JP2010262943A - 有機ｅｌ発光装置 - Google Patents
有機ｅｌ発光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010262943A JP2010262943A JP2010190890A JP2010190890A JP2010262943A JP 2010262943 A JP2010262943 A JP 2010262943A JP 2010190890 A JP2010190890 A JP 2010190890A JP 2010190890 A JP2010190890 A JP 2010190890A JP 2010262943 A JP2010262943 A JP 2010262943A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pixel
- bank
- organic
- region
- auxiliary bank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 79
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 91
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 68
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 40
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 33
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 19
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 19
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 54
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 12
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 11
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 8
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- -1 polyphenylene vinylene Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical compound FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZVHYFUVMQIGGM-UHFFFAOYSA-N 2-Hexylthiophene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CS1 QZVHYFUVMQIGGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015202 MoCr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOKQVDJZIKGHDA-UHFFFAOYSA-N [Ru].[Au].[Ag] Chemical compound [Ru].[Au].[Ag] JOKQVDJZIKGHDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N chromium molybdenum Chemical compound [Cr].[Mo] VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
- H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
Abstract
【課題】異物が混入した場合であっても画素領域間の有機発光層の膜厚が均一であり、かつ開口率の高い有機ＥＬ発光装置を提供すること。
【解決手段】発色領域を有する基板と、発色領域を規定し、互いに対向するライン状の主バンクと、画素領域間に配置された画素分離領域と、画素領域毎に配置された画素電極と、を有するアクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置であって、画素分離領域には、補助バンクと、画素領域同士を連通する溝と、が配置され、第１画素領域と、第２画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ａとし、第２画素領域と、第３画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ｂとしたとき、画素分離領域Ａに配置された溝の第２画素領域側の端部を、第１画素領域側から第２画素領域側に、主バンクのライン方向に沿って投射すると、端部の投象は、画素分離領域Ｂの補助バンクに遮蔽される、有機ＥＬ発光装置。
【選択図】図４
【解決手段】発色領域を有する基板と、発色領域を規定し、互いに対向するライン状の主バンクと、画素領域間に配置された画素分離領域と、画素領域毎に配置された画素電極と、を有するアクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置であって、画素分離領域には、補助バンクと、画素領域同士を連通する溝と、が配置され、第１画素領域と、第２画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ａとし、第２画素領域と、第３画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ｂとしたとき、画素分離領域Ａに配置された溝の第２画素領域側の端部を、第１画素領域側から第２画素領域側に、主バンクのライン方向に沿って投射すると、端部の投象は、画素分離領域Ｂの補助バンクに遮蔽される、有機ＥＬ発光装置。
【選択図】図４
Description
本発明は有機ＥＬ発光装置に関する。
有機ＥＬ発光装置は、有機化合物の電界発光を利用した発光装置である。有機ＥＬ発光装置では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）色に発光する有機発光層を有する副画素（画素領域）が、基板上にマトリクス状に配置されている。
電界発光する有機発光層に含まれる有機化合物は、低分子有機化合物の組み合わせ（ホスト材料とドーパント材料）と、高分子有機化合物とに大別され得る。電界発光する高分子有機化合物の例には、ＰＰＶと称されるポリフェニレンビニレンやその誘導体などが含まれる。高分子有機化合物を利用した有機ＥＬ発光装置は、比較的低電圧で駆動でき、消費電力が少なく、ディスプレイパネルの大画面化に対応しやすいことから、現在、積極的にその研究が行なわれている。
高分子有機化合物を含む有機発光層は、例えば、有機発光材料および溶媒を含む材料液を、インクジェットなどで画素電極上に塗布することで形成される。したがって、有機ＥＬ発光装置の各副画素に有機発光材料を含むインクを塗布する場合、異なる色を発光する副画素にインクが浸入しないようにする必要がある。
異なる色を発光する副画素にインクが浸入することを防止するために、同一の色を発光する副画素が一列に配列された領域（以下「発色領域」とも称する）をライン状の隔壁（バンク）で規定し、発色領域内にインクを塗布する方法が知られている（例えば特許文献１参照）。
特許文献１に開示されたように、ライン状のバンクによって規定された発色領域内にインクを塗布する方法では、インクが発色領域内を自由に移動することができるので、発色領域内の副画素が有する有機発光層の膜厚がレベリングされ、副画素間で有機発光層の膜厚が均一になる。これにより、画素間で輝度のばらつきのない有機ＥＬ発光装置を提供することができる。
しかしながら特許文献１に開示された方法のように、発色領域内の副画素間を隔てる障壁がないと、発色領域内の副画素間でクロストークが生じ、有機ＥＬ発光装置のコントラストが低下するという問題があった。
このような問題を解決するため、発色領域内の副画素間に第２隔壁を配置する方法が知られている（例えば特許文献２参照）。図１は、特許文献２に開示された有機ＥＬ発光装置の平面図を示す。
図１に示されるように、特許文献２に開示された発光装置は、発色領域を規定する第１隔壁５と、発色領域内の副画素間３に配置された第２隔壁７とを有する。また、発色領域内において隣接する副画素３同士は、第１隔壁と第２隔壁との間に形成された溝８（第２隔壁の非形成領域）を介して繋がっている。
このように、発色領域内の副画素間に第２隔壁を配置することで、副画素間のクロストークを抑制し、発光装置のコントラストを上げることができる。また、隣接する副画素同士は、溝を介して繋がっていることから発色領域内に塗布された材料液は副画素間を移動することができるので、副画素間で有機発光層の膜厚がレベリングされる。このように、特許文献２に記載の発明によれば、クロストークの抑制と、有機発光層の膜厚のレベリングとを両立させることができる。
また、塗布法による有機発光層の形成は、クリーンルーム内で行われているが、有機発光層を形成するための機材や周辺環境からのパーティクルなどの異物を完全に除去することはできない。したがって、有機ＥＬ発光装置を製造する過程で、副画素に異物が混入してしまうことがある。
また、隣接する発色領域内にインクが侵入しないように、ライン状のバンクに突起を設ける技術が知られている（例えば特許文献３参照）。特許文献３に開示された有機ＥＬ発光装置は、パッシブマトリクス型であり、バンクは対向電極のセパレータとして機能する。
また、アクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置において、対向電極がバンクによって分断されることを防止するために、バンクに溝を形成する技術が知られている（例えば特許文献４〜９参照）。特許文献４〜９に開示された有機ＥＬ発光装置では、有機発光層は、副画素ごとに独立して配置されている。
しかしながら、特許文献２に開示された発光装置では、副画素に異物が付着すると、発色領域内に塗布された材料液が異物に吸引され、有機発光層の膜厚が不均一になったり、有機発光層が形成されない領域が発生することがあった。
図２Ａは、図１に示された特許文献２の発光装置の一部拡大図を示す。図２Ａ中の１５は、異物を示す。また、図２Ａ中の矢印Ｙは、発色領域内に塗布された有機発光層の材料液の動きを示す。このように、異物１５が付着した副画素３ｃを含む発色領域内に有機発光層の材料液を塗布した場合、インクが第１隔壁５と第２隔壁７との間に形成された溝８を通って、異物１５に吸引される。このため、副画素３ａおよび副画素３ｂに塗布された材料液は、副画素３ｃに吸引される。
図２Ｂは、図２Ａに示された発光装置のＡＡ線による断面図である。図２Ｂに示されるように、材料液は、副画素３ｃに吸引されるので、副画素３ｃでは有機発光層９の膜厚が厚くなり、副画素３ｂでは有機発光層９の膜厚が薄くなる。また、副画素３ａでは、有機発光層９が形成されない領域が生じる。
このため、特許文献２の有機ＥＬ発光装置では、副画素に異物が付着した場合、副画素間で有機発光層の膜厚がばらつき、副画素間で輝度にばらつきが生じる。有機ＥＬ発光装置の副画素間の輝度のばらつきが大きいと、有機ＥＬ発光装置は検査過程で不良品とみなされる。したがって、特許文献２の有機ＥＬ発光装置では、歩留まりが低いという問題があった。
また、溝８の長さを長くすることで、材料液が副画素間を流れにくくし、異物に材料液が吸引されることを抑制することも考えられる。しかし、溝８を長くするには、第２隔壁の発色領域の長軸方向の長さ７ｗ（副画素間の間隔）を長くする必要がある。このため、溝８を長くした場合、副画素間の非発色領域の面積が大きくなり、有機ＥＬ発光装置の単位面積あたりの発光面積（開口率）が減少する。
このように従来は、高い開口率を維持したまま、副画素間の有機発光層の膜厚をレベリングすることと、異物によって材料液が吸引されることを抑制することとを両立することは困難であった。
本発明の目的は、異物が混入した場合であっても画素領域間の有機発光層の膜厚が均一であり、かつ開口率の高い有機ＥＬ発光装置を提供することである。
本発明は、以下に示す有機ＥＬ発光装置に関する。
［１］２以上の画素領域が一列に配列された発色領域と、ソース電極およびドレイン電極を有する薄膜トランジスタと、を有する基板と、前記発色領域を規定し、互いに対向するライン状の主バンクと、前記発色領域において前記画素領域間に配置された画素分離領域と、前記画素領域毎に配置され、かつ前記薄膜トランジスタのソース電極またはドレイン電極と接続された画素電極と、前記画素電極上に配置された有機機能層と、を有するアクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置であって、前記画素分離領域には、補助バンクと、前記画素領域同士を連通する溝と、が配置され、前記発色領域において連続する３つの前記画素領域を、第１画素領域、第２画素領域、第３画素領域とし、前記第１画素領域と、前記第２画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ａとし、前記第２画素領域と、前記第３画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ｂとしたとき、前記画素分離領域Ａに配置された溝の前記第２画素領域側の端部を、前記第１画素領域側から前記第２画素領域側に、前記主バンクのライン方向に沿って投射すると、前記端部の投象は、前記画素分離領域Ｂに配置された前記補助バンクに遮蔽される、アクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置。
［２］前記主バンクは、順テーパ状である、［１］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［３］それぞれの前記画素分離領域には、一つの補助バンクが配置され、前記画素分離領域Ａに配置された補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記画素分離領域Ｂに配置された補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、それぞれの画素分離領域に配置された前記補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の長さは、前記発色領域の短軸方向の長さの１／２以上である、［１］または［２］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［４］それぞれの前記画素分離領域には、第１補助バンクおよび第２補助バンクが配置され、前記第１補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記第２補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、前記第１補助バンクの前記ライン方向の位置と、第２補助バンクの前記ライン方向の位置とは異なり、前記第１補助バンクおよび前記第２補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の長さは、前記発色領域の短軸方向の長さの１／２以上である、［１］または［２］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［５］それぞれの前記画素分離領域には、第１補助バンク、第２補助バンクおよび第３補助バンクが配置され、前記第１補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記第２補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、前記第１補助バンクと第２補助バンクとは、互いに対向し、前記第１補助バンクと、前記第２補助バンクとの間には前記溝が配置され、前記第３補助バンクの前記ライン方向の位置は、前記第１補助バンクおよび第２補助バンクの前記ライン方向の位置と異なり、前記第３補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の位置は、前記第１補助バンクと前記第２補助バンクとの間に配置された前記溝の位置と重なる、［１］または［２］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［６］前記補助バンクの高さは、前記主バンクの高さの０．０５〜１．０倍である、［１］〜［５］のいずれか一つに記載の有機ＥＬ発光装置。
［７］前記画素電極と前記有機機能層との間には正孔注入層が配置され、前記正孔注入層の材料は遷移金属の酸化物である、［１］〜［６］のいずれか一つに記載の有機ＥＬ発光装置。
［８］前記遷移金属の酸化物は、ＷＯｘ、ＭｏＯｘ、ＴｉＯ２、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５またはＲｕＯ２から選択される、［７］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［１］２以上の画素領域が一列に配列された発色領域と、ソース電極およびドレイン電極を有する薄膜トランジスタと、を有する基板と、前記発色領域を規定し、互いに対向するライン状の主バンクと、前記発色領域において前記画素領域間に配置された画素分離領域と、前記画素領域毎に配置され、かつ前記薄膜トランジスタのソース電極またはドレイン電極と接続された画素電極と、前記画素電極上に配置された有機機能層と、を有するアクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置であって、前記画素分離領域には、補助バンクと、前記画素領域同士を連通する溝と、が配置され、前記発色領域において連続する３つの前記画素領域を、第１画素領域、第２画素領域、第３画素領域とし、前記第１画素領域と、前記第２画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ａとし、前記第２画素領域と、前記第３画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ｂとしたとき、前記画素分離領域Ａに配置された溝の前記第２画素領域側の端部を、前記第１画素領域側から前記第２画素領域側に、前記主バンクのライン方向に沿って投射すると、前記端部の投象は、前記画素分離領域Ｂに配置された前記補助バンクに遮蔽される、アクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置。
［２］前記主バンクは、順テーパ状である、［１］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［３］それぞれの前記画素分離領域には、一つの補助バンクが配置され、前記画素分離領域Ａに配置された補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記画素分離領域Ｂに配置された補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、それぞれの画素分離領域に配置された前記補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の長さは、前記発色領域の短軸方向の長さの１／２以上である、［１］または［２］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［４］それぞれの前記画素分離領域には、第１補助バンクおよび第２補助バンクが配置され、前記第１補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記第２補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、前記第１補助バンクの前記ライン方向の位置と、第２補助バンクの前記ライン方向の位置とは異なり、前記第１補助バンクおよび前記第２補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の長さは、前記発色領域の短軸方向の長さの１／２以上である、［１］または［２］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［５］それぞれの前記画素分離領域には、第１補助バンク、第２補助バンクおよび第３補助バンクが配置され、前記第１補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記第２補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、前記第１補助バンクと第２補助バンクとは、互いに対向し、前記第１補助バンクと、前記第２補助バンクとの間には前記溝が配置され、前記第３補助バンクの前記ライン方向の位置は、前記第１補助バンクおよび第２補助バンクの前記ライン方向の位置と異なり、前記第３補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の位置は、前記第１補助バンクと前記第２補助バンクとの間に配置された前記溝の位置と重なる、［１］または［２］に記載の有機ＥＬ発光装置。
［６］前記補助バンクの高さは、前記主バンクの高さの０．０５〜１．０倍である、［１］〜［５］のいずれか一つに記載の有機ＥＬ発光装置。
［７］前記画素電極と前記有機機能層との間には正孔注入層が配置され、前記正孔注入層の材料は遷移金属の酸化物である、［１］〜［６］のいずれか一つに記載の有機ＥＬ発光装置。
［８］前記遷移金属の酸化物は、ＷＯｘ、ＭｏＯｘ、ＴｉＯ２、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５またはＲｕＯ２から選択される、［７］に記載の有機ＥＬ発光装置。
本発明によれば、画素領域間の有機発光層の膜厚が均一であり、かつ開口率の高い有機ＥＬ発光装置を提供することができる。
１．本発明の有機ＥＬ発光装置
本発明の有機ＥＬ発光装置は、１）基板と、２）画素電極と、３）主バンクと、４）画素分離領域と、５）有機機能層と、６）対向電極とを有する。
後述するように本発明によれば、画素領域に異物が付着した場合であっても、有機機能層の材料液が異物に吸引されることを抑制することができる。このため、本発明は、特に大画面の有機ＥＬ発光装置に効果を発揮する。大画面の有機ＥＬ発光装置を製造する場合、画素領域内にパーティクルなどの異物が混入するおそれが高く、本発明によって材料液が異物に吸引されることを防止する必要性が高いからである。以下、本発明の有機ＥＬ発光装置のそれぞれの構成要件について説明する。
本発明の有機ＥＬ発光装置は、１）基板と、２）画素電極と、３）主バンクと、４）画素分離領域と、５）有機機能層と、６）対向電極とを有する。
後述するように本発明によれば、画素領域に異物が付着した場合であっても、有機機能層の材料液が異物に吸引されることを抑制することができる。このため、本発明は、特に大画面の有機ＥＬ発光装置に効果を発揮する。大画面の有機ＥＬ発光装置を製造する場合、画素領域内にパーティクルなどの異物が混入するおそれが高く、本発明によって材料液が異物に吸引されることを防止する必要性が高いからである。以下、本発明の有機ＥＬ発光装置のそれぞれの構成要件について説明する。
１）基板
基板は、発色領域を有する。発色領域は通常、ライン状であり、特定の方向に沿って、それぞれの長軸が平行になるように配置される。それぞれの発色領域には、２以上の画素領域が一列に配列されている。ここで「画素領域」とは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）の光を発する副画素が形成される領域を意味する。すなわち本発明では、３種類の発色領域（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が互いに平行に配置されている。例えば、赤発色領域の隣に緑発色領域を配置し、緑発色領域の隣に青発色領域を配置し、青発色領域の隣に赤発色領域を配置する。
基板は、発色領域を有する。発色領域は通常、ライン状であり、特定の方向に沿って、それぞれの長軸が平行になるように配置される。それぞれの発色領域には、２以上の画素領域が一列に配列されている。ここで「画素領域」とは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）の光を発する副画素が形成される領域を意味する。すなわち本発明では、３種類の発色領域（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が互いに平行に配置されている。例えば、赤発色領域の隣に緑発色領域を配置し、緑発色領域の隣に青発色領域を配置し、青発色領域の隣に赤発色領域を配置する。
基板の材料は有機ＥＬ発光装置がボトムエミッション型か、トップエミッション型かによって異なる。例えば、有機ＥＬ発光装置がボトムエミッション型の場合、基板は、透明であることが求められる。したがって、有機ＥＬ発光装置がボトムエミッション型の場合、基板の材料の例にはガラスや石英、透明プラスチックなどが含まれる。一方、有機ＥＬ発光装置がトップエミッション型の場合、基板が透明である必要はない。したがって有機ＥＬ発光装置がトップエミッション型の場合、基板の材料は絶縁体であれば任意であり、例えば不透明プラスチックや金属などである。
また、基板には、副画素を駆動するための金属配線や薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有していてもよい。ＴＦＴのソース電極またはドレイン電極は、後述する画素電極に接続される。
２）画素電極
それぞれの画素領域内には画素電極が配置される。画素電極とは、基板上に配置された導電性部材である。画素電極は、通常陽極として機能するが、陰極として機能してもよい。画素電極は、各画素領域内に配置される。有機ＥＬ発光装置がパッシブマトリクス型である場合、複数のライン状の画素電極が基板上に配置される。ライン状の画素電極は、互いに並行であることが好ましい。一方、有機ＥＬ発光装置がアクティブマトリクス型である場合、画素電極は画素領域ごと独立して配置される。
それぞれの画素領域内には画素電極が配置される。画素電極とは、基板上に配置された導電性部材である。画素電極は、通常陽極として機能するが、陰極として機能してもよい。画素電極は、各画素領域内に配置される。有機ＥＬ発光装置がパッシブマトリクス型である場合、複数のライン状の画素電極が基板上に配置される。ライン状の画素電極は、互いに並行であることが好ましい。一方、有機ＥＬ発光装置がアクティブマトリクス型である場合、画素電極は画素領域ごと独立して配置される。
ボトムエミッション型有機ＥＬ発光装置では、画素電極が透明電極であることが求められる。このような画素電極の材料の例は、ＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）やＩＺＯ（酸化インジウム・亜鉛）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）などを含む。
トップエミッション型有機ＥＬ発光装置では、画素電極に光反射性が求められる。このような画素電極の材料の例は、銀を含む合金、より具体的には銀−パラジウム−銅合金（ＡＰＣとも称する）や銀−ルテニウム−金合金（ＡＲＡとも称する）、ＭｏＣｒ（モリブデンクロム）、ＮｉＣｒ（ニッケルクロム）、アルミニウム−ネオジム合金（Ａｌ−Ｎｄとも称する）などのアルミニウム系合金などを含む。また反射性の画素電極の表面には、ＩＴＯ膜およびＩＺＯ膜（Indium Zinc Oxide）が配置されていてもよい。
トップエミッション型有機ＥＬ発光装置では、画素電極に光反射性が求められる。このような画素電極の材料の例は、銀を含む合金、より具体的には銀−パラジウム−銅合金（ＡＰＣとも称する）や銀−ルテニウム−金合金（ＡＲＡとも称する）、ＭｏＣｒ（モリブデンクロム）、ＮｉＣｒ（ニッケルクロム）、アルミニウム−ネオジム合金（Ａｌ−Ｎｄとも称する）などのアルミニウム系合金などを含む。また反射性の画素電極の表面には、ＩＴＯ膜およびＩＺＯ膜（Indium Zinc Oxide）が配置されていてもよい。
また、画素電極上には正孔注入層が配置されていてもよい。正孔注入層は、画素電極から後述する有機機能層への正孔の注入を補助する機能を有する層である。このため、正孔注入層は画素電極と有機機能層との間に配置される。
正孔注入層の材料には、ポリエチレンスルホン酸をドープしたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳと称される）や、その誘導体（共重合体など）、遷移金属の酸化物などが含まれる。
遷移金属の酸化物の例には、ＷＯｘ、ＭｏＯｘ、ＴｉＯ２、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５、ＲｕＯ２およびこれらの組み合わせなどが含まれる。好ましい正孔注入層の材料は、酸化タングステン（ＷＯｘ）または酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）である。正孔注入層の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、約５０ｎｍでありうる。
正孔注入層の材料は、遷移金属の酸化物であることが好ましい。ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳを含む正孔注入層は塗布法で形成されることから、膜厚が不均一になる恐れがあるからである。また、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳを含む正孔注入層は、導電性であることから、画素がショートするおそれもある。一方、遷移金属の酸化物からなる正孔注入層は、スパッタリングや蒸着などで形成することができ、膜厚が均一になる。
また、画素電極から有機機能層へ効率的に正孔を注入できる限り、正孔注入層は省略されてもよい。この場合、画素電極上に直接有機機能層が配置される。
３）主バンク
主バンクは、上述したライン状の発色領域を規定する。１の発色領域は、互いに対向する２つの主バンクによって規定される。基板上には複数の互いに平行なライン状の主バンクが配置される。また、画素電極がライン状に形成される場合（パッシブマトリックス型有機ＥＬ発光装置の場合）、ライン状の主バンクのラインの方向と、画素電極のラインの方向とは直交することが好ましい。また、本発明の有機ＥＬ発光装置がパッシブマトリクス型の場合、主バンクは対向電極セパレータとして機能する。
主バンクは、上述したライン状の発色領域を規定する。１の発色領域は、互いに対向する２つの主バンクによって規定される。基板上には複数の互いに平行なライン状の主バンクが配置される。また、画素電極がライン状に形成される場合（パッシブマトリックス型有機ＥＬ発光装置の場合）、ライン状の主バンクのラインの方向と、画素電極のラインの方向とは直交することが好ましい。また、本発明の有機ＥＬ発光装置がパッシブマトリクス型の場合、主バンクは対向電極セパレータとして機能する。
主バンクの基板の表面からの高さは０．５〜３μｍであることが好ましく、０．８μｍ〜１．２μｍであることが特に好ましい。バンクの高さが０．５μｍ未満であった場合、バンクによって規定された領域内に塗布されたインクがバンクから漏れ出すおそれがある。
主バンクの材料は、撥液性が高いことが好ましい。具体的には、主バンクの表面における水の接触角は６０°以上であることが好ましい。主バンクの撥液性を高めるには、主バンクの表面にフッ素ガスを用いたプラズマ処理を施したり、主バンクの材料をフッ素含有樹脂としたりすればよい。
フッ素含有樹脂に含まれるフッ素化合物の例には、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレン、およびこれらの共重合体等のフッ化樹脂などが含まれる。またフッ素含有樹脂に含まれる樹脂の例には、フェノール−ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂およびこれらの組み合わせが含まれる。
上述したように、パッシブマトリクス型有機ＥＬ発光装置では、主バンクは対向電極セパレータとして機能する。有機ＥＬ発光装置がパッシブマトリクス型である場合、主バンクの形状は、逆テーパ状であることが好ましい。主バンクの形状が逆テーパ状であると、蒸着法で形成される対向電極が分断されやすいからである。
一方、有機ＥＬ発光装置がアクティブマトリクス型である場合、全ての副画素が一つの対向電極を共有する。このため、アクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置では、主バンクの形状は順テーパ状であることが好ましい。バンクの形状は順テーパ状であると、対向電極を薄くしても、対向電極が分断されないからである。
４）画素分離領域
画素分離領域は、画素領域間に配置される。画素分離領域は、画素領域間の非発光領域を意味する。画素分離領域には、補助バンクと、画素領域同士を連通する溝と、が配置される。溝のパターンは、本発明の効果を損なわない限り特に限定されない。
画素分離領域は、画素領域間に配置される。画素分離領域は、画素領域間の非発光領域を意味する。画素分離領域には、補助バンクと、画素領域同士を連通する溝と、が配置される。溝のパターンは、本発明の効果を損なわない限り特に限定されない。
また、各画素分離領域に配置される補助バンクの数は、１つであっても、２つ以上であってもよい。また補助バンクの基板表面からの高さは、主バンクの基板表面からの高さよりも低いことが好ましい。補助バンクの高さは主バンクの高さの０．０５〜１．０倍であることが好ましい。このように、補助バンクの高さを主バンクの高さよりも低くすることで、１の発色領域内に塗布された有機機能層の材料液が、隣接する発色領域に侵入することを防止することができる。
また、補助バンクの濡れ性は、主バンクの濡れ性よりも高いことが好ましい。補助バンクの濡れ性を主バンクの濡れ性よりも高くすることで、発色領域内に塗布法で形成される有機機能層の膜厚を均一にすることができるからである。本発明は画素分離領域に配置された補助バンクおよび溝の構造に特徴を有する。以下補助バンクおよび溝の構造について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図３は有機機能層を省略した本発明の有機ＥＬ発光装置における発色領域の拡大図である。図３に示された有機ＥＬ発光装置は、基板１０１、基板１０１に配置された画素電極１０３、基板１０１上に配置された主バンク１０５を有する。また、基板１０１は発色領域１２０を有する。発色領域１２０には３つの画素領域（第１画素領域１２１ａ、第２画素領域１２１ｂ、第３画素領域１２１ｃ）が一列に連続して配列されている。
第１画素領域１２１ａと第２画素領域１２１ｂとの間には、画素分離領域１３０Ａが配置されている。また第２画素領域１２１ｂと第３画素領域１２１ｃとの間には画素分離領域１３０Ｂが配置されている。画素分離領域（１３０Ａ、１３０Ｂ）には、それぞれ、補助バンク１３１と、溝１３７とが配置されている。画素分離領域１３０Ａに配置された溝１３７は、第１画素領域１２１ａ側の端部１３８と第２画素領域１２１ｂ側の端部１３９とを有する。また線Ｘは、端部１３９を第１画素領域１２１ａから第２画素領域１２１ｂへと、ライン状の主バンク１０５のライン方向に沿って投射した際の端部１３９の投象（以下単に「端部１３９の投象」とも称する）が現れる領域を示す。
本発明は、画素分離領域１３０Ａに配置された溝１３７と画素分離領域１３０Ｂに配置された補助バンク１３１との位置関係に特徴を有する。具体的には、本発明の有機ＥＬ発光装置では、図３に示されるように、画素分離領域１３０Ａの溝１３７の端部１３９の投象は、画素分離領域１３０Ｂの補助バンク１３１に重なる。
このように、本発明では、画素分離領域１３０Ａに配置された溝１３７の端部１３９の投象が、画素分離領域１３０Ｂの補助バンクに重なるので、有機ＥＬ発光装置の製造時に、発色領域にパーティクルなどの異物が付着した場合であっても、有機機能層の材料液が異物に吸引されることを抑制することができる。本発明によって材料液が異物に吸引されることを抑制するメカニズムについては、後述する「２．本発明の有機ＥＬ発光装置の製造方法」において詳細に説明する。
５）有機機能層
有機機能層は、少なくとも有機発光層を含む層である。有機機能層は、各画素領域内の画素電極または正孔注入層上に塗布法で形成される。発色領域内の各画素領域に形成された有機機能層は、画素分離領域に配置された溝を介して連結している。
有機機能層は、少なくとも有機発光層を含む層である。有機機能層は、各画素領域内の画素電極または正孔注入層上に塗布法で形成される。発色領域内の各画素領域に形成された有機機能層は、画素分離領域に配置された溝を介して連結している。
有機機能層に含まれる有機発光層の厚さは、５０〜１００ｎｍであり、約７０ｎｍでありうる。有機発光層に含まれる有機ＥＬ材料は、副画素が発する光の色（ＲＧＢ）に応じて、副画素ごとに適宜選択される。有機ＥＬ材料は、高分子有機ＥＬ材料および低分子有機ＥＬ材料のいずれでもよいが、塗布法により形成する観点からは高分子有機ＥＬ材料が好ましい。高分子有機ＥＬ材料を用いることで、他の部材に損傷を与えることなく有機発光層を容易に形成することができるからである。高分子有機ＥＬ材料の例には、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレン（polyacetylene）およびその誘導体、ポリフェニレン（polyphenylene（ＰＰ））およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（polyparaphenylene ethylene）およびその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（poly-3-hexylthiophene（Ｐ３ＨＴ））およびその誘導体、ポリフルオレン（polyfluorene（ＰＦ））およびその誘導体などが含まれる。低分子有機ＥＬ材料の例には、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムなどが含まれる。
有機機能層は、有機発光層に加えて、正孔輸送層（インターレイヤ）や電子注入層、電子輸送層などを有してもよい。
正孔輸送層は、画素電極と有機発光層との間に配置される。正孔輸送層は、有機発光層に正孔を効率よく運ぶ機能、および画素電極（または正孔注入層）への電子の侵入をブロックする機能を有する。正孔輸送層の材料は、正孔輸送性の有機材料であれば、高分子材料でも低分子材料であってもよい。正孔輸送性の材料の例には、フルオレン部位とトリアリールアミン部位を含む共重合体や低分子量のトリアリールアミン誘導体などが含まれる。
また、正孔輸送層上に有機発光材料を含むインクを塗布する場合に、正孔輸送層がインクに溶出しにくいよう、正孔輸送層内の正孔輸送材料は、架橋されていることが好ましい。正孔輸送材料を架橋するには、正孔輸送層の材料液に架橋剤を含有させればよい。架橋剤の例には、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが含まれる。正孔輸送層の厚さは、特に限定されないが、例えば５〜１００ｎｍ程度であり、約２０ｎｍである。
６）対向電極
本発明の有機ＥＬ発光装置は、有機機能層上に対向電極を有する。対向電極は通常陰極として機能するが、陽極として機能してもよい。
本発明の有機ＥＬ発光装置は、有機機能層上に対向電極を有する。対向電極は通常陰極として機能するが、陽極として機能してもよい。
パッシブマトリクス型有機ＥＬ発光装置では、対向電極は、発色領域ごとに独立して配置される。一方アクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置では、ＴＦＴによって各副画素が独立して制御されるので、全ての副画素が一つの対向電極を共用する。
対向電極の材料は、有機ＥＬ発光装置がボトムエミッション型か、トップエミッション型かによってその材料が異なる。トップエミッション型の場合には、対向電極が透明である必要があるので、対向電極の材料の例には、透過率が８０％以上の導電性部材を用いることが好ましい。これにより、発光効率が高いトップエミッション有機ＥＬ発光装置を得ることができる。
このような透明陰極は、アルカリ土類金属を含む層と、電子輸送性の有機材料かならる層と、金属酸化物層とから構成されてもよい。アルカリ土類金属の例には、マグネシウム、カルシウムおよびバリウムなどが含まれる。電子輸送性の有機材料は、例えば電子輸送性の有機半導体材料である。金属酸化物は、特に限定されないが、例えば、インジウム錫酸化物あるいはインジウム亜鉛酸化物である。
また、透明陰極は、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはそれらのハロゲン化物を含む層と銀を含む層とから構成されてもよい。銀を含む層は、銀のみから構成されてもよいし、銀合金から構成されてもよい。また、銀を含む層上に透明度が高い屈折率調整層を設けてもよい。屈折率調整層を設けることで光取り出し効率を向上させることができる。
本発明の有機ＥＬ発光装置は、対向電極上にカバー材を有していてもよい。カバー材によって酸素や水分の侵入を防止することができる。
２．本発明の有機ＥＬ発光装置の製造方法
上述した本発明の有機ＥＬ発光装置の製造方法は、１）有機機能層が形成される前のパネルを準備する第１ステップ、２）パネルに有機機能層の材料液を塗布して、有機機能層を形成する第２ステップを含む。以下それぞれのステップについて説明する。
上述した本発明の有機ＥＬ発光装置の製造方法は、１）有機機能層が形成される前のパネルを準備する第１ステップ、２）パネルに有機機能層の材料液を塗布して、有機機能層を形成する第２ステップを含む。以下それぞれのステップについて説明する。
１）第１ステップについて
第１ステップでは、有機機能層が形成される前のパネルを準備する。第１ステップで準備するパネルは、上述した基板と、主バンクと、を有する。
第１ステップでは、有機機能層が形成される前のパネルを準備する。第１ステップで準備するパネルは、上述した基板と、主バンクと、を有する。
上述したように基板は、複数の画素領域が一列に配列された発色領域を有する。また、バンクは発色領域を規定する。さらに画素領域間に配置された画素分離領域には、補助バンクと、画素領域同士を連通する溝とが配置される。また、それぞれの画素領域には画素電極が配置されている。
主バンクおよび補助バンクは、例えば、凹版印刷法や露光・現像プロセスを含むフォトリソグラフィ法によって形成される。特に凹版印刷法で主バンクおよび補助バンクを形成すれば、他の部材（画素電極）などに損傷を与えにくい。
２）第２ステップについて
第２ステップでは、第１ステップで準備したパネルに有機機能層の材料液（以下単に「材料液」とも称する）を塗布して、有機機能層を形成する。材料液は、高分子有機発光材料を含むことが好ましい。高分子有機発光材料は発色領域から所望の発色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が生じるように、適宜選択される。
第２ステップでは、第１ステップで準備したパネルに有機機能層の材料液（以下単に「材料液」とも称する）を塗布して、有機機能層を形成する。材料液は、高分子有機発光材料を含むことが好ましい。高分子有機発光材料は発色領域から所望の発色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が生じるように、適宜選択される。
より具体的には、第２ステップでは、主バンクによって規定された発色領域ごとに、有機機能層の材料液をライン状に塗布する。したがって、材料液は、画素分離領域に配置された補助バンク上にも付着する。このため、補助バンクの高さと主バンクの高さとが同じ場合、補助バンク上に付着した材料液は、主バンク上に移動して、隣接する発色領域内に侵入するおそれがある。
しかし、本発明では、上述のように補助バンクの高さは、主バンクの高さよりも低いので、補助バンク上に付着した材料液は、主バンク上に移動することはできない。このため材料液が隣接する発色領域に侵入する恐れは少ない。
しかし、本発明では、上述のように補助バンクの高さは、主バンクの高さよりも低いので、補助バンク上に付着した材料液は、主バンク上に移動することはできない。このため材料液が隣接する発色領域に侵入する恐れは少ない。
第２ステップは、クリーンルーム内で行われているが、有機機能層を形成するための機材や周辺環境からのパーティクルなどの異物を完全に除去することはできない。したがって、有機ＥＬ発光装置を製造する過程で、発色領域に異物が混入してしまうことがある。発色領域に異物が混入すると、発色領域内に塗布された有機機能層の材料液が、異物に吸引され、画素領域間の膜厚が不均一になったり、有機機能層が形成されない画素領域が発生したりする（図２Ｂ参照）。
一方、本発明によれば、上述したように画素分離領域Ａの溝１３７の端部１３９の投象が、画素分離領域１３０Ｂに配置された補助バンクに重なるので、インクが異物に吸引されることを抑制することができる。以下、本発明において、異物が混入した発色領域内に有機機能層の材料液を塗布したときの、インクの挙動について図面を参照しながら説明する。
図４は、異物１５０が混入した発色領域１２０内に有機機能層の材料液１０７を塗布した様子を示す。図３に示した有機ＥＬ発光装置と同一の構成部材については、同一の符号を付し、説明を省略する。
図４に示されるように、第３画素領域１２１ｃには、異物１５０が付着している。上述のように異物１５０は、材料液１０７を吸引することから、発色領域１２０内に塗布された材料液１０７には、第３画素領域１２１ｃへと引き寄せられる。
しかし上述のように本発明では、画素分離領域１３０Ａの溝１３７の端部１３９の投象が、画素分離領域１３０Ｂに配置された補助バンクに重なる。このため、第１画素領域１２１ａから第２画素領域１２１ｂに流入した材料液１０７は、画素分離領域１３０Ｂの補助バンク１３１にぶつかり、ストレートに第３画素領域１２１ｃに流入することはできない。
このように、補助バンクによって発色領域内を材料液がストレートに流れることを防止することで、画素領域間の材料液の流動性を減少させることができる。このため、材料液が画素領域間を移動するために時間がかかり、発色領域内の材料液が、異物が付着した画素領域に吸引されることを防止することができる。このため、本発明によれば、発色領域に異物が付着したとしても、画素領域間で、均一な膜厚を有する有機機能層を形成することができる。
一方、異物が付着した画素領域では、有機ＥＬ発光装置の使用時に異物を通した電流のリークなどが生じる恐れがある。このため異物が付着した画素領域は、レーザ照射などによって修復されることが好ましい。
また、本発明では、画素分離領域の発色領域のライン方向の長さを縮めても、「材料液がストレートに流れることを防止し、画素領域間の材料液の流動性を減少させる」という本発明の効果が発揮される。すなわち、本発明では、画素分離領域の主バンクのライン方向（以下単に「ライン方向」とも称する）の長さ（発色領域内の画素領域間の間隔）を狭めても、異物に材料液が吸引されることを防止することができる。したがって、本発明では、画素領域間の非発色領域の幅を狭めることができ、有機ＥＬ発光装置の開口率を向上させることができる。
また、本発明によれば、発色領域内の材料液の過剰な流動性は抑制されるが、材料液は、画素分離領域の溝によって近接する画素領域間を自由に移動することができる。このため、画素領域間で有機機能層の膜厚がレベリングされる。
このように、本発明によれば、高い開口率を維持しつつ、材料液が異物に吸引されることを防止することと、画素領域間で有機機能層の膜厚がレベリングされることとを両立させることができる。
有機機能層を形成したのち、電子注入輸送層、対向電極などを積層し、さらに封止膜やガラス基板などを配置してディスプレイを製造する。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。
［実施の形態１］
実施の形態１では、各画素分離領域に配置された補助バンクの数が一つであるアクティブマトリクス型の有機ＥＬ発光装置について説明する。したがって、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置は、全ての副画素が共有する対向電極（以下単に「共有対向電極」とも称する）を有する。
実施の形態１では、各画素分離領域に配置された補助バンクの数が一つであるアクティブマトリクス型の有機ＥＬ発光装置について説明する。したがって、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置は、全ての副画素が共有する対向電極（以下単に「共有対向電極」とも称する）を有する。
図５は共有対向電極および有機機能層を省略した実施の形態１の有機ＥＬ発光装置１００の平面図である。図５に示されるように実施の形態１の有機ＥＬ発光装置１００は、基板１０１、基板上に配置されたライン状の主バンク１０５を有する。基板１０１は、複数の発色領域１２０を有する。それぞれの発色領域１２０内には画素領域１２１が一列に配置されている。またそれぞれの画素領域１２１内には、画素電極１０３が配置されている。
図６は、図５に示された有機ＥＬ発光装置１００の四角αの拡大図である。図５と同一の構成要件については、同一の符号を付し説明を省略する。図６では、発色領域１２０は、互いに対向する２つの主バンク（１０５ａ、１０５ｂ）によって規定されている。また図６では、一列に連続して配列された３つの画素領域１２１（第１画素領域１２１ａ、第２画素領域１２１ｂ、第３画素領域１２１ｃ）が示される。
図６に示されるように、画素領域１２１間には、画素分離領域１３０が配置される。第１画素領域１２１ａと第２画素領域１２１ｂとの間には、画素分離領域１３０Ａが配置され、第２画素領域１２１ｂと第３画素領域１２１ｃとの間には、画素分離領域１３０Ｂが配置される。
それぞれの画素分離領域１３０には、溝１３７と１つの補助バンク１３１とが配置されている。画素分離領域１３０Ａに配置された補助バンク１３１は、主バンク１０５ａのみに接続している。また、画素分離領域１３０Ｂに配置された補助バンク１３１は、主バンク１０５ｂのみに接続している。それぞれの画素分離領域１３０に配置された補助バンク１３１のライン方向に垂直方向の長さ（以下単に「補助バンクの長さ」とも称する）１３１ｗは、発色領域の短軸方向の長さ１２０ｗの１／２以上である。
溝１３７の幅１３７ｗは、狭いことが好ましい。より具体的には、溝の幅１３７ｗは、５〜２０μｍであることが好ましい。また、画素分離領域１３０Ａに配置された溝１３７は、第１画素領域１２１ａ側の端部１３８と第２画素領域１２１ｂ側の端部１３９とを有する。画素分離領域１３０Ａに配置された溝１３７の端部１３９の投象は、画素分離領域１３０Ｂに配置された補助バンク１３１に重なる。
このように、画素分離領域１３０Ａに配置された溝１３７の端部１３９の投象が、画素分離領域１３０Ｂに配置された補助バンク１３１に重なることで、有機ＥＬ発光装置の製造時に、発色領域にパーティクルなどの異物が付着した場合であっても、有機機能層の材料液が異物に吸引されることを、抑制することができる（図４参照）。
また、本実施の形態のように溝の幅１３７ｗが狭いと、共有対向電極のうち主バンク１０５ａ上の領域と、主バンク１０５ｂ上の領域とが、共有対向電極のうち補助バンク１３１上の領域を介して接続されやすい。このため、本実施の形態のように溝の幅１３７ｗが狭いと、共有対向電極が分断しにくい。したがって、本実施の形態によれば、共有対向電極を薄くすることができる。
［実施の形態２］
実施の形態２では、補助バンクが主バンクに接続されない形態について説明する。
実施の形態２では、補助バンクが主バンクに接続されない形態について説明する。
図７は、実施の形態２の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図７に示されるように実施の形態２の有機ＥＬ発光装置は、画素分離領域２３０を有する以外は、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図７に示されるように、それぞれの画素分離領域２３０には、２つの溝２３７と、一つの補助バンク２３１とが配置されている。また、主バンクは凹部を有する。主バンク１０５ａが有する凹部と、主バンク１０５ｂが有する凹部とは対向する。
補助バンク２３１は、互いに対向する主バンク１０５ａが有する凹部と、主バンク１０５ｂが有する凹部との間に配置される。補助バンク２３１は主バンク１０５とは接続されない。補助バンク２３１と主バンク１０５に形成された凹部との間のギャップが溝２３７を構成する。補助バンク２３１の長さ２３１ｗは、発色領域の短軸方向の長さ１２０ｗ以上であることが好ましい。
［実施の形態３］
実施の形態１〜２では、それぞれの画素分離領域に、一つの補助バンクが配置された形態について説明した。実施の形態３〜５では、それぞれの画素分離領域に、２つの補助バンクが配置された形態について説明する。
実施の形態１〜２では、それぞれの画素分離領域に、一つの補助バンクが配置された形態について説明した。実施の形態３〜５では、それぞれの画素分離領域に、２つの補助バンクが配置された形態について説明する。
図８は、実施の形態３の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図８に示されるように実施の形態３の有機ＥＬ発光装置は、画素分離領域３３０を有する以外は、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図８に示されるように、それぞれの画素分離領域３３０には、蛇行状の溝３３７と、第１補助バンク３３１および第２補助バンク３３２とが配置されている。
第１補助バンク３３１は、主バンク１０５ｂのみに接続され、第２補助バンク３３２は、主バンク１０５ａのみに接続される。また、第１補助バンク３３１のライン方向の位置と、第２補助バンク３３２のライン方向の位置とは、異なる。第１補助バンク３３１および第２補助バンク３３２の長さは、発色領域の短軸方向の長さ１２０ｗの１／２以上である。また、第１補助バンク３３１と、第２補助バンク３３２との間隔３３７ｗは、５〜２０μｍであることが好ましい。
このように、本実施の形態ではそれぞれの画素分離領域に、２つの補助バンクが配置されている。このため、本実施の形態によれば、実施の形態１および２と比較して、発色領域に塗布された材料液の流動性をさらに抑制することができる。
［実施の形態４］
実施の形態４では、第１補助バンクおよび第２補助バンクが突起を有する形態について説明する。
実施の形態４では、第１補助バンクおよび第２補助バンクが突起を有する形態について説明する。
図９は、実施の形態４の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図９に示されるように実施の形態４の有機ＥＬ発光装置は、補助バンクが突起を有する以外は、実施の形態３の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態３の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図９に示されるように、それぞれの画素分離領域３３０において、第１補助バンク３３１は、突起４０１を有し、第２補助バンク３３２は突起４０２を有する。より具体的には、突起４０１は、第１補助バンク３３１の端部に配置され、第２補助バンク３３２に対向する。また、突起４０２は、第２補助バンク３３２の端部に配置され、第１補助バンク３３１に対向する。
このように第１補助バンク３３１が突起４０１を有し、第２補助バンクが突起４０２を有することで、溝３３７内を材料液が流れにくくなる。これにより発色領域に塗布された材料液の流動性をさらに抑制することができる。
［実施の形態５］
実施の形態５では、主バンクが画素分離領域に配置された溝に接続する凹部が形成されている形態について説明する。
実施の形態５では、主バンクが画素分離領域に配置された溝に接続する凹部が形成されている形態について説明する。
図１０は、実施の形態５の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図１０に示されるように実施の形態５の有機ＥＬ発光装置は、主バンクが凹部を有する以外は、実施の形態３の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態３の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図１０に示されるように、主バンク１０５は、それぞれの溝３３７と接続する凹部５０１を有する。このように、主バンク１０５が、溝３３７と接続する凹部５０１を有することで、溝３３７内を材料液が流れにくくなる。これにより発色領域に塗布された材料液の流動性をさらに抑制することができる。
［実施の形態６］
実施の形態３〜５では、それぞれの画素分離領域に、２つの補助バンクが配置された形態について説明した。実施の形態６および７では、それぞれの画素分離領域に３つの補助バンクが配置された形態について説明する。
実施の形態３〜５では、それぞれの画素分離領域に、２つの補助バンクが配置された形態について説明した。実施の形態６および７では、それぞれの画素分離領域に３つの補助バンクが配置された形態について説明する。
図１１は、実施の形態６の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図１１に示されるように実施の形態６の有機ＥＬ発光装置は、画素分離領域６３０を有する以外は、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図１１に示されるように、それぞれの画素分離領域６３０には、溝６３７と、第１補助バンク６３１、第２補助バンク６３２および第３補助バンク６３３とが配置される。
第１補助バンク６３１は、主バンク１０５ｂのみに接続し、第２補助バンク６３２は、主バンク１０５ａのみに接続している。第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２は、互いに対向している。第１補助バンク６３１と第２補助バンク６３２との間には、溝６３７が配置される。
また、第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２は、三角柱状であってもよく（図１４参照）。また、第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２の長軸は、主バンクに対して傾いていてもよい（図１５参照）。
一方、第３補助バンク６３３のライン方向の位置は、第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２のライン方向の位置と異なる。また、第３補助バンク６３３のライン方向に垂直方向の位置は、第１補助バンク６３１と第２補助バンク６３２との間に配置された溝６３７の位置と重なる。さらに、第３補助バンク６３３は主バンク１０５に接続しないことが好ましい。また、第３補助バンク６３３の壁面は、曲面であってもよい（図１３Ａ、図１３Ｂ参照）。
また、図１１に示されるように画素分離領域６３０Ａにおける第１補助バンク６３１、第２補助バンク６３２および第３補助バンク６３３の位置関係は、画素分離領域６３０Ｂにおける第１補助バンク６３１、第２補助バンク６３２および第３補助バンク６３３の位置関係と同じであってもよい（図１１、図１３Ａ参照）。この場合、画素分離領域６３０Ａの第３補助バンク６３３と、画素分離領域６３０Ｂの第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２とで、第２画素領域１２１ｂを挟む。
一方、画素分離領域６３０Ａにおける第１補助バンク６３１、第２補助バンク６３２および第３補助バンク６３３の位置関係と、画素分離領域６３０Ｂにおける第１補助バンク６３１、第２補助バンク６３２および第３補助バンク６３３の位置関係とは、ライン方向に垂直な線に関して線対称であってもよい（図１２、図１３Ｂ参照）。この場合、画素分離領域６３０Ａの第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２と、画素分離領域６３０Ｂの第１補助バンク６３１および第２補助バンク６３２とで、第２画素領域１２１ｂを挟む。
このように、本実施の形態では、それぞれの画素分離領域に、３つの補助バンクが配置される。これにより、発色領域に塗布された材料液の流動性を、さらに抑制することができる。
［実施の形態７］
実施の形態６では、第３補助バンクのライン方向の位置が、第１補助バンクおよび第２補助バンクのライン方向の位置と異なる形態について説明した。実施の形態７では、第３補助バンクのライン方向の位置が、第１補助バンクおよび第２補助バンクのライン方向の位置と同じである形態について説明する。
実施の形態６では、第３補助バンクのライン方向の位置が、第１補助バンクおよび第２補助バンクのライン方向の位置と異なる形態について説明した。実施の形態７では、第３補助バンクのライン方向の位置が、第１補助バンクおよび第２補助バンクのライン方向の位置と同じである形態について説明する。
図１６は、実施の形態７の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図１６に示されるように実施の形態７の有機ＥＬ発光装置は、画素分離領域７３０を有する以外は、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図１６に示されるように、それぞれの画素分離領域７３０には、２つの溝（７３７、７３８）と、第１補助バンク７３１、第２補助バンク７３２および第３補助バンク７３３とが配置される。
また、第１補助バンク７３１は主バンク１０５ｂのみに接続し、第２補助バンク７３２は主バンク１０５ａのみに接続する。第１補助バンク７３１および第２補助バンク７３２は、互いに対向している。第３補助バンク７３３は、第１補助バンク７３１と第２補助バンク７３２との間に配置される。このため、第１補助バンク７３１と、第３補助バンク７３３との間に溝７３７が形成され、第２補助バンク７３２と、第３補助バンク７３３との間に溝７３８が形成される。
溝（７３７、７３８）は、ライン方向に対して傾いていることが好ましい。また、図１７に示されるように、溝（７３７、７３８）は、曲がっていてもよい。
このように、本実施の形態では、互いに対向する第１補助バンクと第２補助バンクとの間に第３補助バンクが配置される。これにより、材料液の流動性を抑えつつ、画素分離領域のライン方向の長さを縮めることができる。これにより画素領域間を狭めることができ、有機ＥＬ発光装置の開口率を向上させることができる。
［実施の形態８］
実施の形態６および７では、それぞれの画素分離領域に３つの補助バンクが配置された形態について説明した。実施の形態８では、それぞれの画素分離領域に４つの補助バンクが配置された形態について説明する。
実施の形態６および７では、それぞれの画素分離領域に３つの補助バンクが配置された形態について説明した。実施の形態８では、それぞれの画素分離領域に４つの補助バンクが配置された形態について説明する。
図１８は、実施の形態８の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図１８に示されるように実施の形態８の有機ＥＬ発光装置は、画素分離領域８３０を有する以外は、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図１８に示されるように、それぞれの画素分離領域８３０には、溝８３７と、第１補助バンク８３１、第２補助バンク８３２、第３補助バンク８３３および第４バンク８３４とが配置される。
第１補助バンク８３１は、主バンク１０５ｂのみに接続し、第２補助バンク８３２は、主バンク１０５ａのみに接続する。第１補助バンク８３１と第２補助バンク８３２とは、互いに対向している。また、第１補助バンク８３１と第２補助バンク８３２との間には溝８３７が配置される。
本実施の形態では、第１補助バンク８３１および第２補助バンク８３２は、第３補助バンク８３３と、第４補助バンク８３４とに挟まれる。また、第３補助バンク８３３のライン方向に垂直方向の位置および第４補助バンク８３４のライン方向に垂直方向の位置は第１補助バンク８３１と第２補助バンク８３２との間に配置された溝の位置と重なる。さらに、第３補助バンク８３３および第４補助バンク８３４は主バンク１０５と接続しないことが好ましい。
また、第３補助バンク８３３および第４補助バンク８３４の壁面は、曲面であってもよい（図１９参照）。
このように、本実施の形態では、それぞれの画素分離領域に、４つの補助バンクが配置される。これにより、発色領域に塗布された材料液の流動性を、さらに抑制することができる。
［実施の形態９］
実施の形態８では、それぞれの画素分離領域に４つの補助バンクが配置される形態について説明した。実施の形態９では、それぞれの画素分離領域に５つの補助バンクが配置される形態について説明する。
実施の形態８では、それぞれの画素分離領域に４つの補助バンクが配置される形態について説明した。実施の形態９では、それぞれの画素分離領域に５つの補助バンクが配置される形態について説明する。
図２０は、実施の形態９の有機ＥＬ発光装置の平面図の一部拡大図である。図２０に示されるように実施の形態９の有機ＥＬ発光装置は、画素分離領域９３０を有する以外は、実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同じである。実施の形態１の有機ＥＬ発光装置と同一の構成要件については同一の符号を付し説明を省略する。
図２０に示されるように、それぞれの画素分離領域９３０には、溝９３７と、第１補助バンク９３１、第２補助バンク９３２、第３補助バンク９３３、第４バンク９３４および第５補助バンク９３５とが配置される。
第１補助バンク９３１および第４補助バンク９３４は主バンク１０５ｂのみに接続し、第２補助バンク９３２および第５補助バンク９３５は主バンク１０５ａのみに接続する。第１補助バンク９３１および第２補助バンク９３２は、互いに対向しており；第４補助バンク９３４および第５補助バンク９３５は、互いに対向している。したがって、第１補助バンク９３１および第２補助バンク９３２のライン方向の位置と、第４補助バンク９３４および第５補助バンク９３５のライン方向の位置とは異なる。
本実施の形態では、第３補助バンク９３３は、第１補助バンク９３１および第２補助バンク９３２と、第４補助バンク９３４および第５補助バンク９３５とに挟まれる。また、第３補助バンク９３３のライン方向に垂直方向の位置は、第１補助バンク９３１と第２補助バンク９３２との間に配置された溝の位置および第４補助バンク９３４と第５補助バンク９３５との間に配置された溝の位置と重なる。さらに、第３補助バンク９３３は主バンク１０５と接続しないことが好ましい。
このように、本実施の形態では、それぞれの画素分離領域に、５つの補助バンクが配置される。これにより、発色領域に塗布された材料液の流動性を、さらに抑制することができる。
本出願は、２００８年１２月１８日出願の特願２００８−３２２１３５に基づく優先権を主張する。当該出願明細書に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
本発明の有機ＥＬ発光装置は、大画面テレビや携帯電話などの情報機器端末のモニタ用の有機ＥＬディスプレイとして用いることができる。
１００ 有機ＥＬ発光装置
１０１ 基板
１０３ 画素電極
１０５ 主バンク
１０７ 有機機能層の材料液
１２０ 発色領域
１２１ 画素領域
１３０、２３０、３３０、６３０、７３０、８３０、９３０ 画素分離領域
１３１、２３１、３３１、３３２、６３１、６３２、６３３、７３１、７３２、７３３、８３１、８３２、８３３、８３４、９３１、９３２、９３３、９３４、９３５ 補助バンク
１３７、２３７、３３７、６３７、７３７、７３８、８３７、９３７ 溝
１３８、１３９ 溝の端部
１５０ 異物
４０１、４０２ 突起
５０１ 凹部
１０１ 基板
１０３ 画素電極
１０５ 主バンク
１０７ 有機機能層の材料液
１２０ 発色領域
１２１ 画素領域
１３０、２３０、３３０、６３０、７３０、８３０、９３０ 画素分離領域
１３１、２３１、３３１、３３２、６３１、６３２、６３３、７３１、７３２、７３３、８３１、８３２、８３３、８３４、９３１、９３２、９３３、９３４、９３５ 補助バンク
１３７、２３７、３３７、６３７、７３７、７３８、８３７、９３７ 溝
１３８、１３９ 溝の端部
１５０ 異物
４０１、４０２ 突起
５０１ 凹部
Claims (8)
- ２以上の画素領域が一列に配列された発色領域と、ソース電極およびドレイン電極を有する薄膜トランジスタと、を有する基板と、
前記発色領域を規定し、互いに対向するライン状の主バンクと、
前記発色領域において前記画素領域間に配置された画素分離領域と、
前記画素領域毎に配置され、かつ前記薄膜トランジスタのソース電極またはドレイン電極と接続された画素電極と、
前記画素電極上に配置された有機機能層と、を有するアクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置であって、
前記画素分離領域には、補助バンクと、前記画素領域同士を連通する溝と、が配置され、
前記発色領域において連続する３つの前記画素領域を、第１画素領域、第２画素領域、第３画素領域とし、
前記第１画素領域と、前記第２画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ａとし、
前記第２画素領域と、前記第３画素領域との間の画素分離領域を、画素分離領域Ｂとしたとき、
前記画素分離領域Ａに配置された溝の前記第２画素領域側の端部を、前記第１画素領域側から前記第２画素領域側に、前記主バンクのライン方向に沿って投射すると、前記端部の投象は、前記画素分離領域Ｂに配置された前記補助バンクに遮蔽される、アクティブマトリクス型有機ＥＬ発光装置。 - 前記主バンクは、順テーパ状である、請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置。
- それぞれの前記画素分離領域には、一つの補助バンクが配置され、
前記画素分離領域Ａに配置された補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記画素分離領域Ｂに配置された補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、
それぞれの前記画素分離領域に配置された前記補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の長さは、前記発色領域の短軸方向の長さの１／２以上である、請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置。 - それぞれの前記画素分離領域には、第１補助バンクおよび第２補助バンクが配置され、
前記第１補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記第２補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、
前記第１補助バンクの前記ライン方向の位置と、前記第２補助バンクの前記ライン方向の位置とは異なり、
前記第１補助バンクおよび前記第２補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の長さは、前記発色領域の短軸方向の長さの１／２以上である、請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置。 - それぞれの前記画素分離領域には、第１補助バンク、第２補助バンクおよび第３補助バンクが配置され、
前記第１補助バンクは、前記対向する主バンクの一方にのみ接続し、前記第２補助バンクは、前記対向する主バンクの他方にのみ接続し、
前記第１補助バンクと第２補助バンクとは、互いに対向し、
前記第１補助バンクと、前記第２補助バンクとの間には前記溝が配置され、
前記第３補助バンクの前記ライン方向の位置は、前記第１補助バンクおよび第２補助バンクの前記ライン方向の位置と異なり、
前記第３補助バンクの前記ライン方向に垂直方向の位置は、前記第１補助バンクと前記第２補助バンクとの間に配置された前記溝の位置と重なる、請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置。 - 前記補助バンクの高さは、前記主バンクの高さの０．０５〜１．０倍である、請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置。
- 前記画素電極と前記有機機能層との間には正孔注入層が配置され、
前記正孔注入層の材料は遷移金属の酸化物である、請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置。 - 前記遷移金属の酸化物は、ＷＯｘ、ＭｏＯｘ、ＴｉＯ２、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５またはＲｕＯ２から選択される、請求項７に記載の有機ＥＬ発光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010190890A JP4804585B2 (ja) | 2008-12-18 | 2010-08-27 | 有機ｅｌ発光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008322135 | 2008-12-18 | ||
| JP2008322135 | 2008-12-18 | ||
| JP2010190890A JP4804585B2 (ja) | 2008-12-18 | 2010-08-27 | 有機ｅｌ発光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010503306A Division JPWO2010070800A1 (ja) | 2008-12-18 | 2009-10-22 | 有機ｅｌ発光装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010262943A true JP2010262943A (ja) | 2010-11-18 |
| JP2010262943A5 JP2010262943A5 (ja) | 2011-01-27 |
| JP4804585B2 JP4804585B2 (ja) | 2011-11-02 |
Family
ID=42268486
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010503306A Pending JPWO2010070800A1 (ja) | 2008-12-18 | 2009-10-22 | 有機ｅｌ発光装置 |
| JP2010190890A Active JP4804585B2 (ja) | 2008-12-18 | 2010-08-27 | 有機ｅｌ発光装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010503306A Pending JPWO2010070800A1 (ja) | 2008-12-18 | 2009-10-22 | 有機ｅｌ発光装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8570252B2 (ja) |
| EP (1) | EP2360995A4 (ja) |
| JP (2) | JPWO2010070800A1 (ja) |
| CN (1) | CN102217420B (ja) |
| WO (1) | WO2010070800A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011165563A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用基板、有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2014115333A1 (ja) * | 2013-01-28 | 2017-01-26 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
| WO2014115334A1 (ja) * | 2013-01-28 | 2014-07-31 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
| US20140346468A1 (en) * | 2013-05-27 | 2014-11-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device having a channel in pixel defining layer |
| JPWO2015072063A1 (ja) * | 2013-11-12 | 2017-03-16 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | 有機ｅｌ表示パネルとその製造方法及び有機ｅｌ表示装置 |
| JPWO2015136579A1 (ja) * | 2014-03-13 | 2017-04-06 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | 有機ｅｌ表示パネルおよびその製造方法 |
| KR102312557B1 (ko) * | 2014-10-22 | 2021-10-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
| JP6500311B2 (ja) * | 2014-12-12 | 2019-04-17 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | 有機発光デバイス |
| KR102422995B1 (ko) * | 2015-10-08 | 2022-07-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광소자 표시장치 |
| CN105470283A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-04-06 | 昆山国显光电有限公司 | 一种oled面板 |
| KR20170080459A (ko) * | 2015-12-30 | 2017-07-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드표시장치 |
| JP6692900B2 (ja) * | 2016-05-18 | 2020-05-13 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | 有機ｅｌ表示パネル及びその製造方法 |
| JP6983391B2 (ja) * | 2017-04-06 | 2021-12-17 | 株式会社Joled | 有機ｅｌ素子、有機ｅｌ表示パネル、および、有機ｅｌ表示パネルの製造方法 |
| CN108511505B (zh) * | 2018-05-31 | 2021-09-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 |
| CN111192905A (zh) * | 2020-01-08 | 2020-05-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 有机发光二极体显示器件及其制造方法 |
| US11424270B2 (en) * | 2020-06-02 | 2022-08-23 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Flexible display device and manufacturing method thereof |
| TWI776244B (zh) * | 2020-09-28 | 2022-09-01 | 曜凌光電股份有限公司 | 發光二極體結構 |
| CN112133734B (zh) * | 2020-09-29 | 2022-08-30 | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 | 显示面板及显示装置 |
| CN115528063A (zh) * | 2021-06-24 | 2022-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法、显示装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002116715A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-04-19 | Toray Ind Inc | 表示装置 |
| WO2008149498A1 (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Panasonic Corporation | 有機ｅｌ素子、およびその製造方法 |
| WO2008149499A1 (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Panasonic Corporation | 有機ｅｌディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| JP2009063875A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Toppan Printing Co Ltd | パターン形成基板、カラーフィルタ、液晶表示装置 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100517424C (zh) * | 1997-08-21 | 2009-07-22 | 精工爱普生株式会社 | 显示装置 |
| JP3803342B2 (ja) | 1997-08-21 | 2006-08-02 | セイコーエプソン株式会社 | 有機半導体膜の形成方法、及びアクティブマトリクス基板の製造方法 |
| JP3580092B2 (ja) | 1997-08-21 | 2004-10-20 | セイコーエプソン株式会社 | アクティブマトリクス型表示装置 |
| CN100353548C (zh) * | 2000-11-17 | 2007-12-05 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 电发光器件及其制造方法 |
| KR100528910B1 (ko) | 2003-01-22 | 2005-11-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 고분자 유기 전계 발광 소자 |
| JP4401806B2 (ja) | 2003-02-18 | 2010-01-20 | シャープ株式会社 | 複合膜の製造方法、複合膜、カラーフィルタ、及びカラーフィルタを備えた表示装置 |
| JP4255724B2 (ja) | 2003-03-19 | 2009-04-15 | オプトレックス株式会社 | 有機ｅｌディスプレイの製造方法および有機ｅｌディスプレイ |
| US7923919B2 (en) * | 2004-10-28 | 2011-04-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Organic electroluminescent panel and production method thereof, and color filter substrate and production method thereof |
| JP4483757B2 (ja) | 2005-09-30 | 2010-06-16 | セイコーエプソン株式会社 | 有機ｅｌ装置及び光学装置 |
| JP2007227127A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Seiko Epson Corp | 発光装置およびその製造方法 |
| WO2008146470A1 (ja) | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Panasonic Corporation | 有機ｅｌデバイス及び表示装置 |
| JP4873321B2 (ja) * | 2007-08-17 | 2012-02-08 | 株式会社アルバック | はんだバンプの形成方法 |
| JP2009069996A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Sony Corp | 画像処理装置および画像処理方法、認識装置および認識方法、並びに、プログラム |
| JP2009129605A (ja) | 2007-11-21 | 2009-06-11 | Seiko Epson Corp | 発光装置及び電子機器 |
| JP2009258669A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-11-05 | Toppan Printing Co Ltd | パターン形成基板、パターン形成基板の製造方法、カラーフィルタ、液晶表示装置 |
-
2009
- 2009-10-22 JP JP2010503306A patent/JPWO2010070800A1/ja active Pending
- 2009-10-22 US US13/133,254 patent/US8570252B2/en active Active
- 2009-10-22 CN CN200980145195.6A patent/CN102217420B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-22 WO PCT/JP2009/005564 patent/WO2010070800A1/ja active Application Filing
- 2009-10-22 EP EP09833110A patent/EP2360995A4/en not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-08-27 JP JP2010190890A patent/JP4804585B2/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002116715A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-04-19 | Toray Ind Inc | 表示装置 |
| WO2008149499A1 (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Panasonic Corporation | 有機ｅｌディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| WO2008149498A1 (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Panasonic Corporation | 有機ｅｌ素子、およびその製造方法 |
| JP2009063875A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Toppan Printing Co Ltd | パターン形成基板、カラーフィルタ、液晶表示装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011165563A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用基板、有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2360995A4 (en) | 2013-01-23 |
| WO2010070800A1 (ja) | 2010-06-24 |
| US8570252B2 (en) | 2013-10-29 |
| CN102217420B (zh) | 2014-02-19 |
| JPWO2010070800A1 (ja) | 2012-05-24 |
| CN102217420A (zh) | 2011-10-12 |
| JP4804585B2 (ja) | 2011-11-02 |
| EP2360995A1 (en) | 2011-08-24 |
| US20110260955A1 (en) | 2011-10-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4804585B2 (ja) | 有機ｅｌ発光装置 | |
| US10547017B2 (en) | Organic light emitting diode display device and method of fabricating the same | |
| US7888867B2 (en) | Organic el device having bank with groove, organic el display panel, and method for manufacturing the organic el device | |
| JP4951151B2 (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネル | |
| US8901594B2 (en) | Organic EL display panel and method for manufacturing same | |
| JP5096648B1 (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| US10622414B2 (en) | Electroluminescent display device | |
| JP2010050107A (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネル | |
| JP2005327674A (ja) | 有機エレクトロルミネッセント表示素子、それを有する表示装置、及び、その製造方法 | |
| JP2008135318A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 | |
| JP2017092213A (ja) | 有機電界発光素子、表示装置および有機電界発光素子の製造方法 | |
| JPWO2006126304A1 (ja) | 発光回路基板及び発光表示装置 | |
| JP2010282903A (ja) | 有機ｅｌディスプレイパネル | |
| US20230413643A1 (en) | Display device and manufacturing method of display device | |
| US20230301141A1 (en) | Display device | |
| KR20150077157A (ko) | 유기전계발광표시소자 및 이의 제조방법 | |
| KR100747428B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자 | |
| CN116600590A (zh) | 显示装置 | |
| KR100719558B1 (ko) | 평판 표시 장치 | |
| JP2011103216A (ja) | 有機ｅｌディスプレイ | |
| KR20100124938A (ko) | 유기전계 발광소자 및 그 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100827 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20100928 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20101105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101228 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110217 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110624 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110719 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110809 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4804585 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140819 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S303 | Written request for registration of pledge or change of pledge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316303 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |