JP2010506932A5 - - Google Patents
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Claims (22)
- 約８．０、１２．４および１６．８±０．２度に２シータのピークを有する粉末Ｘ線回折パターンにより特徴付けられる、結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 約１１．３、１３．８、１５．４、２０．３および２３．３±０．２度に２シータのピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられる、請求項１に記載の結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 約４．６、９．２、１８．１、１８．４、１９．５、２０．８、２２．５、２３．７、２４．１、２８．３および３０．６±０．２度に２シータのピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられる、請求項１に記載の結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 図３に実質的に示される粉末Ｘ線回折パターンにより特徴付けられる、請求項１に記載の結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 図４に実質的に示される粉末Ｘ線回折パターンにより特徴付けられる、請求項１に記載の結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 約７１０、１２４８、１７２３、２９７８および３４３０（ｃｍ-1）にバンドを有する赤外スペクトルによってさらに特徴付けられる、請求項１に記載の結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 図１０に実質的に示される赤外スペクトルによってさらに特徴付けられる、請求項１に記載の結晶性の無水Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール。
- 約８．８、１３．９および１７．７±０．２度に２シータのピークを有する粉末Ｘ線回折パターンにより特徴付けられる、結晶性のＮ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール３水和物。
- 約４．４、１１．０および２２．２±０．２度に２シータのピークを有する粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられる、請求項８に記載の結晶性のＮ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール３水和物。
- 図１４に実質的に示される粉末Ｘ線回折パターンによってさらに特徴付けられる、請求項８に記載の結晶性のＮ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール３水和物。
- 約７１０、１２６８、１７３７、２９８１および３３７４（ｃｍ-1）にバンドを有する赤外スペクトルによってさらに特徴付けられる、請求項８に記載の結晶性のＮ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール３水和物。
- 図１９に実質的に示される赤外スペクトルのパターンによってさらに特徴付けられる、請求項８に記載の結晶性のＮ−デベンゾイル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル タキソール３水和物。
- （ａ）ドセタキセルおよびハロ炭化水素を混合して溶液を形成し、そして
（ｂ）この溶液に逆溶媒を加えて結晶を沈殿させる
工程を含む、無水ドセタキセルの製造方法。 - 前記のハロ炭化水素がクロロ炭化水素である、請求項１３に記載の製造方法。
- 前記のクロロ炭化水素がジクロロメタンである、請求項１４に記載の製造方法。
- 前記の逆溶媒がＣ3〜Ｃ8の直鎖状および分枝鎖状のアルカン類からなる群から選択される、請求項１３に記載の製造方法。
- 前記の逆溶媒がｎ−ヘプタンである、請求項１３に記載の製造方法。
- ドセタキセル、ハロ炭化水素および逆溶媒の溶液の温度を約２５〜４０℃に維持する工程を含む、請求項１３に記載の製造方法。
- 前記の溶液を約０〜３０℃に冷却して結晶を沈殿させる工程をさらに含む、請求項１３に記載の製造方法。
- （ａ）ドセタキセルおよびアセトニトリルを混合し、
（ｂ）工程（ａ）の混合物を約３０〜４５℃に加熱し、
（ｃ）工程（ｂ）の加熱混合物に水を加え、
（ｄ）工程（ｃ）の混合物を約１０〜３０℃に冷却してスラリーを得、
（ｅ）工程（ｄ）のスラリーを濾過し、洗浄し、乾燥してドセタキセル３水和物を得ることを含む、ドセタキセル３水和物の製造方法。 - 請求項１に記載の結晶性の無水ドセタキセルの治療有効量、および少なくとも１つの医薬的に許容される賦形剤を含む組成物。
- 請求項２１に記載の組成物を、増殖性疾患を患っている哺乳動物に投与することを含む、前記哺乳動物の治療方法。
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