JP2010225468A - 透明導電性基板の製造方法、これに用いる前駆体溶液およびその取り扱い方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チタンのアルコキシド化合物、前記チタンに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる前駆体溶液(A)と、ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記ニオブまたはタンタルに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる前駆体溶液(B)とを混合した前駆体溶液(C)を透明基板上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を前記透明基材上に形成するものである。
【選択図】なし
Description
(1)チタンのアルコキシド化合物、前記チタンに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる前駆体溶液(A)と、ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記ニオブまたはタンタルに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる前駆体溶液(B)とを混合した前駆体溶液(C)を透明基板上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を前記透明基材上に形成する、ことを特徴とする、比抵抗が9×10-3Ω・cm以下の透明導電性基板の製造方法。
(2)前記前駆体溶液(A)および(B)におけるアルコキシアルコールの含有量が30重量%以上である(1)に記載の透明導電性基板の製造方法。
(3)前記アルコキシアルコールがメトキシエタノールまたはエトキシエタノールである(1)または(2)に記載の透明導電性基板の製造方法。
(4)チタン、ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記チタン、ニオブまたはタンタルに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有することを特徴とする透明導電性基板形成用の前駆体溶液。
(5)チタンのアルコキシド化合物、ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記チタンおよびニオブまたはタンタルの総量に対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる、ことを特徴とする前駆体溶液。
(6)上記(4)または(5)に記載の前駆体溶液を密閉容器内に収容し、室温にて保存または搬送することを特徴とする、前駆体溶液の取り扱い方法。
さらに、本発明によれば、加熱処理時に、原料に起因するカーボンが殆ど残存しないため、焼成等の加熱処理時の温度を比較的低温に設定できるので、透明基材の選択における制約が低減され、例えば可撓性を有する耐熱温度が低い樹脂フィルムを透明基材として用いることで、いわゆるロールtoロール法での透明導電性基板の製造も可能となる。
なお、チタンアルコキシド、ニオブアルコキシド、タンタルアルコキシドは、水分と接触すると直ちに反応する不安定な物質であるので、乾燥雰囲気下ないし低湿度雰囲気下で取り扱うことが好ましい。
前記アルコキシアルコールとしては、例えばメトキシエタノール、エトキシエタノールなどが挙げられる。
また、アルコキシアルコールと共に、エタノール、メタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶媒を含有させてもよい。
各前駆体溶液を構成する各成分を添加後、1分〜12時間程度、前駆体溶液を放置または攪拌するのがよい。これによりチタンおよびニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物の加水分解を促すことができる。
なお、透明導電性基板の物性は以下の方法で測定した。
比抵抗は、抵抗率計(三菱化学(株)製「LORESTA−GP,MCP−T610」)を用いて、四探針法により測定した。詳しくは、サンプルに4本の針状の電極を直線上に置き、外側の二探針間に一定の電流を流し、内側の二探針間に一定電流を流し、内側の二探針間に生じる電位差を測定し、抵抗を求めた。
透過率は、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光(株)製「V−670」)を用いて、190nm〜2700nmの範囲で測定した。
X線回折装置(理学電機(株)製「RINT2000」)を用いて、薄膜測定用のアタッチメントを使用して結晶性を評価した。
SIMS(二次イオン質量分析)(Physical Electronics社製「ADEPT1010」)を用いて、不純物カーボン量を定量した。
まず、アルゴンガス雰囲気中でチタンテトライソプロポキシド0.7gをエトキシエタノール5g中に溶解させ、得られた溶液に純水0.09g(チタンに対して2倍モル量である)、イソプロパノール3gを攪拌下で徐々に添加し、添加終了後、5分間攪拌して、反応させ前駆体溶液(A)を得た。なお、反応は、室温で行った。
他方、アルゴンガス雰囲気中でニオブペンタエトキシド0.7gをエトキシエタノール5g中に溶解させ、得られた溶液に純水0.16g(ニオブに対して2倍モル量である)、イソプロパノール3gを攪拌下で徐々に添加し、添加終了後、5分間攪拌して、反応させ前駆体溶液(B)を得た。なお、反応は、室温で行った。
次に、上記チタン前駆体溶液(A)と、上記ニオブ前駆体溶液(B)とをチタン:ニオブ=70:30(モル比)となる割合で混合し、固形分濃度7.94重量%の前駆体液(C)を得た。この前駆体溶液(C)を密閉容器(マルエム社製のスクリュー管(No.5)、内径25mm×長さ45mm)に入れ、2ヶ月間室温放置しても変化がなく、透明かつ安定な前駆体であった。なお、密閉容器内の空間部分は、窒素置換や真空脱気をせず、大気のままである。
この前駆体液(C)を、透明基材(無アルカリガラス「コーニング社製1737」、厚さ0.7mm)上にドライ膜厚70.0nmとなるように、スピンコーターで1回塗布し、400℃で10分間焼成(プリベーク)し、その後、水素100%の還元雰囲気下にて600℃で60分間アニール処理を施して、透明導電性基板を得た。
得られた透明導電性基板の比抵抗は3.3×10-3Ω・cmであり、透過率は、可視領域で約75%、赤外領域で約75%であった。
この透明導電性基板における導電性膜の結晶相をX線回折により調べたところ、アナターゼ型であった。
得られた膜中の残存カーボンをSIMS(二次イオン質量分析)により、調べたところ0.46wt%であった。
実施例1と同様にして得たチタン前駆体溶液(A)と、上記ニオブ前駆体溶液(B)とをチタン:ニオブ=80:20(モル比)となるような割合で混合し、希固形分濃度7.94重量%の前駆体液(C)を得た。この前駆体溶液(C)を実施例1と同様な密閉容器に入れ、2ヶ月間室温放置しても変化がなく、透明かつ安定な前駆体であった。
この前駆体液を、透明基材(無アルカリガラス「コーニング社製1737」、厚さ0.7mm)上にドライ膜厚70.0nmとなるように、スピンコーターで1回塗布し、400℃で10分間焼成(プリベーク)し、その後、水素100%の還元雰囲気下にて600℃で60分間アニール処理を施して、透明導電性基板を得た。
得られた透明導電性基板の比抵抗は3.3×10-3Ω・cmであり、透過率は、可視領域で約75%、赤外領域で約75%であった。
この透明導電性基板における導電性膜の結晶相をX線回折により調べたところ、アナターゼ型であった。
得られた膜中の残存カーボンをSIMS(二次イオン質量分析)により、調べたところ0.38wt%であった。
まず、アルゴンガス雰囲気中でチタンテトライソプロポキシド0.7gをアセチルアセトン5g中に溶解させ、得られた溶液に純水0.09g、イソプロパノール3gを攪拌下で徐々に添加し、添加終了後、5分間攪拌して、反応させ前駆体溶液(A)を得た。なお、反応は、室温で行った。アセチルアセトンのチタンへの配位安定効果により、得られた前駆体液(A)は極めて安定であり、実施例1と同様な密閉容器に入れ、2ヶ月間室温放置しても、まったく透明で変化はなかった。
他方、アルゴンガス雰囲気中でニオブペンタエトキシド0.7gをアセチルアセトン5g中に溶解させ、得られた溶液に純水0.16g、イソプロパノール3gを攪拌下で徐々に添加し、添加終了後、5分間攪拌して、反応させ前駆体溶液(B)を得た。なお、反応は、室温で行った。アセチルアセトンのチタンへの配位安定効果により、得られた前駆体液(B)は極めて安定であり、実施例1と同様な密閉容器に入れ、2ヶ月間室温放置しても、まったく透明で変化はなかった。
次に、上記チタン前駆体溶液(A)と、上記ニオブ前駆体溶液(B)とをチタン:ニオブ=70:30(モル比)の割合で混合し、固形分濃度7.94重量%の前駆体液(C)を得た。この前駆体溶液を実施例1と同様な密閉容器に入れ、2ヶ月間室温放置しても、変化はなく透明かつ安定な前駆体であった。
この前駆体液(C)を、透明基材(無アルカリガラス「コーニング社製1737」、厚さ0.7mm)上にドライ膜厚70.0nmとなるように、スピンコーターで1回塗布し、400℃で10分間焼成(プリベーク)し、その後、水素100%の還元雰囲気下にて600℃で60分間アニール処理を施して、透明導電性基板を得た
得られた透明導電性基板の比抵抗は絶縁体(103Ω・cm以上)であり、透過率は、可視領域で約50%、赤外領域で約50%であった。
この透明導電性基板における導電性膜の結晶相をX線回折により調べたところ、アナターゼ型であった。
得られた膜中の残存カーボンをSIMS(二次イオン質量分析)により、調べたところ5.11重量%であった。
この透明導電性基板における導電性膜の結晶相をX線回折により調べたところ、不純物カーボンの残存量が多いことにより、結晶化が阻害されアナターゼの結晶性は極めて低かった。
次に、比較例1と同様にして得たチタン前駆体溶液(A)と、上記ニオブ前駆体溶液(B)とをチタン:ニオブ=93:7(モル比)となるような割合で混合し、固形分濃度7.94重量%の前駆体液とした。前駆体溶液は2ヶ月間、室温放置でも変化なく透明かつ安定な前駆体であった。
この前駆体液を、透明基材(無アルカリガラス「コーニング社製1737」、厚さ0.7mm)上にドライ膜厚70.0nmとなるように、スピンコーターで1回塗布し、400℃で10分間焼成(プリベーク)し、その後、水素100%の還元雰囲気下にて600℃で60分間アニール処理を施して、透明導電性基板を得た。
得られた透明導電性基板の比抵抗は絶縁体(103Ω・cm以上)であり、透過率は、膜中の残存カーボンが多いため、透明性は低く可視領域で約50%、赤外領域で約50%であった。
この透明導電性基板における導電性膜の結晶相をX線回折により調べたところ、アナターゼ型であった。
得られた膜中の残存カーボンをSIMS(二次イオン質量分析)により、調べたところ4.85重量%であった。
この透明導電性基板における導電性膜の結晶相をX線回折により調べたところ、不純物カーボンの残存量が多いことにより、結晶化が阻害されアナターゼの結晶性は極めて低かった。
アルゴンガス雰囲気中でチタンテトライソプロポキシド0.7gをエトキシエタノール7.5g中に溶解させ、得られた溶液に純水0.27g(チタンに対して6倍モル量である)、イソプロパノール5gを攪拌下で徐々に添加し、添加終了後、5分間攪拌して、反応させ前駆体溶液(A)を得た。この前駆体溶液(A)は、反応後直ちに、実施例1と同様な密閉容器に入れても、3時間以内にゲル化した。
アルゴンガス雰囲気中でニオブペンタエトキシド0.7gをエトキシエタノール5g中に溶解させ、得られた溶液に純水0.16g(ニオブに対して4倍モル量である)、イソプロパノール3gを攪拌下で徐々に添加し、添加終了後、5分間攪拌して、反応させ前駆体溶液(B)を得た。この前駆体溶液(B)は、反応後直ちに、実施例1と同様な密閉容器に入れても、3時間以内にゲル化した。
Claims (6)
- チタンのアルコキシド化合物、前記チタンに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる前駆体溶液(A)と、
ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記ニオブまたはタンタルに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる前駆体溶液(B)と
を混合した前駆体溶液(C)を透明基板上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を前記透明基材上に形成する、ことを特徴とする、比抵抗が9×10-3Ω・cm以下の透明導電性基板の製造方法。 - 前記前駆体溶液(A)および(B)におけるアルコキシアルコールの含有量が30重量%以上である請求項1に記載の透明導電性基板の製造方法。
- 前記アルコキシアルコールがメトキシエタノールまたはエトキシエタノールである請求項1または2に記載の透明導電性基板の製造方法。
- チタン、ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記チタン、ニオブまたはタンタルに対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有することを特徴とする透明導電性基板形成用の前駆体溶液。
- チタンのアルコキシド化合物、ニオブまたはタンタルのアルコキシド化合物、前記チタンおよびニオブまたはタンタルの総量に対して0.5〜3倍モルの水、および少なくともアルコキシアルコールからなる溶媒を含有してなる、ことを特徴とする前駆体溶液。
- 請求項4または5に記載の前駆体溶液を密閉容器内に収容し、室温にて保存または搬送することを特徴とする、前駆体溶液の取り扱い方法。
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