ノズル３７に対応して設けられており、対応する各ノズル３７に連通している。各キャビティー５１には、図示しないタンクから機能液５３が供給される。
ノズルプレート４６は、ノズル面３５を有している。複数のノズル３７は、ノズルプレート４６に設けられている。
キャビティープレート４７は、ノズルプレート４６のノズル面３５とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート４７には、複数のキャビティー５１が形成されている。各キャビティー５１は、各ノズル３７に対応して設けられており、対応する各ノズル３７に連通している。各キャビティー５１には、図示しないタンクから機能液５３が供給される。
振動板４８は、キャビティープレート４７のノズルプレート４６側とは反対側の面に設けられている。振動板４８は、Ｚ方向に振動（縦振動）することによって、キャビティー５１内の容積を拡大したり、縮小したりする。
複数の駆動素子４９は、それぞれ、振動板４８のキャビティープレート４７側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子４９は、各キャビティー５１に対応して設けられており、振動板４８を挟んで各キャビティー５１に対向している。各駆動素子４９は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板４８がキャビティー５１内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー５１内の機能液５３に圧力が付与される。その結果、ノズル３７から、機能液５３が液滴５５として吐出される。吐出ヘッド３３による液滴５５の吐出法は、インクジェット法の１つである。インクジェット法は、塗布法の１つである。
複数の駆動素子４９は、それぞれ、振動板４８のキャビティープレート４７側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子４９は、各キャビティー５１に対応して設けられており、振動板４８を挟んで各キャビティー５１に対向している。各駆動素子４９は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板４８がキャビティー５１内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー５１内の機能液５３に圧力が付与される。その結果、ノズル３７から、機能液５３が液滴５５として吐出される。吐出ヘッド３３による液滴５５の吐出法は、インクジェット法の１つである。インクジェット法は、塗布法の１つである。
上記の構成を有する吐出ヘッド３３は、図２に示すように、ノズル面３５がヘッドプレート３１から突出した状態で、ヘッドプレート３１に支持されている。
キャリッジ７は、図２に示すように、ヘッドユニット１８を支持している。ここで、ヘッドユニット１８は、ノズル面３５がＺ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ７に支持されている。
上記により、ワークＷには、吐出ヘッド３３から機能液５３が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液５３に圧力を付与するための駆動素子４９は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子４９としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液に圧力を付与する構成も採用され得る。
キャリッジ７は、図２に示すように、ヘッドユニット１８を支持している。ここで、ヘッドユニット１８は、ノズル面３５がＺ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ７に支持されている。
上記により、ワークＷには、吐出ヘッド３３から機能液５３が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液５３に圧力を付与するための駆動素子４９は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子４９としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液に圧力を付与する構成も採用され得る。
キャリッジ搬送装置１１は、図１に示すように、架台６１と、ガイドレール６３と、を有している。
架台６１は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台６１は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台６１は、一対の支柱６７によって支持されている。一対の支柱６７は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱６７のそれぞれを識別する場合に、支柱６７ａ及び支柱６７ｂという表記が用いられる。支柱６７ａ及び支柱６７ｂは、それぞれ、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、架台６１とワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
架台６１は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台６１は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台６１は、一対の支柱６７によって支持されている。一対の支柱６７は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱６７のそれぞれを識別する場合に、支柱６７ａ及び支柱６７ｂという表記が用いられる。支柱６７ａ及び支柱６７ｂは、それぞれ、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、架台６１とワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
ガイドレール６３は、架台６１のベース部２１側に設けられている。ガイドレール６３は、Ｘ方向に沿って延在しており、架台６１のＸ方向における幅にわたって設けられている。
前述したキャリッジ７は、ガイドレール６３に支持されている。キャリッジ７がガイドレール６３に支持された状態において、吐出ヘッド３３のノズル面３５は、Ｚ方向においてワークテーブル２５及びワークテーブル２７側に向いている。キャリッジ７は、ガイドレール６３によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール６３に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ７がワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面３５と載置面２５ａ及び載置面２７ａのそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
前述したキャリッジ７は、ガイドレール６３に支持されている。キャリッジ７がガイドレール６３に支持された状態において、吐出ヘッド３３のノズル面３５は、Ｚ方向においてワークテーブル２５及びワークテーブル２７側に向いている。キャリッジ７は、ガイドレール６３によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール６３に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ７がワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面３５と載置面２５ａ及び載置面２７ａのそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
キャリッジ７は、図示しない移動機構及び動力源によって、Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ７をＸ方向に沿って移動させるための動力源として、図示しないキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ７に伝達される。これにより、キャリッジ７は、ガイドレール６３に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置１１は、キャリッジ７に支持されたヘッドユニット１８を、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ７に伝達される。これにより、キャリッジ７は、ガイドレール６３に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置１１は、キャリッジ７に支持されたヘッドユニット１８を、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
ワーク搬送装置３について、詳細を説明する。
本実施形態では、ワーク搬送装置３は、図５に示すように、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と、処理領域７３と、第２待機領域７５と、に区分される。
ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、継ぎ目７７及び継ぎ目７９を介して分割可能に構成されている。第１待機領域７１と処理領域７３とは、継ぎ目７７を境に区分される。また、処理領域７３と第２待機領域７５とは、継ぎ目７９を境に区分される。
ベース部２１は、第１ベース部２１ａと、第２ベース部２１ｂと、第３ベース部２１ｃと、に分割可能に構成されている。
本実施形態では、ワーク搬送装置３は、図５に示すように、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と、処理領域７３と、第２待機領域７５と、に区分される。
ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、継ぎ目７７及び継ぎ目７９を介して分割可能に構成されている。第１待機領域７１と処理領域７３とは、継ぎ目７７を境に区分される。また、処理領域７３と第２待機領域７５とは、継ぎ目７９を境に区分される。
ベース部２１は、第１ベース部２１ａと、第２ベース部２１ｂと、第３ベース部２１ｃと、に分割可能に構成されている。
第１ベース部２１ａと第２ベース部２１ｂとは、継ぎ目７７を境に互いに分割され得る。また、第２ベース部２１ｂと第３ベース部２１ｃとは、継ぎ目７９を境に互いに分割され得る。つまり、第１ベース部２１ａと第２ベース部２１ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。また、第２ベース部２１ｂと第３ベース部２１ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
本実施形態では、第２ベース部２１ｂが、第１ベース部２１ａと第３ベース部２１ｃとによってＹ方向に挟持されている。なお、第１ベース部２１ａが第１待機領域７１に対応し、第２ベース部２１ｂが処理領域７３に対応し、第３ベース部２１ｃが第２待機領域７５に対応している。
ここで、キャリッジ搬送装置１１の架台６１は、図１に示すように、第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。つまり、吐出ヘッド３３は、処理領域７３において、ワークテーブル２５の載置面２５ａや、ワークテーブル２７の載置面２７ａに対向し得る。
本実施形態では、第２ベース部２１ｂが、第１ベース部２１ａと第３ベース部２１ｃとによってＹ方向に挟持されている。なお、第１ベース部２１ａが第１待機領域７１に対応し、第２ベース部２１ｂが処理領域７３に対応し、第３ベース部２１ｃが第２待機領域７５に対応している。
ここで、キャリッジ搬送装置１１の架台６１は、図１に示すように、第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。つまり、吐出ヘッド３３は、処理領域７３において、ワークテーブル２５の載置面２５ａや、ワークテーブル２７の載置面２７ａに対向し得る。
ガイドレール２３は、図５に示すように、第１ガイドレール２３ａと、第２ガイドレール２３ｂと、第３ガイドレール２３ｃと、に分割可能に構成されている。ガイドレール２４も、第１ガイドレール２４ａと、第２ガイドレール２４ｂと、第３ガイドレール２４ｃと、に分割可能に構成されている。
本実施形態では、第１ガイドレール２３ａ及び第１ガイドレール２４ａが、第１待機領域７１に対応している。第２ガイドレール２３ｂ及び第２ガイドレール２４ｂが、処理領域７３に対応し、第３ガイドレール２３ｃ及び第３ガイドレール２４ｃが、第２待機領域７５に対応している。
第１ガイドレール２３ａと第２ガイドレール２３ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２３ｂと第３ガイドレール２３ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
また、第１ガイドレール２４ａと第２ガイドレール２４ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２４ｂと第３ガイドレール２４ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
本実施形態では、第１ガイドレール２３ａ及び第１ガイドレール２４ａが、第１待機領域７１に対応している。第２ガイドレール２３ｂ及び第２ガイドレール２４ｂが、処理領域７３に対応し、第３ガイドレール２３ｃ及び第３ガイドレール２４ｃが、第２待機領域７５に対応している。
第１ガイドレール２３ａと第２ガイドレール２３ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２３ｂと第３ガイドレール２３ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
また、第１ガイドレール２４ａと第２ガイドレール２４ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２４ｂと第３ガイドレール２４ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
本実施形態では、第１ベース部２１ａ並びに第１ガイドレール２３ａ及び第１ガイドレール２４ａが、第１ガイド部８１を構成する。第２ベース部２１ｂ並びに第２ガイドレール２３ｂ及び第２ガイドレール２４ｂが、第２ガイド部８２を構成する。また、第３ベース部２１ｃ並びに第３ガイドレール２３ｃ及び第３ガイドレール２４ｃが、第３ガイド部８３を構成する。なお、第１ガイド部８１が第１待機領域７１に対応し、第２ガイド部８２が処理領域７３に対応し、第３ガイド部８３が第２待機領域７５に対応している。
本実施形態では、ワークテーブル２５は、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５の可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル２７は、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２７の可動領域として設定されている。
本実施形態では、ワークテーブル２５は、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５の可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル２７は、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２７の可動領域として設定されている。
第１待機領域７１では、ワークテーブル２５に対するワークＷ１の給除材が行われる。ワークテーブル２５は、第１待機領域７１でワークＷ１の給材（供給）を受けてから、ワークＷ１を処理領域７３に搬送する。
処理領域７３では、ワークテーブル２５に載置されたワークＷ１に対して描画処理が施される。液滴吐出装置１では、描画処理によって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
液滴吐出装置１では、吐出ヘッド３３をワークＷに対向させた状態で、吐出ヘッド３３とワークＷとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド３３から液滴５５を吐出させることによって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
描画処理が施されたワークＷ１は、ワークテーブル２５によって、処理領域７３から第１待機領域７１に搬送される。
ワークテーブル２５によって第１待機領域７１に搬送されたワークＷ１は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５から除材される。そして、ワークテーブル２５には、新たなワークＷ１が給材される。
処理領域７３では、ワークテーブル２５に載置されたワークＷ１に対して描画処理が施される。液滴吐出装置１では、描画処理によって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
液滴吐出装置１では、吐出ヘッド３３をワークＷに対向させた状態で、吐出ヘッド３３とワークＷとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド３３から液滴５５を吐出させることによって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
描画処理が施されたワークＷ１は、ワークテーブル２５によって、処理領域７３から第１待機領域７１に搬送される。
ワークテーブル２５によって第１待機領域７１に搬送されたワークＷ１は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５から除材される。そして、ワークテーブル２５には、新たなワークＷ１が給材される。
他方で、第２待機領域７５では、ワークテーブル２７に対するワークＷ２の給除材が行われる。ワークテーブル２７は、第２待機領域７５でワークＷ２の給材（供給）を受けてから、ワークＷ２を処理領域７３に搬送する。
処理領域７３では、ワークテーブル２７に載置されたワークＷ２に対して描画処理が施される。
描画処理が施されたワークＷ２は、ワークテーブル２７によって、処理領域７３から第２待機領域７５に搬送される。
ワークテーブル２７によって第２待機領域７５に搬送されたワークＷ２は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２７から除材される。そして、ワークテーブル２７には、新たなワークＷ２が給材される。
処理領域７３では、ワークテーブル２７に載置されたワークＷ２に対して描画処理が施される。
描画処理が施されたワークＷ２は、ワークテーブル２７によって、処理領域７３から第２待機領域７５に搬送される。
ワークテーブル２７によって第２待機領域７５に搬送されたワークＷ２は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２７から除材される。そして、ワークテーブル２７には、新たなワークＷ２が給材される。
なお、本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のいずれか一方に載置されたワークＷに処理領域７３で描画処理が施されている間に、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７の他方に対するワークＷの給除材が実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。
また、本実施形態では、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４が、それぞれ、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と処理領域７３と第２待機領域７５との領域ごとに複数の構成体に分割可能な分割構造が採用されている。このため、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４として、それぞれ、一体構造が採用されている場合に比較して、ワーク搬送装置３を輸送しやすくすることができる。
また、本実施形態では、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４が、それぞれ、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と処理領域７３と第２待機領域７５との領域ごとに複数の構成体に分割可能な分割構造が採用されている。このため、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４として、それぞれ、一体構造が採用されている場合に比較して、ワーク搬送装置３を輸送しやすくすることができる。
他方で、本実施形態では、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４として、それぞれ、分割構造が採用されているので、一体構造に比較して、構成体同士間の精度が変化しやすいと考えられる。構成体同士間の精度が変化すると、ワークＷに対する処理精度が低下することが考えられる。
このようなことに対処するために、本実施形態では、ワーク搬送装置３に監視装置８７及び監視装置８９が設けられている。
監視装置８７は、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度の変化を監視する。
監視装置８９は、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の精度の変化を監視する。
このようなことに対処するために、本実施形態では、ワーク搬送装置３に監視装置８７及び監視装置８９が設けられている。
監視装置８７は、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度の変化を監視する。
監視装置８９は、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の精度の変化を監視する。
監視装置８７及び監視装置８９は、それぞれ、第１監視装置９１と、第２監視装置９３とを有している。監視装置８７の第１監視装置９１と、監視装置８９の第１監視装置９１とは、互いに同様の構成を有している。また、監視装置８７の第２監視装置９３と、監視装置８９の第２監視装置９３とも、互いに同様の構成を有している。以下において、監視装置８７の第１監視装置９１と、監視装置８９の第１監視装置９１とを識別する場合には、監視装置８７の第１監視装置９１が第１監視装置９１ａと表記され、監視装置８９の第１監視装置９１が第１監視装置９１ｂと表記される。また、監視装置８７の第２監視装置９３と、監視装置８９の第２監視装置９３とを識別する場合には、監視装置８７の第２監視装置９３が第２監視装置９３ａと表記され、監視装置８９の第２監視装置９３が第２監視装置９３ｂと表記される。
第１監視装置９１は、監視装置８７を図５中のＤ視方向に見たときの側面図である図６に示すように、変位部９５と、検出部９６と、を有している。
変位部９５は、変位板９７と、固定具９８と、を有している。変位板９７は、固定具９８を介して第１ベース部２１ａに固定されている。変位板９７は、被検出面９７ａを有している。変位部９５では、被検出面９７ａがＺ方向上方に向けられている。
検出部９６は、センサー１０１と、固定具１０２と、を有している。センサー１０１は、固定具１０２を介して第２ベース部２１ｂに固定されている。センサー１０１は、Ｚ方向下方に向けられている。なお、センサー１０１としては、例えば、レーザー変位計などの光学式センサーが採用され得る。
変位部９５は、変位板９７と、固定具９８と、を有している。変位板９７は、固定具９８を介して第１ベース部２１ａに固定されている。変位板９７は、被検出面９７ａを有している。変位部９５では、被検出面９７ａがＺ方向上方に向けられている。
検出部９６は、センサー１０１と、固定具１０２と、を有している。センサー１０１は、固定具１０２を介して第２ベース部２１ｂに固定されている。センサー１０１は、Ｚ方向下方に向けられている。なお、センサー１０１としては、例えば、レーザー変位計などの光学式センサーが採用され得る。
変位部９５と検出部９６とは、継ぎ目７７越しに、互いに対向して設けられている。第１監視装置９１では、センサー１０１と変位板９７の被検出面９７ａとが互いに対向している。なお、変位部９５と第２ガイド部８２とは、互いに干渉していない。また、検出部９６と第１ガイド部８１とも、互いに干渉していない。
上記の構成により、センサー１０１は、被検出面９７ａのＺ方向における変位を検出することができる。これにより、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間のＺ方向におけるずれ（段差）を検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間のＺ方向における精度の変化を監視することができる。
上記の構成により、センサー１０１は、被検出面９７ａのＺ方向における変位を検出することができる。これにより、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間のＺ方向におけるずれ（段差）を検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間のＺ方向における精度の変化を監視することができる。
第２監視装置９３は、変位部１０３と、検出部１０４と、を有している。
変位部１０３は、第１ベース部２１ａの上面２２に設けられている。変位部１０３は、架台１０５と、ころ１０６と、変位板１０７と、を有している。架台１０５は、ころ１０６を介して第１ベース部２１ａの上面２２に設けられている。ころ１０６は、上面２２に設けられたころ１０６ａと、架台１０５を挟んでころ１０６ａに対峙するころ１０６ｂと、を有している。ころ１０６は、架台１０５を回動可能に支持している。架台１０５は、ころ１０６ａを中心に回動可能に構成されている。なお、架台１０５と上面２２との間には隙間が設けられている。
変位板１０７は、架台１０５上に設けられており、被検出面１０７ａを有している。変位部１０３では、被検出面１０７ａがＹ方向において第２ガイド部８２側に向けられている。
変位部１０３は、第１ベース部２１ａの上面２２に設けられている。変位部１０３は、架台１０５と、ころ１０６と、変位板１０７と、を有している。架台１０５は、ころ１０６を介して第１ベース部２１ａの上面２２に設けられている。ころ１０６は、上面２２に設けられたころ１０６ａと、架台１０５を挟んでころ１０６ａに対峙するころ１０６ｂと、を有している。ころ１０６は、架台１０５を回動可能に支持している。架台１０５は、ころ１０６ａを中心に回動可能に構成されている。なお、架台１０５と上面２２との間には隙間が設けられている。
変位板１０７は、架台１０５上に設けられており、被検出面１０７ａを有している。変位部１０３では、被検出面１０７ａがＹ方向において第２ガイド部８２側に向けられている。
検出部１０４は、第２ベース部２１ｂの上面２２に設けられている。検出部１０４は、ころ１０６と、架台１０８と、センサー１０９と、を有している。検出部１０４のころ１０６は、変位部１０３のころ１０６と同様であるので説明を省略する。
検出部１０４のころ１０６は、架台１０８を回動可能に支持している。架台１０８は、ころ１０６ａを中心に回動可能に構成されている。なお、架台１０８と上面２２との間には隙間が設けられている。
センサー１０９は、架台１０８上に設けられており、第１ガイド部８１側に向けられている。センサー１０９としては、例えば、レーザー変位計などの光学式センサーが採用され得る。
変位部１０３と検出部１０４とは、継ぎ目７７を挟んで、Ｙ方向に互いに対向して設けられている。第２監視装置９３では、センサー１０９と変位板１０７の被検出面１０７ａとが互いに対向している。
上記の構成により、センサー１０９は、被検出面１０７ａの傾きを検出することができる。これにより、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の傾きによるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の傾きに対する精度の変化を監視することができる。
検出部１０４のころ１０６は、架台１０８を回動可能に支持している。架台１０８は、ころ１０６ａを中心に回動可能に構成されている。なお、架台１０８と上面２２との間には隙間が設けられている。
センサー１０９は、架台１０８上に設けられており、第１ガイド部８１側に向けられている。センサー１０９としては、例えば、レーザー変位計などの光学式センサーが採用され得る。
変位部１０３と検出部１０４とは、継ぎ目７７を挟んで、Ｙ方向に互いに対向して設けられている。第２監視装置９３では、センサー１０９と変位板１０７の被検出面１０７ａとが互いに対向している。
上記の構成により、センサー１０９は、被検出面１０７ａの傾きを検出することができる。これにより、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の傾きによるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の傾きに対する精度の変化を監視することができる。
また、第２監視装置９３の変位部１０３と検出部１０４とは、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２の延在方向であるＹ方向で対向するように設けられているので、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の傾きを高精度で検出することができる。そして、前述の第１監視装置９１によるＺ方向の段差検出と組み合わせることで、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２の経時的な相対変位を、最少の構成でかつ高精度で検出することが可能となっているのである。
監視装置８９における第１監視装置９１ｂは、図７に示すように、監視装置８７における第１監視装置９１ａ（図６）と同様の構成を有している。また、監視装置８９における第２監視装置９３ｂは、監視装置８７における第２監視装置９３ａと同様の構成を有している。このため、以下においては、第１監視装置９１ｂ及び第２監視装置９３ｂの構成に関する詳細な説明を省略する。
図７に示すように、第１監視装置９１ｂでは、変位板９７は、固定具９８を介して第３ベース部２１ｃに固定されている。
そして、変位部９５と検出部９６とは、継ぎ目７９越しに、互いに対向して設けられている。第１監視装置９１ｂにおいても、センサー１０１と変位板９７の被検出面９７ａとが互いに対向している。
上記の構成により、センサー１０１は、被検出面９７ａのＺ方向における変位を検出することができる。これにより、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間のＺ方向におけるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間のＺ方向における精度の変化を監視することができる。
図７に示すように、第１監視装置９１ｂでは、変位板９７は、固定具９８を介して第３ベース部２１ｃに固定されている。
そして、変位部９５と検出部９６とは、継ぎ目７９越しに、互いに対向して設けられている。第１監視装置９１ｂにおいても、センサー１０１と変位板９７の被検出面９７ａとが互いに対向している。
上記の構成により、センサー１０１は、被検出面９７ａのＺ方向における変位を検出することができる。これにより、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間のＺ方向におけるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間のＺ方向における精度の変化を監視することができる。
第２監視装置９３ｂでは、変位部１０３は、第３ベース部２１ｃの上面２２に設けられている。第２監視装置９３ｂにおいても、変位板１０７の被検出面１０７ａがＹ方向において第２ガイド部８２側に向けられている。
第２監視装置９３ｂでは、検出部１０４のセンサー１０９が、第３ガイド部８３側に向けられている。
そして、第２監視装置９３ｂの変位部１０３と検出部１０４とは、継ぎ目７９を挟んで、Ｙ方向に互いに対向して設けられている。第２監視装置９３ｂにおいても、センサー１０９と変位板１０７の被検出面１０７ａとが互いに対向している。
上記の構成により、センサー１０９は、被検出面１０７ａの傾きを検出することができる。これにより、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の傾きによるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の傾きに対する精度の変化を監視することができる。
第２監視装置９３ｂでは、検出部１０４のセンサー１０９が、第３ガイド部８３側に向けられている。
そして、第２監視装置９３ｂの変位部１０３と検出部１０４とは、継ぎ目７９を挟んで、Ｙ方向に互いに対向して設けられている。第２監視装置９３ｂにおいても、センサー１０９と変位板１０７の被検出面１０７ａとが互いに対向している。
上記の構成により、センサー１０９は、被検出面１０７ａの傾きを検出することができる。これにより、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の傾きによるずれを検出することができる。本実施形態では、この検出結果に基づいて、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の傾きに対する精度の変化を監視することができる。
また、第２監視装置９３ｂの変位部１０３と検出部１０４とは、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２の延在方向であるＹ方向で対向するように設けられているので、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の傾きを高精度で検出することができる。そして、前述の第１監視装置９１ｂによるＺ方向の段差検出と組み合わせることで、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２の経時的な相対変位を、最少の構成でかつ高精度で検出することが可能となっているのである。
本実施形態において、液滴吐出装置１が処理装置に対応し、ワーク搬送装置３がステージ装置に対応し、吐出ヘッド３３が処理部に対応している。また、ワークテーブル２５がテーブルに対応し、ワークテーブル２７が第２テーブルに対応し、センサー１０１が第１センサーに対応し、センサー１０９が第２センサーに対応している。
本実施形態では、ワーク搬送装置３のベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４に分割構造が採用されている。そして、このワーク搬送装置３には、監視装置８７及び監視装置８９が設けられている。監視装置８７によって、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視することができる。また、監視装置８９によって、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の精度を監視することができる。
これにより、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度が許容範囲を超えて変化したり、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の精度が許容範囲を超えて変化したりすることを監視することができる。これにより、ワークＷに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークＷに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
本実施形態では、ワーク搬送装置３のベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４に分割構造が採用されている。そして、このワーク搬送装置３には、監視装置８７及び監視装置８９が設けられている。監視装置８７によって、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視することができる。また、監視装置８９によって、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の精度を監視することができる。
これにより、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度が許容範囲を超えて変化したり、第３ガイド部８３と第２ガイド部８２との間の精度が許容範囲を超えて変化したりすることを監視することができる。これにより、ワークＷに対する処理精度の劣化が発生する前に、このような変化を把握することができる。この結果、ワークＷに対する処理精度を維持しやすくすることができる。
また、本実施形態では、第２監視装置９３（図６）において、架台１０５や架台１０８を含む構成が採用されている。これにより、ベース部２１の変形を検出しやすくすることができる。
例えば、第２監視装置９３から架台１０５や架台１０８を省略した構成では、図８（ａ）に示すように、変位板１０７とセンサー１０９との間で発生する小刻みなうねりを検出することができない場合がある。これは、変位板１０７とセンサー１０９との間でベース部２１が変形していても、センサー１０９と被検出面１０７ａとが互いに対向し得るためである。
これに対し、本実施形態では、図８（ｂ）に示すように、架台１０５や架台１０８によって、変位板１０７とセンサー１０９との間のベース部２１の変形が、変位板１０７やセンサー１０９の姿勢に反映されやすい。これにより、変位板１０７とセンサー１０９との間のベース部２１の変形を検出しやすくすることができる。この結果、ワークＷに対する処理精度を一層維持しやすくすることができる。
例えば、第２監視装置９３から架台１０５や架台１０８を省略した構成では、図８（ａ）に示すように、変位板１０７とセンサー１０９との間で発生する小刻みなうねりを検出することができない場合がある。これは、変位板１０７とセンサー１０９との間でベース部２１が変形していても、センサー１０９と被検出面１０７ａとが互いに対向し得るためである。
これに対し、本実施形態では、図８（ｂ）に示すように、架台１０５や架台１０８によって、変位板１０７とセンサー１０９との間のベース部２１の変形が、変位板１０７やセンサー１０９の姿勢に反映されやすい。これにより、変位板１０７とセンサー１０９との間のベース部２１の変形を検出しやすくすることができる。この結果、ワークＷに対する処理精度を一層維持しやすくすることができる。
なお、本実施形態では、第１監視装置９１ａ（図６）において、変位部９５が第１ガイド部８１に設けられ、検出部９６が第２ガイド部８２に設けられている。しかしながら、第１監視装置９１ａの構成は、これに限定されない。第１監視装置９１ａの構成としては、変位部９５が第２ガイド部８２に設けられ、検出部９６が第１ガイド部８１に設けられた構成も採用され得る。
また、本実施形態では、第２監視装置９３ａ（図６）において、変位部１０３が第１ガイド部８１に設けられ、検出部１０４が第２ガイド部８２に設けられている。しかしながら、第２監視装置９３ａの構成は、これに限定されない。第２監視装置９３ａの構成としては、変位部１０３が第２ガイド部８２に設けられ、検出部１０４が第１ガイド部８１に設けられた構成も採用され得る。
また、本実施形態では、第２監視装置９３ａ（図６）において、変位部１０３が第１ガイド部８１に設けられ、検出部１０４が第２ガイド部８２に設けられている。しかしながら、第２監視装置９３ａの構成は、これに限定されない。第２監視装置９３ａの構成としては、変位部１０３が第２ガイド部８２に設けられ、検出部１０４が第１ガイド部８１に設けられた構成も採用され得る。
また、本実施形態では、第１監視装置９１ｂ（図７）において、変位部９５が第３ガイド部８３に設けられ、検出部９６が第２ガイド部８２に設けられている。しかしながら、第１監視装置９１ｂの構成は、これに限定されない。第１監視装置９１ｂの構成としては、変位部９５が第２ガイド部８２に設けられ、検出部９６が第３ガイド部８３に設けられた構成も採用され得る。
また、本実施形態では、第２監視装置９３ｂ（図７）において、変位部１０３が第３ガイド部８３に設けられ、検出部１０４が第２ガイド部８２に設けられている。しかしながら、第２監視装置９３ｂの構成は、これに限定されない。第２監視装置９３ｂの構成としては、変位部１０３が第２ガイド部８２に設けられ、検出部１０４が第３ガイド部８３に設けられた構成も採用され得る。
また、本実施形態では、第２監視装置９３ｂ（図７）において、変位部１０３が第３ガイド部８３に設けられ、検出部１０４が第２ガイド部８２に設けられている。しかしながら、第２監視装置９３ｂの構成は、これに限定されない。第２監視装置９３ｂの構成としては、変位部１０３が第２ガイド部８２に設けられ、検出部１０４が第３ガイド部８３に設けられた構成も採用され得る。
１…液滴吐出装置、３…ワーク搬送装置、７…キャリッジ、１１…キャリッジ搬送装置、１８…ヘッドユニット、２１…ベース部、２１ａ…第１ベース部、２１ｂ…第２ベース部、２１ｃ…第３ベース部、２３…ガイドレール、２３ａ…第１ガイドレール、２３ｂ…第２ガイドレール、２３ｃ…第３ガイドレール、２４…ガイドレール、２４ａ…第１ガイドレール、２４ｂ…第２ガイドレール、２４ｃ…第３ガイドレール、２５…ワークテーブル、２７…ワークテーブル、３３…吐出ヘッド、５３…機能液、５５…液滴、７１…第１待機領域、７３…処理領域、７５…第２待機領域、７７，７９…継ぎ目、８１…第１ガイド部、８２…第２ガイド部、８３…第３ガイド部、８７，８９…監視装置、９１，９１ａ，９１ｂ…第１監視装置、９３，９３ａ，９３ｂ…第２監視装置、９５…変位部、９６…検出部、９７…変位板、９７ａ…被検出面、９８…固定具、１０１…センサー、１０２…固定具、１０３…変位部、１０４…検出部、１０５…架台、１０６…ころ、１０７…変位板、１０７ａ…被検出面、１０８…架台、１０９…センサー、Ｗ，Ｗ１，Ｗ２…ワーク。
Claims (6)
- ワークを支持するテーブルと、
前記テーブルの移動を案内する第１ガイド部と、
前記第１ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第２ガイド部と、
つなぎ合わされた前記第１ガイド部と前記第２ガイド部との間の精度を監視する監視装置と、を有する、
ことを特徴とするステージ装置。 - 前記監視装置は、前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出した結果に基づいて、前記第１ガイド部と前記第２ガイド部との間の精度を監視する、
ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。 - 前記監視装置は、前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的なずれを検出する検出装置を有する、
ことを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。 - 前記検出装置は、
前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的な段差を検出する第１センサーと、
前記第１ガイド部及び前記第２ガイド部の一方に対する他方の相対的な傾きを検出する第２センサーと、を有する、
ことを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。 - 請求項１乃至４のいずれか一項に記載のステージ装置と、
前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、
ことを特徴とする処理装置。 - 前記処理部は、前記第１ガイド部よりも前記第２ガイド部側に設けられており、
前記ステージ装置は、
ワークを支持する第２テーブルと、
前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側で前記第２ガイド部につなぎ合わされており、前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側から前記第２ガイド部に前記第２テーブルを案内する第３ガイド部と、
つなぎ合わされた前記第２ガイド部と前記第３ガイド部との間の精度を監視する第２監視装置と、を有する、
ことを特徴とする請求項５に記載の処理装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2011123480A JP2012251822A (ja) | 2011-06-01 | 2011-06-01 | ステージ装置及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2011123480A JP2012251822A (ja) | 2011-06-01 | 2011-06-01 | ステージ装置及び処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012251822A true JP2012251822A (ja) | 2012-12-20 |
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ID=47524771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011123480A Withdrawn JP2012251822A (ja) | 2011-06-01 | 2011-06-01 | ステージ装置及び処理装置 |
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2011
- 2011-06-01 JP JP2011123480A patent/JP2012251822A/ja not_active Withdrawn
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