CN108511505B - 一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108511505B CN108511505B CN201810556743.5A CN201810556743A CN108511505B CN 108511505 B CN108511505 B CN 108511505B CN 201810556743 A CN201810556743 A CN 201810556743A CN 108511505 B CN108511505 B CN 108511505B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- defining
- pixel defining
- groove
- pixel
- trench
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 108010001267 Protein Subunits Proteins 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 11
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 9
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 4
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/60—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes
- H10K71/611—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes using printing deposition, e.g. ink jet printing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明公开一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,以使得设置于其中的膜层厚度均匀,从而保证显示装置的显示效果。所述像素界定层包括位于衬底基板上的至少一个界定单元组,每个所述界定单元组包括多个界定子单元,每个所述界定子单元包括界定部,每个所述界定单元组中的多个所述界定部相互连通。所述显示基板包括上述技术方案所提的像素界定层。本发明提供的像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置用于显示中。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
喷墨打印技术是一种无接触、无压力、无印版的印刷式成膜技术,其具有操作简单、成本低廉、易于实现大尺寸等优点,被广泛应用于制备显示领域。
具体的,喷墨打印技术是将成膜材料溶解在溶液中,制成成膜溶液,然后利用喷墨打印机的喷嘴将成膜溶液喷洒在基板表面,从而使得成膜溶液形成在基板表面进而成膜。例如:在制作OLED显示基板时,可利用喷墨打印机的各个喷嘴同时制作组分相同的各个发光膜层。然而由于喷墨打印机的各个喷嘴的喷出速度难以控制,使得各个喷嘴单位时间所喷出的成膜溶液的体积不同,影响成膜的均匀性,进而影响显示装置的显示。
发明内容
本发明的目的在于提供一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置,以使得发光膜层均匀性提高,从而保证显示装置的显示效果。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种像素界定层,该像素界定层包括位于衬底基板上的至少一个界定单元组,每个所述界定单元组包括多个界定子单元,每个所述界定子单元包括界定部,每个所述界定单元组中的多个所述界定部相互连通。
与现有技术相比,本发明提供的衬底基板中,每个界定单元组的多个界定部相互连通,使得采用溶液法制备膜层时,即使工艺原因使得最初各界定部中形成的成膜溶液之间存在不均一,如体积差异等,由于每个界定单元组的多个界定部相互连通,也能够通过每个界定单元组的各个界定部所形成的成膜溶液相互补充,使得每个界定单元组的各个界定部所形成的成膜溶液体积一致化,从而保证成膜均匀性提高;因此,本发明提供的像素界定层应用于OLED显示基板时,能够提高所制备的发光膜层的均匀性。
本发明还提供了一种显示基板,该显示基板包括衬底基板,以及形成在衬底基板表面的像素界定层,所述像素界定层为上述技术方案所述的像素界定层;每个界定单元组所包括的界定子单元中多个界定部均形成有发光膜层。
本发明还提供了一种显示基板的制作方法,该显示基板的制作方法包括:
提供一衬底基板;
在衬底基板的表面形成像素界定层,所述像素界定层为权利要求1~10任一项所述的像素界定层;
在所述像素界定层包括的每个界定单元组的多个界定部中形成成膜溶液;
使每个界定单元组内各个界定部的成膜溶液相互流动;
干燥所述成膜溶液,以形成所述发光膜层。
本发明还提供了一种显示装置,包括上述技术方案所述的显示基板。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本发明的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1为本发明实施例提供的像素界定层的示意图;
图2为图1中沿着A-A’方向的剖切示意图;
图3为图1中B1-B1’方向的剖切示意图;
图4为图1中B2-B2’方向的剖切示意图;
图5为本发明实施例提供的显示基板的示意图;
图6为本发明实施例提供的显示基板的制作方法流程图。
附图标记:
1-像素界定层, 11-导流槽;
12-像素定义槽, 101-第一连通槽;
102-第二连通槽, 111-第一界定子单元;
112-第二界定子单元, 113-第三界定子单元;
121-第一像素定义槽, 122-第二像素定义槽;
123-第三像素定义槽, 2-衬底基板;
3-发光膜层, 4-第一电极;
5-第二电极。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1~图5,本发明实施例提供的像素界定层1包括至少一个界定单元组,每个界定单元组包括多个界定部,每个界定单元组中多个界定部相互连通。
采用喷墨打印等工艺制作发光膜层3时,向每个界定单元的各个界定部形成成膜溶液,由于每个界定单元组的多个界定部相互连通,即使喷墨打印机的各个喷嘴喷出成膜溶液的速度不一致,使得相同时间内每个界定单元组的各个界定部所形成的成膜溶液体积有所差异,每个界定单元的各个界定部所形成的成膜溶液也能够通过自主相互流动的方式相互补充,使得每个界定单元组的各个界定部所形成的成膜溶液体积一致化,从而保证成膜均匀性提高。因此,本发明实施例提供的像素界定层1应用于OLED显示基板时,能够提高所制备的发光膜层的均匀性。
进一步,在成膜过程中,同一个界定单元组内各个界定部用于形成包括组分相同的发光膜层,所形成的成膜溶液组分相同,使得同一个界定单元组的各个界定部所形成的成膜溶液体积一致化的过程中,不会出现成膜溶液污染的问题,保证了各个发光膜层的正常发光。如相同颜色的相邻的界定子单元的发光层或者不同颜色的相邻的界定子单元的共通层可以设置在所述界定单元组中。
值得注意的是,理想情况下,成膜过程中,每个界定单元的各个界定部所形成的成膜溶液通过自主相互流动的方式相互补充后,每个界定单元的各个界定部最终所形成的膜层厚度应当相等。
需要说明的是,本发明实施例中,采用喷墨打印等成膜技术制备发光膜层3时,每个界定单元组的各个界定部所形成的成膜溶液通过自主相互流动的方式相互补充是指:同一界定单元组中,其中一个界定部内的成膜溶液较多,该界定部的成膜溶液向其他成膜溶液较少的界定部流动,以使得各个界定部的成膜溶液体积相等,从而达到相互补充成膜溶液的目的。
具体的,如图1~图5所示,上述每个界定部包括导流槽11,以及与导流槽11连通的像素定义槽12,像素定义槽12开设在导流槽11靠近衬底基板一侧的,相邻两个导流槽通过连通槽相互连通。其中,每个界定部所包括的像素定义槽12界定了发光膜层3的有效发光面积,其对应发光区域的大小。
在上述界定部结构中,每个界定部所包括的导流槽11与对应像素定义槽12连通,这使得向每个界定部所包括的像素定义槽12内形成成膜溶液时,只需要所形成的成膜溶液的体积大于像素定义槽12的体积,就能够使得成膜溶液从像素定义槽12溢流至对应导流槽11。而由于相邻两个导流槽通过连通槽相互连通,当其中一个导流槽11内的成膜溶液的体积与相邻的界定子单元所包括的导流槽11的成膜溶液的体积不同时,相邻两个导流槽内的成膜溶液能够利用连通槽自主相互流动,调节相邻两个导流槽11内的成膜溶液的体积,使得相邻两个导流槽内所容纳的成膜溶液的高度(导流槽的槽深方向)一致化,从而提高两个界定部所形成的膜层的厚度均匀性。
具体的,上述各个界定子单元所包括的像素定义槽12的深度相同,使得各个界定子单元内界定部所包括的像素定义槽内所容纳的成膜溶液的高度(像素定义槽的槽深方向)一致,而由于相邻两个导流槽内所容纳的成膜溶液的高度一致化,因此,本发明实施例提供的像素界定层1用于制作多个发光膜层时,可使得多个发光膜层3厚度均一。
需要说明的是,本发明实施例中每个界定部包括的导流槽和像素定义槽一一对应且连通,即每个界定部包括一个导流槽,则该导流槽内靠近衬底基板的一侧开设一个像素定义槽。
可选的,如图1~图3所示,上述导流槽11包括具有开口的底面,开口暴露出像素定义槽12,相邻的两个导流槽11的底面平齐,且相邻两个导流槽11之间的连通槽的槽底与相邻两个导流槽的槽底平齐,这使得相邻两个导流槽的槽底、以及该相邻两个导流槽之间的连通槽的槽底均处在平齐状态,以保证喷墨打印过程中,如果相邻两个界定子单元所包括的导流槽11内的成膜溶液体积不同,相邻两个界定子单元所包括的导流槽11内的成膜溶液在不受制约的情况下自主相互流动。
在喷墨打印等成膜工艺中,相邻两个导流槽之间的连通槽的槽底与相邻两个导流槽的槽底平齐,虽然相邻两个界定部所包括的导流槽11内的成膜溶液自主相互流动能够进行,但受到一定的阻碍。
当相邻两个导流槽之间的连通槽的槽底低于与相邻两个导流槽的槽底时,需要向每个界定部所包括的像素界定槽12内形成更多的成膜溶液,使得成膜溶液不仅溢流至对应的导流槽11内,而且还需要使得所溢流的成膜溶液的液面高于该导流槽11相邻的连通槽的槽底,这样才能够保证相邻两个导流槽的成膜溶液可以不受限制的自主流动。
当相邻两个导流槽之间的连通槽的槽底高于与相邻两个导流槽的槽底时,需要向每个界定部所包括的像素界定槽12内形成更多的成膜溶液,使得膜溶液溢流至对应的导流槽11内,而且由于相邻两个导流槽之间的连通槽的槽底高于与相邻两个导流槽的槽底,使得这些成膜溶液还通过导流槽11进入连通槽,使得连通槽内所容纳的成膜溶液的液面与相邻的导流槽11的槽底平齐,这样相邻两个导流槽的成膜溶液才能自主相互流动。
示例性的,如图1和图5所示,本发明实施例提供的像素界定层1中,每个界定单元组包括第一界定子单元111、第二界定子单元112和第三界定子单元113,第一界定子单元111、第二界定子单元112和第三界定子单元113所包括的界定部的均包括导流槽11,以及开设在导流槽11的槽底的像素定义槽12。其中,为了描述方便,将第一界定子单元111所包括的界定部的像素定义槽12设定为第一像素定义槽121,将第二界定子单元112所包括的界定部的像素定义槽12设定为第二像素定义槽122,将第三界定子单元113所包括的界定部的像素定义槽12设定为第三像素定义槽123,将第一界定子单元111所包括的界定部的导流槽设定为第一导流槽,将第二界定子单元112所包括的界定部的导流槽设定为第二导流槽,将第三界定子单元113所包括的界定部的导流槽设定为第三导流槽。当同一个界定单元组中,相邻两个界定子单元所包括的连通槽槽底平面平齐,相邻两个界定子单元所包括的导流槽11槽底平面与相邻两个界定子单元之间的连通槽槽底平面平齐,沿着B2-B2’方向剖切同一个界定单元组时,具体剖面结构如图4所示。
第一导流槽与第二导流槽通过第一连通槽101连通,第二导流槽与第三导流槽通过第二连通槽102连通。
如果第一导流槽槽底平面和第二导流槽槽底平面高于第一连通槽101的槽底平面,使得在喷墨打印等成膜工艺中,第一定义部的成膜溶液溢流至第一导流槽后,直接流入到第一连通槽101内;同理,第二定义部的成膜溶液溢流至第二导流槽后,直接流入到第一连通槽101内。当第一连通槽101被成膜溶液填满(此时第一连通槽101所容纳的成膜溶液的液面与第一导流槽和第二导流槽的槽底平齐)后,此时第一导流槽内的成膜溶液和第二导流槽溶液虽然能够相互补充,以弥补二者之间的体积差异,但是弥补二者之间的体积差异的速度比较慢,使得成膜效率降低。而且,虽然图4所示的情况能够达到弥补二者之间体积差异的目的,但是需要填满第一连通槽101后,才能达到弥补二者之间体积差异的目的,使得所需的成膜溶液较多,不利于节约成本。
如果第一导流槽槽底平面和第二导流槽槽底平面低于第一连通槽101的槽底平面。在喷墨打印等成膜工艺中,第一连通槽101的槽壁阻止第一导流槽内的成膜溶液流入第二导流槽内,此时需要向第一像素定义槽111内形成比较多的成膜溶液,使得成膜溶液不仅溢流至对应的第一导流槽内,而且还需要使得成膜溶液的液面与第一连通槽101的槽底平齐;同理需要向第二像素定义槽112内形成比较多的成膜溶液,使得成膜溶液不仅溢流至对应的第二导流槽内,而且还需要使得成膜溶液的液面与第一连通槽101的槽底平齐。由于成膜溶液的液面与第一连通槽101的槽底平齐,成膜溶液的液面与第一连通槽101的槽底平齐,因此,第一导流槽内的成膜溶液与第二导流槽内的成膜溶液相互自主流动。
进一步,如图2~图5所示,每个界定部所包括的导流槽的槽深大于对应导流槽的槽底开设的像素定义槽12的槽深,使得在喷墨打印等成膜工艺中,每个界定部所包括的像素定义槽12很快能够被成膜溶液填满而溢流至对应像素定义槽12所在的导流槽内,这样就加快了相邻两个界定部所包括的像素定义槽12所界定的发光膜层3的厚度均一化的过程。
需要说明的是,如图1~图5所示,本发明实施例中每个界定部内的像素定义槽12和导流槽11的结构多种多样。当像素定义槽12开设在导流槽的底面时,应当保证每个界定部所包括的像素定义槽在衬底基板的正投影位于对应导流槽在衬底基板的正投影内,这样才能够像素定义部所定义的发光膜层3的有效面积可控。
具体的,如图2~图5所示,每个界定子单元所包括的导流槽11的槽底面积应当大于对应像素定义槽12的槽口面积。而每个界定子单元所包括的导流槽11的槽口面积大于槽底面积,每个界定子单元所包括的像素定义槽12的槽口面积大于槽底面积,使得每个界定子单元所包括的导流槽11的槽壁和像素定义槽12的槽壁均可以为斜面结构。其中,每个界定子单元所包括的像素定义槽12的槽壁均为斜面结构时,相对于槽壁垂直于槽底的像素定义槽12,更容易的溢流至像素定义槽12对应的导流槽11,从而方便调节像素定义槽12所定义的发光膜层3的厚度。
需要说明的是,如果成膜溶液的溶剂为亲水性溶液,本发明实施例中像素定义槽的内表面为亲水性表面,导流槽的内表面和连通槽的内表面为疏水性表面。此时成膜溶液形成在相邻两个界定部所包括的导流槽之间自主流动达到平衡后,在成膜溶液所含有的溶剂蒸发过程中,成膜溶液所残留的亲水性溶剂无法在连通槽和导流槽留存,其只会携带成膜材料从连通槽和导流槽回缩到像素定义槽,使得最终所形成的膜层位于像素定义槽所限定的区域。
同理,如果成膜溶液为疏水性材料,本发明实施例中像素定义槽的内表面为疏水性表面,导流槽的内表面和连通槽的内表面为亲水性表面。此时成膜溶液形成在相邻两个界定部所包括的导流槽之间自主流动达到平衡后,在成膜溶液所含有的溶剂蒸发过程中,成膜溶液所残留的疏水性溶剂无法在连通槽和导流槽留存,其只会携带成膜材料从连通槽和导流槽回缩到像素定义槽,使得最终所形成的膜层位于像素定义槽所限定的区域。
本发明实施例还提供了一种显示基板,如图5所示,该显示基板包括衬底基板2,以及形成在衬底基板2表面的像素界定层1,像素界定层1为上述实施例提供的像素界定层1;每个界定单元组所包括的每个界定子单元中多个界定部均形成有发光膜层3。
与现有技术相比,本发明实施例提供的显示基板的有益效果与上述实施例提供的像素界定层1的有益效果相同,在此不做赘述。
可以理解的是,如图5所示,要使得发光膜层3发光,每个界定部所形成的发光膜层3与衬底基板对应的表面形成有第一电极4,每个界定部所形成的发光膜层背离衬底基板的表面形成有第二电极5,各个界定部所形成的膜层所对应的第二电极5可以连成一体,也可以独立设置,具体可根据实际情况设定。
需要说明的是,具体的,同一颜色的像素膜层位于同一列,则上述同一界定单元组的各个界定子单元所包括的界定部位于同一列;同一颜色的像素膜层位于同一行,则上述同一界定单元组的各个界定子单元所包括的界定部位于同一行。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法,如图1~图6所示,该显示基板的制作方法包括:
步骤S100:提供一衬底基板2;
步骤S200:在衬底基板2的表面形成像素界定层1,该像素界定层1为上述实施例提供的像素界定层1;
步骤S300:在像素界定层1包括的每个界定单元组的多个界定子单元所包括的界定部中形成成膜溶液;形成方式不仅限于喷墨打印,还可以是其他可实现的形成方式;
步骤S400:使每个界定单元组内各个界定子单元所包括的界定部的成膜溶液相互流动;
步骤S500:对界定单元组内各个界定部中所形成的成膜溶液执行干燥步骤,以形成所述发光膜层3,如在各界定单元组中的各界定部中形成所述发光膜层3。
与现有技术相比,本发明实施例提供的显示基板的制作方法的有益效果与上述实施例提供的像素界定层1的有益效果相同,在此不做赘述。
本发明实施例还提供了一种显示装置,该显示装置包括上述实施例提供的显示基板。
与现有技术相比,本发明实施例提供的显示装置的有益效果与上述实施例提供的显示基板的有益效果相同,在此不做赘述。
其中,上述实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在上述实施方式的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (14)
1.一种像素界定层,其特征在于,包括位于衬底基板上的至少一个界定单元组,每个所述界定单元组包括多个界定子单元,每个所述界定子单元包括界定部,每个所述界定单元组中的多个所述界定部相互连通;
每个所述界定部包括导流槽,以及与所述导流槽连通的像素定义槽;所述像素定义槽位于所述导流槽靠近所述衬底基板一侧;每个所述导流槽对应一个所述像素定义槽;相邻两个所述导流槽通过连通槽相互连通。
2.根据权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,每个所述界定单元组中用于设置包括组分相同的发光膜层。
3.根据权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,各个界定子单元中的界定部所包括的像素定义槽的深度相同。
4.根据权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,所述导流槽包括具有开口的底面,所述开口暴露出所述像素定义槽,相邻的两个所述导流槽的所述底面平齐。
5.根据权利要求4所述的像素界定层,其特征在于,相邻两个导流槽之间的连通槽的槽底与相邻两个导流槽的槽底平齐。
6.根据权利要求1以及权利要求3~5任一项所述的像素界定层,其特征在于,每个界定部所包括的像素定义槽在衬底基板的正投影位于对应导流槽在衬底基板的正投影内。
7.根据权利要求6所述的像素界定层,其特征在于,每个界定部所包括的导流槽的槽口面积大于槽底面积,每个界定子单元所包括的像素定义槽的槽口面积大于槽底面积,每个界定子单元所包括的导流槽的槽壁和像素定义槽的槽壁均为斜面结构,每个界定子单元所包括的导流槽的槽底面积大于对应像素定义槽的槽口面积。
8.根据权利要求1以及权利要求3~5任一项所述的像素界定层,其特征在于,每个界定部所包括的导流槽的槽深大于对应导流槽槽底开设的像素定义槽的槽深。
9.根据权利要求1以及权利要求3~5任一项所述的像素界定层,其特征在于,所述像素定义槽的内表面为亲水性表面,所述导流槽的内表面和所述连通槽的内表面为疏水性表面;或,
所述像素定义槽的内表面为疏水性表面,所述导流槽的内表面和所述连通槽的内表面为亲水性表面。
10.一种显示基板,其特征在于,包括衬底基板,以及形成在衬底基板表面的像素界定层,所述像素界定层为权利要求1~9任一项所述的像素界定层;每个界定单元组所包括的每个界定子单元中多个界定部均形成有发光膜层。
11.根据权利要求10所述的显示基板,其特征在于,每个所述界定部所形成的发光膜层与衬底基板对应的表面形成有第一电极,每个所述界定部所形成的发光膜层背离衬底基板的表面形成有第二电极。
12.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一衬底基板;
在衬底基板的表面形成像素界定层,所述像素界定层为权利要求1~9任一项所述的像素界定层;
在所述像素界定层包括的每个界定单元组的多个界定子单元所包括的界定部中形成成膜溶液;
使每个界定单元组内各个界定子单元所包括的界定部的成膜溶液相互流动;
干燥所述成膜溶液,以形成发光膜层。
13.根据权利要求12所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述在所述像素界定层包括的每个界定单元组的多个界定部中形成成膜溶液包括:
采用喷墨打印工艺在所述像素界定层包括的每个界定单元组的多个界定部中形成成膜溶液。
14.一种显示装置,包括权利要求10或11所述的显示基板。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810556743.5A CN108511505B (zh) | 2018-05-31 | 2018-05-31 | 一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 |
US16/353,768 US10868095B2 (en) | 2018-05-31 | 2019-03-14 | Pixel defining layer, display substrate and method for manufacturing the same, and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810556743.5A CN108511505B (zh) | 2018-05-31 | 2018-05-31 | 一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108511505A CN108511505A (zh) | 2018-09-07 |
CN108511505B true CN108511505B (zh) | 2021-09-03 |
Family
ID=63402283
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810556743.5A Active CN108511505B (zh) | 2018-05-31 | 2018-05-31 | 一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10868095B2 (zh) |
CN (1) | CN108511505B (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11322560B2 (en) * | 2017-04-27 | 2022-05-03 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display panel with channels in the pixel defining layer |
CN108919605B (zh) * | 2018-07-27 | 2021-12-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用 |
CN109273499B (zh) * | 2018-09-25 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板、显示面板及显示装置 |
CN110416433B (zh) * | 2019-08-02 | 2022-04-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定单元、像素界定结构、显示结构及显示装置 |
KR20210073199A (ko) * | 2019-12-10 | 2021-06-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 |
CN113013368B (zh) * | 2021-02-20 | 2022-07-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103165645A (zh) * | 2011-12-09 | 2013-06-19 | 索尼公司 | 显示单元及其制造方法,电子装置,照明单元,和发光器件及其制造方法 |
CN105206643A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-12-30 | Tcl集团股份有限公司 | 一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7768598B2 (en) * | 2007-03-06 | 2010-08-03 | Toppan Printing Co., Ltd. | Substrate having pattern, color filter, liquid crystal display and method of manufacturing color filter |
WO2010070800A1 (ja) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | パナソニック株式会社 | 有機el発光装置 |
CN103311269B (zh) * | 2013-05-29 | 2017-06-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种oled像素限定结构及其制作方法 |
-
2018
- 2018-05-31 CN CN201810556743.5A patent/CN108511505B/zh active Active
-
2019
- 2019-03-14 US US16/353,768 patent/US10868095B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103165645A (zh) * | 2011-12-09 | 2013-06-19 | 索尼公司 | 显示单元及其制造方法,电子装置,照明单元,和发光器件及其制造方法 |
CN105206643A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-12-30 | Tcl集团股份有限公司 | 一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10868095B2 (en) | 2020-12-15 |
CN108511505A (zh) | 2018-09-07 |
US20190371873A1 (en) | 2019-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108511505B (zh) | 一种像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 | |
CN108807457B (zh) | 阵列基板以及制作方法、oled器件及其制作方法、显示装置 | |
US10916532B2 (en) | Micro LED display panel and method for making same | |
CN111463353B (zh) | 一种显示基板及其制备方法、显示装置 | |
US10026792B2 (en) | Pixel definition layer and OLED device including the same | |
CN111312791B (zh) | 显示面板、其制作方法及显示装置 | |
JP2007188090A (ja) | 基板構造及び該基板構造上にパターン層を形成する方法 | |
CN110164908B (zh) | 像素界定层、oled器件、显示面板及其制作方法 | |
CN110854174B (zh) | 显示背板及其制备方法和显示装置 | |
JP2020536729A (ja) | 液体案内部品及びその使用方法、応用 | |
CN110459690B (zh) | 显示基板及其制备方法、显示装置、喷墨打印的方法 | |
CN113540188B (zh) | 显示基板和显示面板 | |
US11251241B2 (en) | Pixel defining structure and fabrication method thereof, display substrate and jet printing method | |
CN109119550B (zh) | 喷墨打印的方法、像素结构、oled基板、显示装置 | |
JP5432304B2 (ja) | インクジェット装置 | |
CN116033795A (zh) | 一种显示面板、其制作方法及显示装置 | |
CN110571246A (zh) | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 | |
CN113130611B (zh) | 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置 | |
CN111146255B (zh) | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 | |
WO2021227794A1 (zh) | 透明显示面板及其制备方法、显示装置 | |
CN114188391A (zh) | 显示面板及其制作方法 | |
CN114300586A (zh) | 一种发光器件制备方法、发光器件及显示装置 | |
CN111490072B (zh) | 显示器件及其制作方法 | |
CN220235344U (zh) | 显示面板和显示装置 | |
JP2011520654A (ja) | フレキシブル回路シール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |