JP2010238847A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. 円筒状の胴部、この胴部の上部を閉塞する天板、及び胴部の底部を閉塞する底板からなり、該胴部内の上部領域に設定されたプラズマ生成空間、及びこのプラズマ生成空間の下方に設定された処理空間を有するチャンバと、
   前記チャンバの、前記プラズマ生成空間に対応する部分の外方に、これを捲回するように配設されたコイルと、
   前記チャンバ内の処理空間に配設され、処理対象の基板を載置する基台と、
   前記チャンバ内のプラズマ生成空間に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、
   前記コイルに高周波電力を供給するコイル電力供給手段と、
   前記基台に高周波電力を供給する基台電力供給手段と、
   上部及び下部が開口した円筒状の部材からなり、その上端部が、前記プラズマ生成空間と前記基台との間の、前記チャンバ内壁に固設され、前記プラズマ生成空間で生成されたプラズマの平面内密度を調整して前記基台上の基板に導くプラズマ密度調整部材とを備えてなり、
   前記プラズマ生成空間を形成する胴部の内径は、前記基板外径よりも大径に形成され、
   前記プラズマ密度調整部材は、接地された導電性の材料から構成されるとともに、その下端部の内径が、その上端部の内径及び前記プラズマ生成空間を形成する胴部内径よりも小径となった漏斗状に形成されてなることを特徴とするプラズマエッチング装置。
2. 前記天板の中心部に、これから下方に垂下する円筒状の芯部材を設けて、前記プラズマ生成空間をドーナツ状に形成した請求項１記載のプラズマエッチング装置。
3. 前記芯部材が非導電性の材料から構成されてなることを特徴とする請求項２記載のプラズマエッチング装置。