CN113130611B - 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113130611B
CN113130611B CN202110390963.7A CN202110390963A CN113130611B CN 113130611 B CN113130611 B CN 113130611B CN 202110390963 A CN202110390963 A CN 202110390963A CN 113130611 B CN113130611 B CN 113130611B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
defining
substrate
pixel
display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202110390963.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113130611A (zh
Inventor
孙力
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202110390963.7A priority Critical patent/CN113130611B/zh
Publication of CN113130611A publication Critical patent/CN113130611A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113130611B publication Critical patent/CN113130611B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本公开实施例提供一种显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，以降低制作发光层时对喷墨打印的精度的要求，降低工艺难度。该显示基板母板包括衬底母板、像素界定层和挡墙，像素界定层设置于衬底母板上，且位于显示区；像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度；挡墙设置于衬底母板上，且位于打印区，挡墙限定出至少一个容纳槽，容纳槽与至少一列子像素开口连通；沿垂直于衬底母板的方向，挡墙的高度大于第一界定单元的高度。本公开用于显示装置。

Description

显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置。
背景技术
在电致发光显示面板的制作过程中，采用喷墨打印的工艺制作每个子像素对应的发光层，即利用喷墨打印设备的喷头向像素界定层中的每个开口内喷出墨水(发光层的材料与相应的溶剂形成的混合液)。
但是，在制作高分辨率的电致发光显示面板时，其像素界定层的开口密集，开口尺寸小，即每个开口对应的墨滴落点的分布区域小，这样对喷墨打印的精度的要求很高，工艺难度大。
发明内容
本公开提供一种显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置，以降低制作发光层时对喷墨打印的精度要求，降低工艺难度。
一方面，提供一种显示基板母板。所述显示基板母板包括两个或两个以上显示基板，至少一个显示基板具有显示区及位于所述显示区至少一侧的打印区；所述显示基板母板包括衬底母板、像素界定层和挡墙，所述像素界定层设置于所述衬底母板上，且位于所述显示区。所述像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度。所述挡墙设置于所述衬底母板上，且位于所述打印区。所述挡墙限定出至少一个容纳槽，所述容纳槽与至少一列子像素开口连通；沿垂直于所述衬底母板的方向，所述挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。
在一些实施例中，同一列子像素开口被配置为容纳相同颜色的墨水；每列子像素开口与至少一个所述容纳槽连通；所述多个子像素开口分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口；同一组中，至少有两列子像素开口被配置为容纳不同颜色的墨水，且至少有两列子像素开口分别与不同的容纳槽连通。
在一些实施例中，每组包括被配置为容纳第一颜色的墨水的第一子像素开口列、被配置为容纳第二颜色的墨水的第二子像素开口列、及被配置为容纳第三颜色的墨水的第三子像素开口列；其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色；所述挡墙限定出第一容纳槽、第二容纳槽和第三容纳槽，所述第一容纳槽与所述第一子像素开口列连通，所述第二容纳槽与所述第二子像素开口列连通，所述第三容纳槽与所述第三子像素开口列连通。
在一些实施例中，所述容纳槽包括容纳槽主体和至少一条连接通道，容纳槽主体被配置为容纳一种颜色的墨水；所述连接通道的一端与所述容纳槽主体连通，另一端与一列子像素开口连通。
在一些实施例中，同一组的多列子像素开口所连通的多个容纳槽的容纳槽主体沿列方向并列布置。
在一些实施例中，沿列方向且由所述显示区指向所述打印区的方向，同一组的多列子像素开口所连通的多个容纳槽的容纳槽主体的沿行方向的尺寸依次增大。
在一些实施例中，距离所述显示区相对较远的容纳槽主体所连通的连接通道，从距离所述显示区相对较近的容纳槽主体的一侧绕过。
在一些实施例中，所述显示基板母板还包括阻断部，所述阻断部设置于所述衬底母板上，所述阻断部设置于所述连接通道靠近所述子像素开口的一端，且沿行方向截断所述连接通道；沿垂直于所述衬底母板的方向，所述阻断部的高度小于所述第二界定单元的高度，所述阻断部具有疏液性。
在一些实施例中，所述阻断部包括多个阻挡单元，所述阻挡单元沿垂直于所述连接通道的延伸方向的方向延伸，且所述多个阻挡单元沿平行于所述连接通道的延伸方向的方向间隔排布。
在一些实施例中，沿垂直于所述衬底母板的方向，所述阻断部的高度小于所述第一界定单元的高度。
在一些实施例中，所述容纳槽主体的沿行方向的尺寸与一个子像素开口的沿行方向的尺寸的比值大于或等于2；所述容纳槽主体的沿列方向的尺寸与一个子像素开口的沿列方向的尺寸的比值大于或等于1。
在一些实施例中，沿行方向，所述连接通道的宽度与所述子像素开口的宽度的比值小于或等于1。
在一些实施例中，所述挡墙具有疏液性；所述第一界定单元具有亲液性；所述第二界定单元具有疏液性。
在一些实施例中，所述挡墙与所述第二界定单元材料相同且同层设置。
本公开提供的显示基板母板，在制备的过程中，可以在打印区的容纳槽对应喷出墨水，沿垂直于衬底母板的方向，当容纳槽内积蓄的墨水的深度大于第一界定单元时，该容纳槽内积蓄的墨水在第二界定单元以及挡墙的作用下，会流动到与其连通的子像素开口，干燥后使得该容纳槽对应连通的子像素开口形成发光层或彩膜层的滤光部。基于此，在打印区设置容纳槽，将每个容纳槽作为喷墨打印设备喷出墨水的落点的分布区域，相较于将每个子像素开口作为喷墨打印设备喷出墨水的落点的分布区域，容纳槽的尺寸不会受到显示面板的分辨率的限制。也就是说，在制作高分辨率的显示面板的过程中，容纳槽的尺寸可以设计的较大，以便于喷墨打印设备保证喷出的墨水分布在对应的容纳槽内，降低对喷墨打印的精度要求，降低工艺难度。
另一方面，提供一种显示基板。该显示基板具有显示区及位于所述显示区一侧的打印区，所述显示基板包括衬底、像素界定层和挡墙，所述像素界定层设置于所述衬底上，且位于所述显示区。所述像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度。所述挡墙设置于所述衬底上，且位于所述打印区。所述挡墙限定出至少一个容纳槽，所述容纳槽与一列子像素开口连通；沿垂直于所述衬底的方向，所述挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。
与现有技术相比，本公开实施例提供的显示基板的有益效果与上述任一实施例提供的显示基板母板的有益效果相同，在此不做赘述。
再一方面，提供一种显示基板。该显示基板具有显示区和位于所述显示区一侧阻断区，所述显示基板包括衬底、像素界定层、子像素界定挡墙和阻断部，所述像素界定层设置于所述衬底上，且位于所述显示区。所述像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度。所述子像素界定挡墙设置于所述衬底上，且位于所述阻断区。所述子像素界定挡墙包括多段沿行方向延伸的子挡墙，多段子挡墙与多条第二界定单元连接，每相邻的两段子挡墙之间留有间隙；沿垂直于所述衬底的方向，所述子挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。所述阻断部设置于所述衬底上，且位于所述阻断区。所述阻断部设置于所述间隙内，且沿垂直于所述衬底的方向，所述阻断部的高度小于所述第二界定单元的高度，所述阻断部具有疏液性。
与现有技术相比，本公开实施例提供的显示基板的有益效果与上述任一实施例提供的显示基板母板的有益效果相同，在此不做赘述。
又一方面，提供一种显示装置。该显示装置包括上述任一实施例所述的显示基板。
与现有技术相比，本公开实施例提供的显示装置的有益效果与上述任一实施例提供的显示基板母板的有益效果相同，在此不做赘述。
又一方面，提供一种显示基板母板的制备方法。该显示基板母板的制备方法用于制作上述任一实施例所述的显示基板母板，包括：提供一衬底母板；在所述衬底母板上形成多条沿行方向延伸的第一界定单元；在所述衬底母板上形成多条沿列方向延伸的第二界定单元和挡墙，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度；所述挡墙设置于所述衬底母板上且位于打印区，所述挡墙限定出至少一个容纳槽，所述容纳槽与至少一列子像素开口连通；沿垂直于所述衬底母板的方向，所述挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。
在一些实施例中，所述显示基板母板的制备方法还包括：在形成有所述子像素开口的衬底母板上形成发光层或彩色滤光层，同一列子像素开口内的发光层或彩色滤光层的颜色相同，且所述同一列子像素开口内的发光层或彩色滤光层的颜色与所述同一列子像素开口连通的容纳槽内的发光层或彩色滤光层的颜色相同；所述多个子像素开口分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口；同一组中，至少有两列子像素开口内的发光层或彩色滤光层的颜色不同，且至少有两列子像素开口分别与不同的容纳槽连通。
与现有技术相比，本公开实施例提供的显示基板母板的制备方法的有益效果与上述任一实施例提供的显示基板母板的有益效果相同，在此不做赘述。
附图说明
为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。
图1为根据一些实施例的显示装置的结构图；
图2为根据一些实施例的一种显示基板母板的结构图；
图3为根据一些实施例的另一种显示基板母板的结构图；
图4为根据一些实施例的又一种显示基板母板的结构图；
图5为根据一些实施例的再一种显示基板母板的结构图；
图6为根据一些实施例的一种显示基板的结构图；
图7为根据一些实施例的另一种显示基板的结构图；
图8为图2所示的显示基板母板的显示区与打印区交界处的局部放大俯视图；
图9为图4所示的显示基板母板的显示区与打印区交界处的局部放大俯视图；
图10为根据一些实施例的又一种显示基板母板的显示区与打印区交界处的局部放大俯视图；
图11为图8中I-I处的剖视图；
图12为图8中H-H处的剖视图；
图13为图8中M-M处的剖视图；
图14为图8中N-N处的剖视图；
图15为图8中G-G处剖视图；
图16为墨水在亲液性材料上的结构图；
图17为墨水在疏液性材料上的结构图；
图18为根据一些实施例的一种显示基板母板的制备方法的步骤流程图；
图19为根据一些实施例的又一种显示基板母板的制备方法的步骤流程图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。
本文中“适用于”或“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。
另外，“基于”的使用意味着开放和包容性，因为“基于”一个或多个所述条件或值的过程、步骤、计算或其他动作在实践中可以基于额外条件或超出所述的值。
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
在显示装置的制备过程中，通常是在显示基板母板上进行整体制作后再切割分离，以进一步完成后续工艺，从而提高显示装置的生产效率，降低生产成本。
如图1和图2所示，本公开的一些实施例提供了一种显示基板母板1000。该显示基板母板1000包括两个或两个以上显示基板100，至少一个显示基板100具有显示区AA及位于显示区AA一侧的打印区BB。其中，显示区AA为显示图像的区域，被配置为设置多个子像素110。
参阅图2和图5，显示基板母板1000包括衬底母板11、像素界定层12和挡墙13，像素界定层12设置于衬底母板11上，且位于显示区AA。像素界定层12包括多条沿行方向X延伸的第一界定单元121和多条沿列方向Y延伸的第二界定单元122，多条第一界定单元121和多条第二界定单元122限定出多个子像素开口123；沿垂直于衬底母板100的方向，第一界定单元121的高度小于第二界定单元122的高度(参阅图11)。挡墙13设置于衬底母板11上，且位于打印区BB，挡墙13限定出至少一个容纳槽134，容纳槽134与至少一列子像素开口123连通；参阅图14，沿垂直于衬底母板11的方向，挡墙13的高度大于第一界定单元121的高度。
本公开的一些实施例提供的显示基板母板1000，在制备的过程中，可以在打印区BB的容纳槽134对应喷出墨水，沿垂直于衬底母板11的方向，当容纳槽134内积蓄的墨水的深度大于第一界定单元121时，该容纳槽134内积蓄的墨水在第二界定单元122以及挡墙13的作用下，会流动到与其连通的子像素开口123，干燥后使得该容纳槽134对应连通的子像素开口123形成发光层或彩膜层的滤光部。
基于此，在打印区BB设置容纳槽134，将每个容纳槽13作为喷墨打印设备喷出墨水的落点的分布区域，相较于将每个子像素开口123作为喷墨打印设备喷出墨水的落点的分布区域，容纳槽13的尺寸不会受到显示面板的分辨率的限制。也就是说，在制作高分辨率的显示面板的过程中，容纳槽13的尺寸可以设计的较大，以便于喷墨打印设备保证喷出的墨水分布在对应的容纳槽13内，降低喷墨打印的精度要求，降低工艺难度。
需要说明的是，本文中所涉及的显示基板母板1000和显示基板100的结构，应用于电致发光显示面板，电致发光显示面板可以为有机电致发光显示面板(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)或量子点电致发光显示面板(Quantum Dot LightEmitting Diodes，简称QLED)。在这种情况下，所述像素界定层12为用于限定子像素110有效发光面积的膜层，所述墨水为用于形成OLED显示面板或QLED显示面板中的发光层的墨水。
此外，本文中所涉及的显示基板母板1000和显示基板100的结构，还可应用于显示面板中彩膜层的制备，显示面板可为液晶显示面板(Liquid Crystal Display，简称LCD)、OLED显示面板等包括彩膜层的显示面板。在这种情况下，所述像素界定层12为用于防止不同子像素110串色的遮光膜层(在一些实施例中也称黑矩阵)，所述墨水为用于形成彩膜层的滤光部(在一些实施例中也称彩色滤光层)的色阻材料墨水。
显示基板母板1000上还具有多个切割区CC，在完成显示基板的制作后，在切割区CC对显示基板母板1000进行切割，可得到多个独立的显示基板100。
在一些实施例中，如图2所示，多个显示区AA呈阵列状排列。其中，每个容纳槽134与一列子像素开口123连通；沿行方向X，每相邻的两个显示区AA之间设有一个切割区CC；沿列方向Y，每个显示区AA的一侧设有一个打印区BB，每个打印区BB与其相邻的另一个显示区AA之间设有一个切割区CC。
此处，如图6所示，通过切割区CC切割显示基板母板1000获得的显示基板100包括显示区AA与相邻的打印区BB。
在一些实施例中，如图3所示，多个显示区AA呈阵列状排列。其中，每个容纳槽134与一列子像素开口123连通；沿行方向X，每相邻的两个显示区AA之间设有一个切割区CC；沿列方向Y，每个显示区AA的一侧设有一个打印区BB，该打印区BB与相邻两个显示区AA之间均设有一个切割区CC。
此处，如图7所示，通过切割区CC切割显示基板母板1000获得的显示基板100，包括显示区AA，不包括打印区BB。
在另一些实施例中，如图4所示，多个显示区AA呈阵列状排列。其中，每个容纳槽134与两列子像素开口123连通，两列子像素开口123分别位于相邻的两个显示区AA；沿行方向X，每相邻的两个显示区AA之间设有一个切割区CC；沿列方向Y，每相邻的两个显示区AA形成一个子母板，在子母板中，沿列方向Y，两个显示区AA之间设有一个打印区BB，该打印区BB与其中一个显示区AA之间设有一个切割区CC。在这种情况下，通过设置一个打印区BB即可实现同时对两个显示器AA内的子像素开口123进行喷墨打印，提高了生产效率。
此处，通过切割区CC切割显示基板母板1000获得两种显示基板100，如图6所示，一种显示基板包括显示区AA与相邻的打印区BB；如图7所示，另一种显示基板100包括显示区AA，不包括打印区BB。
在又一些实施例中，如图5所示，多个显示区AA呈阵列状排列。其中，一列子像素开口123与两个容纳槽134连通；沿行方向X，每相邻的两个显示区AA之间设有一个切割区CC；沿列方向Y，每相邻的两个显示区AA之间设有一个切割区CC，每个显示区AA的两侧均设有一个打印区BB，每个打印区BB与其相邻的另一个显示区AA一侧的打印区BB之间设有一个切割区CC。在这种情况下，墨水从位于显示区AA两侧的打印区BB的容纳槽134向位于显示区AA对应的子像素开口123流动，提高了生产效率。
此处，如图5所示，通过切割区CC切割显示基板母板1000获得的显示基板100包括显示区AA与相邻的打印区BB。当然，未设有像素驱动电路的打印区BB也可以被切除，此处不做限定。
在一些实施例中，如图2和图6所示，同一列子像素开口123被配置为，容纳相同颜色的墨水；每列子像素开口123与至少一个容纳槽134连通。也就说是，同一列的多个子像素开口123被配置为，设置发光颜色相同的子像素110。多个子像素开口123分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口123；同一组中，至少有两列子像素开口123被配置为，容纳不同颜色的墨水，且至少有两列子像素开口123分别与不同的容纳槽134连通。也就是说，上述像素界定层12同一行的多个子像素开口123被配置为，周期性的设置发光颜色不同的子像素110，一个周期内的多个子像素110构成一组，即形成一个像素。
与之对应的，参阅图2和图6，上挡墙13包括多条沿列方向延伸的像素界定挡墙131、沿行方向延伸的边界挡墙132以及多条子像素界定挡墙133，每条像素界定挡墙131与一条第二界定单元122连接，沿行方向延伸的边界挡墙132与多条像素界定挡墙133限定出多个像素打印槽130，每个像素打印槽130对应一组子像素开口123；多条子像素界定挡墙133设置于像素打印槽130内，以限定出多个容纳槽134。
由上述可知，本公开的一些实施例提供的显示基板母板，通过像素界定挡墙131以及沿行方向延伸的边界挡墙132，可以将打印区BB根据显示区AA的像素划分出多个像素打印槽130，一个周期的多列子像素开口123对应一个像素打印槽130，像素打印槽130内的每个容纳槽134对应一列子像素开口123。也就是说，每个像素打印槽130的结构类似，便于设计；同时，不同的像素对应的打印区域可以很直观的区分开。
示例性地，如图6所示，每组子像素开口123包括被配置为容纳第一颜色的墨水的第一子像素开口列1231、被配置为容纳第二颜色的墨水的第二子像素开口列1232、及被配置为容纳第三颜色的墨水的第三子像素开口列1233；其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色，例如，第一颜色为红色，第二颜色为绿色，第三颜色为蓝色。
在此基础上，位于像素两侧的第二界定单元122均与一条像素界定挡墙131直接连接，即每相邻的四条第二界定单元122中，位于边缘的两条第二界定单元122沿列方向Y延伸与一条像素界定挡墙131连接。此时，像素界定挡墙131与边界挡墙132限定出多个像素打印槽130，每个像素打印槽130均对应一列像素。每个像素打印槽130内设有两条子像素界定挡墙133，以限定出一个第一容纳槽1341、第二容纳槽1342以及一个第三容纳槽1343，第一容纳槽1341与一列第一子像素开口列1231连通，第二容纳槽1342与一列第二子像素开口列1232连通，第三容纳槽1343与第三子像素开口列1233连通。
在一些实施例中，参阅图8，上述容纳槽134包括容纳槽主体1340和至少一条连接通道1350，连接通道1350的一端与容纳槽主体1340连通，另一端与一列子像素开口123连通。其中，容纳槽主体1340被配置为容纳一种颜色的墨水，即容纳槽主体1340为喷墨打印对应的墨水的分布区域。
示例性地，如图8所示，上述容纳槽134包括容纳槽主体1340和一条连接通道1350，连接通道1350的一端与容纳槽主体1340连通，另一端与一列子像素开口123连通。
示例性地，参阅图4和图9，上述容纳槽134包括容纳槽主体1340和两条连接通道1350，其中一条连接通道1350的一端与容纳槽主体1340连通，另一端与相邻的一个显示区AA内的一列子像素开口123连通，剩余的一条连接通道1350的一端与容纳槽主体1340连通，另一端与相邻的另一个显示区AA内的一列子像素开口123连通。
在一些实施例中，如图8所示，容纳槽主体1340的沿行方向的尺寸与一个子像素开口123的沿行方向的尺寸的比值大于或等于2；容纳槽主体1340的沿列方向的尺寸与一个子像素开口123的沿列方向的尺寸的比值大于或等于1。
需要说明的是，容纳槽主体1340的沿行方向的尺寸与一个子像素开口123的沿行方向的尺寸的比值只要大于1即可，示例性地，容纳槽主体1340的沿行方向的尺寸与一个子像素开口123的沿行方向的尺寸的比值为1.2、1.4、1.6等，本公开不限于此，
此外，沿行方向，连接通道1350的宽度与子像素开口123的宽度的比值小于或等于1。示例性地，连接通道1350的宽度与子像素开口123的宽度的比值为1/4、1/5、1/10。
在一些实施例中，如图8所示，同一组的多列子像素开口123所连通的多个容纳槽134的容纳槽主体1340沿列方向Y并列布置。即每个像素打印槽130内的多个容纳槽主体1340沿列方向Y并列布置。
此外，沿列方向Y且由显示区AA指向打印区BB的方向，同一组的多列子像素开口123所连通的多个容纳槽134的容纳槽主体1340的沿行方向X的尺寸依次增大。
在此基础上，如图6和图8所示，与显示区AA相对较远的容纳槽主体1340的连接通道1350，从与显示区AA相对较近的容纳槽主体1340的一侧绕过，这样有助于像素打印槽130的每个容纳槽主体1340设计的尺寸较大，即喷墨打印设备喷出墨水的落点的分布区域较大，有利于降低制作发光层或彩膜层的滤光部时对喷墨打印的精度要求，降低工艺难度。
在一些实施例中，如图2和图8所示，显示基板母板还包括阻断部14，阻断部14设置于衬底母板11上，位于连接通道1350靠近子像素开口123的一端，且截断连接通道1350；参阅图13，沿垂直于衬底母板11的方向，阻断部14的高度小于第二界定单元122的高度。
上述阻断部14具有疏液性，参阅图8和图17，疏液性是指墨水在阻断部14的表面时，其接触角θ大于90°，例如，接触角θ为150°。也就是说，制作阻断部14所采用的材料与墨水互相排斥，以使得墨水不易漫过阻断部14。其中，接触角θ是指墨水在材料上形成的墨滴与材料接触的端部的切线与材料的接触面所形成的夹角。
由上述可知，在衬底母板11上的子像素开口123内填满墨水后，通过蒸发墨水中的溶剂，形成发光层或彩膜层的滤光部。在蒸发墨水中的溶剂的过程中，子像素开口123以及容纳槽134内的墨水的体积不断减小，在容纳槽134内的墨水的高度等于或小于阻断部14的高度时，由于阻断部14具有疏液性，阻断部14上的墨水大部分会流动至子像素开口123和/或容纳槽134内，使得最终形成的发光层或彩膜层的滤光部在阻断部14上断开，即阻断部14远离衬底111的表面上不存在墨水的残留。这样的话，沿阻断部14将打印区BB切除掉后，有利于后续的封装，以满足对水、氧的阻隔能力。
在一些实施例中，如图8和图12，沿垂直于衬底母板11的方向，阻断部14的高度小于第一界定单元121的高度，这样的话，阻挡部14不会对容纳槽13内的墨水漫过第二界定单元122并进入对应的子像素开口123造成影响；同时，避免由于阻挡部14的阻挡，使得对应的一列子像素开口123中积蓄过多的墨水。
在一些实施例中，如图10所示，阻断部14包括多个阻挡单元141，阻挡单元141沿垂直于连接通道1350的延伸方向的方向延伸，且多个阻挡单元141沿平行于连接通道1350的延伸方向的方向间隔排布，以提高最终形成的发光层或彩膜层的滤光部在阻断部14上断开的概率，从而使得沿阻断部14将打印区BB切除掉后，保证后续的有效封装。图10中以3条阻挡单元141为例进行示意。
在一些实施例中，如图6和图16所示，上述第一界定单元121具有亲液性，亲液性是指墨水在第一界定单元121的表面时，其接触角θ小于90°，例如，接触角θ为70°。也就是说，制作第一界定单元121所采用的材料与墨水互相吸引，以使墨水容易漫过第一界定单元121。
在一些实施例中，如图6和图17所示，第二界定单元122具有疏液性，疏液性是指墨水在第二界定单元122的表面时，其接触角θ大于90°，例如，接触角θ为150°。也就是说，制作第二界定单元122所采用的材料与墨水互相排斥，以使得墨水不易漫过第二界定单元122。
在一些实施例中，如图6和图17所示，上述挡墙13具有疏液性，疏液性是指墨水在挡墙13的表面时，其接触角θ大于90°，例如，接触角θ为150°。也就是说，制作挡墙13所采用的材料与墨水互相排斥，以使得墨水不易漫过挡墙13。
在一些实施例中，上述第二界定单元122、挡墙13以及阻断部14材料相同且同层设置。也就是说，上述第二界定单元122、挡墙13以及阻断部14可以一体成型，第一界定单元121单独成型。示例性地，首先，第一界定单元121通过涂布、曝光、显影以及刻蚀形成在衬底母板11上；然后，第二界定单元122、挡墙13和阻断部14，依次通过涂布、曝光、显影以及刻蚀形成在衬底母板11上；其中，第二界定单元122和挡墙13的可以高度一致，阻断部14的高度低于挡墙13，故曝光的过程中需要采用半透掩膜板，以使阻断部14的高度低于挡墙13。
在另一些实施例中，上述第二界定单元122以及挡墙13材料相同且同层设置。也就是说，第二界定单元122和挡墙13可以一体形成，第一界定单元121和阻断部14均单独成型。示例性地，首先，第一界定单元121通过涂布、曝光、显影以及刻蚀形成在衬底母板11上；其次，阻断部14通过涂布、曝光、显影以及刻蚀形成在衬底母板11上；最后，第二界定单元122和挡墙13依次通过涂布、曝光、显影以及刻蚀形成在衬底母板11上。
如图6所示，本公开的一些实施例还提供了一种显示基板100。该显示基板100具有显示区AA及位于显示区AA一侧的打印区BB，显示基板100的显示区设有多个子像素110。
在一些实施例中，如图6和图15所示，显示基板100的每个子像素110(参阅图1)均包括衬底111、设置于衬底111上的发光器件和像素驱动电路，像素驱动电路包括多个薄膜晶体管113。薄膜晶体管113包括有源层、源极、漏极、栅极及栅绝缘层，源极和漏极分别与有源层接触。沿垂直于衬底111且远离衬底111的方向，发光器件包括第一电极112、发光功能层113和第二电极114。
在一些实施例中，发光功能层113仅包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层113除包括发光层外，还包括电子传输层(election transporting layer，简称ETL)、电子注入层(election injection layer，简称EIL)、空穴传输层(hole transporting layer，简称HTL)和空穴注入层(hole injection layer，简称HIL)中的至少一个。
此外，第一电极112为发光器件的阳极，第二电极114为发光器件的阴极；或者，第一电极112为发光器件的阴极，第二电极114为发光器件的阳极。以上情况均可，具体根据实际情况选择设置。
示例性地，如图15所示，第一电极112为发光器件的阳极，第二电极114为发光器件的阴极。第一电极112和多个薄膜晶体管113中作为驱动晶体管的薄膜晶体管113的源极或漏极电连接。
如图15所示，显示基板100还包括设置于薄膜晶体管113和第一电极112之间的第一平坦层115。
此外，显示基板100还包括彩膜层，位于第二电极114远离衬底111的一侧，彩膜层包括黑矩阵图案BM(Black Matrix，简称BM)以及位于黑矩阵图案BM所形成的开口内的彩色滤光层CF(Color Filter，简称CF)。
在此基础上，如图15所示，显示基板100还包括保护层117，保护层117位于彩膜层与第二电极114之间。
如图6和图15所示，本公开的一些实施例的显示基板100还包括像素界定层12和挡墙13，像素界定层12设置于衬底111上，且位于显示区AA。像素界定层12包括多条沿行方向X延伸的第一界定单元121和多条沿列方向Y延伸的第二界定单元122，多条第一界定单元121和多条第二界定单元122限定出多个子像素开口123，一个发光器件112设置于一个子像素开口123内；沿垂直于衬底111的方向，第一界定单元121的高度小于第二界定单元122的高度。挡墙13设置于衬底111上，且位于打印区BB，挡墙13限定出至少一个容纳槽134，容纳槽134与一列子像素开口123连通；参阅图14，沿垂直于衬底111的方向，挡墙13的高度大于第一界定单元121的高度。
本公开实施例提供的显示基板可以由如上任一实施例提供的显示基板母板1000在切割后获得，其所能实现的有益效果，与上述任一实施例提供的显示基板母板1000所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。
如图7所示，本公开的另一些实施例还提供了一种显示基板100。该显示基板100具有显示区AA和位于显示区AA一侧阻断区DD。
其中，阻断区DD可以是上述显示基板母板1000的打印区BB与对应的显示区AA之间的切割区CC的一部分。显示区AA设有多个子像素110，子像素110的结构及作用参照前面，此处不再赘述。
在此基础上，显示基板100还包括像素界定层12、子像素界定挡墙133和阻断部14，像素界定层12设置于衬底111上，且位于显示区AA，像素界定层12包括多条沿行方向X延伸的第一界定单元121和多条沿列方向Y延伸的第二界定单元122，多条第一界定单元121和多条第二界定单元122限定出多个子像素开口123；沿垂直于衬底111的方向，第一界定单元121的高度小于第二界定单元122的高度。子像素界定挡墙133设置于衬底111上，且位于阻断区DD。子像素界定挡墙133包括多段沿行方向X延伸的子挡墙1331，多段子挡墙1331与多条第二界定单元122连接，每相邻的两段子挡墙1331之间留有间隙；沿垂直于衬底111的方向，子挡墙1331的高度大于第一界定单元121的高度。阻断部14设置于衬底111上，且位于阻断区DD，阻断部14设置于间隙内；参阅图13，沿垂直于衬底111的方向，阻断部14的高度小于第二界定单元122的高度，阻断部14具有疏液性。
本公开实施例提供的显示基板100可以由如上任一实施例提供的显示基板母板1000在切割后获得，其所能实现的有益效果，与上述任一实施例提供的显示基板母板1000所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。
此外，显示基板100还包括设置于第二电极114远离衬底111的一侧的封装层116。
此时，在制作发光层或彩膜层的滤光部的过程中，由于阻断部14能够截断墨水，因此，阻断部14远离衬底111的表面上不存在墨水的残留，这样的封装层116可以与阻断部14直接接触，以形成封装，提高封装效果。
如图1所示，本公开的一些实施例还提供了一种显示装置10，该显示装置10包括上述任一实施例的显示基板100。
此处，显示装置10可以为电视、电脑、笔记本电脑、手机、平板电脑、个人数字助理(personal digital assistant，简称PDA)、车载电脑等。
与现有技术相比，本公开实施例提供的显示装置10的有益效果与上述任一实施例提供的显示基板母板1000的有益效果相同，在此不做赘述。
如图18所示，本公开的一些实施例还提供了一种显示基板母板1000的制备方法。该显示基板母板1000的制备方法用于制作上述任一实施例所述的显示基板母板1000，包括S1～S3。
S1、提供一衬底母板11。
S2、在衬底母板11上形成多条沿行方向延伸的第一界定单元121。
示例性地，利用涂布工艺形成第一绝缘薄膜，再利用曝光、显影以及刻蚀获第一界定单元121。
S3、在衬底母板11上形成多条沿列方向延伸的第二界定单元122和挡墙13。
其中，多条第一界定单元121和多条第二界定单元122限定出多个子像素开口123；沿垂直于衬底母板11的方向，第一界定单元121的高度小于第二界定单元122的高度；挡墙13设置于衬底母板11上且位于打印区BB，挡墙13限定出至少一个容纳槽134，容纳槽134与至少一列子像素开口123连通；沿垂直于衬底母板11的方向，挡墙13的高度大于第一界定单元121的高度。
示例性地，利用涂布工艺形成第二绝缘薄膜，再利用曝光、显影以及刻蚀获第二界定单元122和挡墙13，第二界定单元122和挡墙13材料相同且可以同层设置。
与现有技术相比，本公开实施例提供的显示基板母板1000的制备方法的有益效果与上述任一实施例提供的显示基板母板1000的有益效果相同，在此不做赘述。
在一些实施例中，如图19所示，显示基板母板1000的制备方法还包括：
S4、在形成有子像素开口123的衬底母板11上形成发光层或彩色滤光层。
其中，同一列子像素开口123内的发光层或彩色滤光层的颜色相同，且同一列子像素开口123内的发光层或彩色滤光层的颜色与同一列子像素开口123连通的容纳槽134内的发光层或彩色滤光层的颜色相同；多个子像素开口123分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口123；同一组中，至少有两列子像素开口123内的发光层或彩色滤光层的颜色不同，且至少有两列子像素开口123分别与不同的容纳槽134连通。
示例性地，显示基板母板1000应用于电致发光显示面板，电致发光显示面板可以为有机电致发光显示面板(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)或量子点电致发光显示面板(Quantum Dot Light Emitting Diodes，简称QLED)。
在这种情况下，在形成有子像素开口123的衬底母板11上形成发光层，同一列子像素开口123内的发光层的颜色(发光颜色)相同，且同一列子像素开口123内的发光层的颜色与同一列子像素开口123连通的容纳槽内的发光层的颜色相同；多个子像素开口123分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口123；同一组中，至少有两列子像素开口123内的发光层的颜色不同，且至少有两列子像素开口123分别与不同的容纳槽134连通。
这里，可以利用喷墨打印工艺在每个容纳槽134内喷出墨水，墨水通过流动填充对应列的子像素开口123，经干燥后，形成发光层。墨水为用于形成OLED显示面板或QLED显示面板中的发光层的墨水。
示例性地，显示基板母板1000应用于显示面板中彩膜层的制备，显示面板可为液晶显示面板(Liquid Crystal Display，简称LCD)、OLED显示面板等包括彩膜层的显示面板。
在这种情况下，在形成有子像素开口123的衬底母板11上形成彩色滤光层，同一列子像素开口123内的彩色滤光层的颜色(色阻材料的颜色)相同，且同一列子像素开口123内的彩色滤光层的颜色与同一列子像素开口123连通的容纳槽134内的彩色滤光层的颜色相同；多个子像素开口123分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口123；同一组中，至少有两列子像素开口123内的彩色滤光层的颜色不同，且至少有两列子像素开口123分别与不同的容纳槽134连通。
这里，可以利用喷墨打印工艺在每个容纳槽134内喷出墨水，墨水通过流动填充对应列的子像素开口123，经干燥后，形成彩色滤光层。墨水为用于形成彩色滤光层的滤光部的色阻材料墨水。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (19)

1.一种显示基板母板，其特征在于，包括两个或两个以上显示基板，至少一个显示基板具有显示区及位于所述显示区至少一侧的打印区；所述显示基板母板包括：
衬底母板；
设置于所述衬底母板上且位于所述显示区的像素界定层，所述像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度；
设置于所述衬底母板上且位于所述打印区的挡墙，所述挡墙限定出至少一个容纳槽，所述容纳槽与至少一列子像素开口连通；沿垂直于所述衬底母板的方向，所述挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。
2.根据权利要求1所述的显示基板母板，其特征在于，同一列子像素开口被配置为容纳相同颜色的墨水；每列子像素开口与至少一个所述容纳槽连通；
所述多个子像素开口分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口；同一组中，至少有两列子像素开口被配置为容纳不同颜色的墨水，且至少有两列子像素开口分别与不同的容纳槽连通。
3.根据权利要求2所述的显示基板母板，其特征在于，每组包括被配置为容纳第一颜色的墨水的第一子像素开口列、被配置为容纳第二颜色的墨水的第二子像素开口列、及被配置为容纳第三颜色的墨水的第三子像素开口列；其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色；
所述挡墙限定出第一容纳槽、第二容纳槽和第三容纳槽，所述第一容纳槽与所述第一子像素开口列连通，所述第二容纳槽与所述第二子像素开口列连通，所述第三容纳槽与所述第三子像素开口列连通。
4.根据权利要求2所述的显示基板母板，其特征在于，所述容纳槽包括：
容纳槽主体，被配置为容纳一种颜色的墨水；
至少一条连接通道，所述连接通道的一端与所述容纳槽主体连通，另一端与一列子像素开口连通。
5.根据权利要求4所述的显示基板母板，其特征在于，同一组的多列子像素开口所连通的多个容纳槽的容纳槽主体沿列方向并列布置。
6.根据权利要求5所述的显示基板母板，其中，沿列方向且由所述显示区指向所述打印区的方向，同一组的多列子像素开口所连通的多个容纳槽的容纳槽主体的沿行方向的尺寸依次增大。
7.根据权利要求5所述的显示基板母板，其特征在于，距离所述显示区相对较远的容纳槽主体所连通的连接通道，从距离所述显示区相对较近的容纳槽主体的一侧绕过。
8.根据权利要求4所述的显示基板母板，其特征在于，所述显示基板母板还包括：
阻断部，设置于所述连接通道靠近所述子像素开口的一端，且截断所述连接通道；沿垂直于所述衬底母板的方向，所述阻断部的高度小于所述第二界定单元的高度，所述阻断部具有疏液性。
9.根据权利要求8所述的显示基板母板，其特征在于，所述阻断部包括多个阻挡单元，所述阻挡单元沿垂直于所述连接通道的延伸方向的方向延伸，且所述多个阻挡单元沿平行于所述连接通道的延伸方向的方向间隔排布。
10.根据权利要求8所述的显示基板母板，其特征在于，沿垂直于所述衬底母板的方向，所述阻断部的高度小于所述第一界定单元的高度。
11.根据权利要求4所述的显示基板母板，其特征在于，所述容纳槽主体的沿行方向的尺寸与一个子像素开口的沿行方向的尺寸的比值大于或等于2；
所述容纳槽主体的沿列方向的尺寸与一个子像素开口的沿列方向的尺寸的比值大于或等于1。
12.根据权利要求4所述的显示基板母板，其特征在于，沿行方向，所述连接通道的宽度与所述子像素开口的宽度的比值小于或等于1。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的显示基板母板，其特征在于，所述挡墙具有疏液性；所述第一界定单元具有亲液性；所述第二界定单元具有疏液性。
14.根据权利要求1～12中任一项所述的显示基板母板，其特征在于，所述挡墙与所述第二界定单元材料相同且同层设置。
15.一种显示基板，其特征在于，具有显示区及位于所述显示区一侧的打印区；所述显示基板包括：
衬底；
设置于所述衬底上且位于所述显示区的像素界定层，所述像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度；
设置于所述衬底上且位于所述打印区的挡墙，所述挡墙限定出至少一个容纳槽，所述容纳槽与一列子像素开口连通；沿垂直于所述衬底的方向，所述挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。
16.一种显示基板，其特征在于，具有显示区和位于所述显示区一侧阻断区；所述显示基板包括：
衬底；
设置于所述衬底上且位于所述显示区的像素界定层，所述像素界定层包括多条沿行方向延伸的第一界定单元和多条沿列方向延伸的第二界定单元，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度；
设置于所述衬底上且位于所述阻断区的子像素界定挡墙，所述子像素界定挡墙包括多段沿行方向延伸的子挡墙，多段子挡墙与多条第二界定单元连接，每相邻的两段子挡墙之间留有间隙；沿垂直于所述衬底的方向，所述子挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度；
设置于所述衬底上且位于所述阻断区的阻断部，所述阻断部设置于所述间隙内；沿垂直于所述衬底的方向，所述阻断部的高度小于所述第二界定单元的高度，所述阻断部具有疏液性。
17.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求15或16所述的显示基板。
18.一种显示基板母板的制备方法，其特征在于，用于制作如权利要求1～14中任一项所述的显示基板母板，包括：
提供一衬底母板；
在所述衬底母板上形成多条沿行方向延伸的第一界定单元；
在所述衬底母板上形成多条沿列方向延伸的第二界定单元和挡墙，多条第一界定单元和多条第二界定单元限定出多个子像素开口；沿垂直于所述衬底母板的方向，第一界定单元的高度小于第二界定单元的高度；所述挡墙设置于所述衬底母板上且位于打印区，所述挡墙限定出至少一个容纳槽，所述容纳槽与至少一列子像素开口连通；沿垂直于所述衬底母板的方向，所述挡墙的高度大于所述第一界定单元的高度。
19.根据权利要求18所述的显示基板母板的制备方法，其特征在于，还包括：
在形成有所述子像素开口的衬底母板上形成发光层或彩色滤光层，同一列子像素开口内的发光层或彩色滤光层的颜色相同，且所述同一列子像素开口内的发光层或彩色滤光层的颜色与所述同一列子像素开口连通的容纳槽内的发光层或彩色滤光层的颜色相同；
所述多个子像素开口分为多组，每组包括相邻的多列子像素开口；同一组中，至少有两列子像素开口内的发光层或彩色滤光层的颜色不同，且至少有两列子像素开口分别与不同的容纳槽连通。
CN202110390963.7A 2021-04-12 2021-04-12 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置 Active CN113130611B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110390963.7A CN113130611B (zh) 2021-04-12 2021-04-12 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110390963.7A CN113130611B (zh) 2021-04-12 2021-04-12 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113130611A CN113130611A (zh) 2021-07-16
CN113130611B true CN113130611B (zh) 2022-07-12

Family

ID=76776588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110390963.7A Active CN113130611B (zh) 2021-04-12 2021-04-12 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113130611B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114361229A (zh) * 2022-01-04 2022-04-15 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置
US20240276773A1 (en) * 2022-06-29 2024-08-15 Boe Technology Group Co., Ltd. Display panel and method for manufacturing same, and display device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105527746A (zh) * 2016-02-15 2016-04-27 京东方科技集团股份有限公司 显示母板及其制作方法、显示装置
WO2018196271A1 (en) * 2017-04-27 2018-11-01 Boe Technology Group Co., Ltd. A display panel, a display apparatus, and a method thereof
CN208298874U (zh) * 2018-05-30 2018-12-28 云谷（固安）科技有限公司 一种防溢出构件和有机电致发光显示装置
CN112186016A (zh) * 2020-09-29 2021-01-05 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、其制备方法及显示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105527746A (zh) * 2016-02-15 2016-04-27 京东方科技集团股份有限公司 显示母板及其制作方法、显示装置
WO2018196271A1 (en) * 2017-04-27 2018-11-01 Boe Technology Group Co., Ltd. A display panel, a display apparatus, and a method thereof
CN208298874U (zh) * 2018-05-30 2018-12-28 云谷（固安）科技有限公司 一种防溢出构件和有机电致发光显示装置
CN112186016A (zh) * 2020-09-29 2021-01-05 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、其制备方法及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN113130611A (zh) 2021-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108807457B (zh) 阵列基板以及制作方法、oled器件及其制作方法、显示装置
US7503823B2 (en) Method of producing an organic EL light-emitting device
US10784322B2 (en) Array substrate, manufacturing method, and display device
EP3229285B1 (en) Display panel with pixel definition layer
CN111463353B (zh) 一种显示基板及其制备方法、显示装置
EP3240029A1 (en) Display substrate, manufacturing method and display device thereof
KR20180068560A (ko) 유기 발광 표시 장치
CN113130611B (zh) 显示基板、显示基板母板及其制备方法、显示装置
CN111293152B (zh) 显示用基板及其制备方法、电致发光显示装置
WO2021174983A1 (zh) 显示面板、其制作方法及显示装置
CN109713007A (zh) 阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
CN111900188B (zh) 显示用基板及显示装置
CN111640772A (zh) 一种显示面板、其制作方法及显示装置
CN111477663B (zh) 显示面板及显示面板的制备方法
US20240251602A1 (en) Display Panel and Display Apparatus
JP2008066054A (ja) 電気光学装置およびその製造方法
CN116033795A (zh) 一种显示面板、其制作方法及显示装置
JP4957477B2 (ja) 有機ｅｌ装置の製造方法
KR100787301B1 (ko) 유기 ｅｌ 장치의 제조 방법 및 유기 ｅｌ 장치
CN113013368B (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
US20220310725A1 (en) Transparent display panel and method for preparing same, and display apparatus
CN115036355A (zh) 显示面板及制作方法、显示装置
JP2009071019A (ja) 表示装置および当該表示装置を備えた電子機器
CN219660309U (zh) 一种显示面板及其显示装置
CN112968038B (zh) 一种像素结构及制作方法、显示面板及驱动方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant