JPWO2006126304A1 - 発光回路基板及び発光表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図6に示すように、従来のAM方式の有機ELディスプレイでは、AM基板上に、薄膜トランジスタ、第1電極、発光有機層及び第2電極がこの順に積層されている画素領域1が設けられている。薄膜トランジスタを含んで構成される駆動(ドライバ)回路19(ソースドライバ回路7とゲートドライバ回路6とからなる。)と画素とを接続する信号線4と、画素外コンタクト部3を介して第2電極が接続された配線5と、駆動回路19及び配線5が接続された外部端子8が設けられている。外部回路から供給される電気信号及び/又は電源は、外部端子8を通り、ドライバ回路19へ流れる。
上記第2電極は、透光性の材料により構成されたものであることが好ましい。これによれば、光を透過しない薄膜トランジスタ(TFT)や電極が形成された第1電極側ではなく、第2電極側から発光層の光を取り出すことができる(トップエミッション方式)。このトップエミッション方式の有機EL素子によれば、光を透過しないTFTや電極が形成された基板を通ることなく発光を取り出すことができるため、ボトムエミッション方式の有機EL素子よりも開口率を大きくすることができる。なお、トップエミッション方式の場合、第1電極は、光反射性の材料により構成されたものであることが好ましい。
図1は、本発明の有機エレクトロルミネセンス(有機EL)表示装置の平面模式図である。図2、図3はそれぞれ、図1に示す有機EL表示装置を線分I−I、II−IIにて切断したときの断面模式図である。
図1に示すように、本発明の有機EL表示装置は、画素領域1、画素領域1に信号線4を介して電気信号を与えるドライバ回路(駆動回路)19を有している。また、図2に示すように、画素領域1は、絶縁基板2上に薄膜トランジスタ(TFT)17、TFT17上に平坦化膜13を介して形成された第1電極10、第1電極10を区画する隔壁絶縁層9、第1電極10上に設けられた発光有機層12、発光有機層12を被覆するように設けられた第2電極11を備えている。TFT17は、基板2上に島状に形成された半導体層15、半導体層15に形成されたソース/ドレイン領域に接続されるソース/ドレイン電極16及びゲート電極14等から構成される。
まず、絶縁基板2上に、島状の半導体層15、ゲート絶縁膜18、第1導電層により構成されるゲート電極14、第2導電層により構成されるソース/ドレイン電極16等を形成し、画素領域1及びドライバ回路19のTFT17を作製した後、平坦化膜13を形成する。これらの形成方法は、特に限定されるものではない。
2:絶縁基板
2a:基板
3:画素外コンタクト部
4:信号線
5:配線
6:ゲートドライバ回路
7:ソースドライバ回路
8:外部端子
9:隔壁絶縁層
10:第1電極
11:第2電極
12:発光有機層
13:平坦化膜
14:ゲート電極
15:半導体層
16:ソース/ドレイン電極
17:薄膜トランジスタ(TFT)
18:ゲート絶縁膜
19:ドライバ回路
20:画素内コンタクト部
21:絶縁膜
Claims (8)
- 第1電極、発光層及び第2電極がこの順に積層されて構成される複数の画素と、駆動回路と、外部端子とを基板上に備えた発光回路基板であって、
該駆動回路は、該外部端子に接続され、
該画素の第2電極及び外部端子は、画素外コンタクト部を介して配線によって互いに接続され、
該配線は、駆動回路の少なくとも一部の上層に配置されたことを特徴とする発光回路基板。 - 前記第2電極は、透光性の材料により構成されたものであることを特徴とする請求項1記載の発光回路基板。
- 前記配線は、第1電極と同じ層に設けられたものであることを特徴とする請求項1記載の発光回路基板。
- 前記駆動回路及び前記画素は、ゲート電極が第1導電層により構成され、ソース電極及びドレイン電極が第2導電層により構成された薄膜トランジスタを備え、
前記画素内の薄膜トランジスタと前記駆動回路とを互いに接続する信号線は、第1導電層及び/又は第2導電層により構成され、
前記配線は、第3導電層により構成される
ことを特徴とする請求項1記載の発光回路基板。 - 前記薄膜トランジスタのソース電極と前記駆動回路とを互いに接続する信号線は、第2導電層により構成されることを特徴とする請求項4記載の発光回路基板。
- 前記画素外コンタクト部は、基板上に複数設けられていることを特徴とする請求項1記載の発光回路基板。
- 前記発光層は、有機エレクトロルミネセンス発光材料を含有することを特徴とする請求項1記載の発光回路基板。
- 請求項1記載の発光回路基板を備えてなることを特徴とする発光表示装置。
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