JP2007188090A - 基板構造及び該基板構造上にパターン層を形成する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の基板構造は、基板と、撥インク性を有する少なくとも一つの単層構造の隔壁と、薄膜パターン層とを備え、前記隔壁は、前記基板の表面に設けられ、前記隣接する隔壁及び基板の間に第一収容空間を形成し、該第一収容空間は、インクジェット装置から吐出するインクを収容することに用いられ、前記薄膜パターン層は、前記第一収容空間の中に設けられ、前記少なくとも一つの隔壁は、少なくとも一つの第二収容空間を備え、該第二収容空間は、前記第一収容空間から溢れるインクを収容することに用いられる。
【選択図】図1
Description
前記第一収容空間の中のインクを乾燥固化して、前記基板構造の上に薄膜パターン層を形成する工程と、を備える。
11 予め成型基板
100、300 基板
104、304 隔壁
106 収容空間
110 インクジェット装置
112 インク
114、314 薄膜パターン層
200 フォトマスク
202 フォトレジスト層
1042 上表面
Claims (15)
- 基板と、撥インク性を有する複数の単層構造の隔壁と、薄膜パターン層とを備え、前記隔壁は、前記基板の表面に設けられ、前記隣接する隔壁及び基板の間に第一収容空間を形成し、該第一収容空間は、インクジェット装置から吐出するインクを収容することに用いられ、前記薄膜パターン層は、前記第一収容空間の中に設けられる基板構造であって、前記少なくとも一つの隔壁は、少なくとも一つの第二収容空間を備え、該第二収容空間は、前記第一収容空間から溢れるインクを収容することに用いられることを特徴とする基板構造。
- 前記隔壁の材質は、樹脂、又はカーボン・ブラック・フォトレジストであることを特徴とする請求項1に記載の基板構造。
- 前記基板は、ガラス、シリコンウエハー、金属板、又はプラスチック板のうちのいずれか一つであることを特徴とする請求項1に記載の基板構造。
- 前記基板と前記複数の隔壁とは、一体成型することを特徴とする請求項1に記載の基板構造。
- 前記少なくとも二つの第二収容空間は、互いに連通されることを特徴とする請求項1に記載の基板構造。
- 前記少なくとも二つの第二収容空間は、互いに連通され、且つ対応する第一収容空間の回りを囲むことを特徴とする請求項1に記載の基板構造。
- 前記インクと前記単層構造の隔壁との接触角は、15度より大きいが90度より小さいことを特徴とする基板構造。
- 前記インクと前記単層構造の隔壁との接触角は、20度より大きいが68度より小さいことを特徴とする基板構造。
- 請求項1に記載の基板構造を提供する工程と、
インクジェット装置によって、前記複数の第一収容空間の中にインクを吐出する工程と、
前記第一収容空間の中のインクを乾燥固化して、前記基板構造の上に薄膜パターン層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。 - 前記基板構造を提供する工程は、
基板を提供する工程と、
前記基板の上表面に第一フォトレジスト層を塗付する工程と、
前記第一フォトレジスト層と露光機光源との間に、前記第一収容空間及び前記第二収容空間の隔壁パターンを有する第一フォトマスクを配置し、且つ前記第一フォトレジスト層に露光を行う工程と、
現象方式を利用して、前記隔壁パターン以外の部分の前記フォトレジスト層を除去し、前記基板の上表面に複数の隔壁を形成する工程と、
を備えることを特徴とする請求項9に記載の基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。 - 前記第一フォトマスクは、グレー・スケールの設計を有するフォトマスクであることを特徴とする請求項10に記載の基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。
- 前記基板構造がカラーフィルタ基板であって、前記薄膜パターン層がカラー層であることを特徴とする請求項9に記載の基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。
- 前記基板の上に複数の隔壁を形成する工程は、
基板を提供する工程と、
前記基板の表面に第一フォトレジスト層を一層塗付する工程と、
前記第一フォトレジスト層と露光機光源との間に、前記第一収容空間及び前記第二収容空間の隔壁パターンを有する第二フォトマスクを配置し、且つ前記第一フォトレジスト層に露光を行う工程と、
前記第一フォトレジスト層と前記露光機光源との間に、前記第一収容空間の隔壁パターンを有する第三フォトマスクを配置し、且つ前記第一フォトレジスト層に露光を行う工程と、
現象及びエッチング方式を利用して、前記隔壁パターン以外の部分の前記第一フォトレジスト層を除去し、前記基板の上表面に複数の隔壁を形成する工程と、
を備えることを特徴とする請求項9に記載の基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。 - 前記基板構造を提供する工程は、
塑性成型機及び隔壁のパターンを有する金型を提供する工程と、
前記塑性成型機を利用して、前記金型の中に、基板構造用材料を射出する工程と、
金型から取り外して、基板の表面に複数の隔壁を持つ基板構造を得る工程と、
を備えることを特徴とする請求項9に記載の基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。 - 前記インクを乾燥固化し、薄膜パターン層を形成する工程は、主に、一つの真空吸着装置、一つの加熱装置又は一つの露光装置を採用して、収容空間のインクを乾燥固化するか、或いは上述の三種の装置のいずれか二種又は三種を同時に採用して乾燥固化を行うことを特徴とする請求項9に記載の基板構造の上に薄膜パターン層を形成する製造方法。
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