JP2007144418A - 薄膜パターン層を有する基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の薄膜パターン層を有する基板の製造方法は、撥インク性を有する複数の隔壁を有し、前記隣接する隔壁の間にそれぞれ収容空間を形成する予成形された基板を提供する工程と、固化できる成分を含むインクを前記複数の収容空間にそれぞれ吐出する工程であって、前記各収容空間に収容されるインクの体積が前記収容空間の容積より大きいところの工程と、前記インクを固化させ、前記インクの固化できる成分によって前記収容空間に薄膜パターン層を形成する工程と、を含む。前記薄膜パターン層の高さと隔壁の高さが略等しいから、前記製造方法が研磨とエッチング方法で隔壁と薄膜パターン層を研磨する必要がなく、均一度の要求を実現できる。
【選択図】図6
Description
11 予成形された基板
100、300 基板
104、304 隔壁
106 収容空間
110 インクジェット装置
112 インク
114、314 薄膜パターン層
200 フォトマスク
202 フォトレジスト層
1042 上表面
Claims (21)
- 撥インク性を有する複数の隔壁を有し、前記隣接する隔壁の間にそれぞれ収容空間を形成する予成形された基板を提供する工程と、
固化できる成分を含むインクを前記複数の収容空間にそれぞれ吐出する工程であって、前記各収容空間に収容されるインクの体積が前記収容空間の容積より大きいところの工程と、
前記インクを固化させ、前記インクの固化できる成分によって前記収容空間に薄膜パターン層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜パターン層を有する基板の製造方法。 - 前記インクの固化できる成分の体積は、それと対応する収容空間の容積の65%〜135%であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記インクの固化できる成分の体積は、それと対応する収容空間の容積の80%〜120%であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記インクとそれと対応する隔壁の接触角が15度〜90度であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記インクとそれと対応する隔壁の接触角が20度〜65度であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記隔壁が単層または多層からなることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 複数の隔壁を有し、前記隣接する隔壁の間にそれぞれ収容空間を形成する予成形された基板を提供する工程と、
固化できる成分を含むインクを前記複数の収容空間にそれぞれ吐出する工程であって、前記各収容空間に収容されるインクの固化できる成分の体積が前記収容空間の容積と略等しく、前記各収容空間に収容されるインクの体積がそれと対応する収容空間の容積より大きいところの工程と、
前記インクを固化させ、前記インクの固化できる成分によって前記収容空間に薄膜パターン層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜パターン層を有する基板の製造方法。 - 前記インクの固化できる成分の体積は、前記インクの体積の二分の一より小さいことを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記各収容空間に収容されるインクの体積は、少なくとも、それと対応する収容空間の容積の二倍であることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記予成形された基板の製造方法は、
基板を提供する工程と、
前記基板にフォトレジスト層を塗布する工程と、
フォトマスクを利用して、前記フォトレジスト層に露光を行う工程と、
前記フォトレジスト層に現像を行って、複数の隔壁を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。 - 前記予成形された基板は、塑性成型方法で製造されることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記インクは、インクジェット装置を利用して、前記収容空間に吐出することを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記インクジェット装置は、熱式のインクジェット装置または圧電式のインクジェット装置であることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記インクは、真空吸着装置、加熱装置または発光装置の一種または二種以上の装置を利用して固化を行うことを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記固化した後、前記基板の隔壁を部分的に除去することを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記各収容空間に吐出されたインクは、浮き出す液面を有することを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記薄膜パターン層の体積は、それと対応する収容空間の容積の50%〜135%であることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記薄膜パターン層の体積は、それと対応する収容空間の容積の70%〜120%であることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記薄膜パターン層の厚さは、それと対応する隔壁の高さの50%〜135%であることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 前記薄膜パターン層の厚さは、それと対応する隔壁の高さの70%〜120%であることを特徴とする請求項1または請求項7に記載の薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
- 撥インク性を有する複数の隔壁を有し、前記隣接する隔壁の間にそれぞれ収容空間を形成する予成形された基板を提供する工程と、
固化できる成分を含むインクを前記複数の収容空間にそれぞれ吐出する工程であって、前記各収容空間に収容されるインクの固化できる成分の体積が前記収容空間の容積と略等しく、前記各収容空間に収容されるインクの体積がそれと対応する前記収容空間の容積より大きいところの工程と、
前記インクを固化させ、前記インクの固化できる成分によって前記収容空間に薄膜パターン層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜パターン層を有する基板の製造方法。
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