JP2010214215A - 炭化珪素水素分離膜の製造方法 - Google Patents
炭化珪素水素分離膜の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010214215A JP2010214215A JP2009060350A JP2009060350A JP2010214215A JP 2010214215 A JP2010214215 A JP 2010214215A JP 2009060350 A JP2009060350 A JP 2009060350A JP 2009060350 A JP2009060350 A JP 2009060350A JP 2010214215 A JP2010214215 A JP 2010214215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon carbide
- precursor
- hydrogen
- porous support
- separation membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
Abstract
【解決手段】多孔質支持体表面に適当な濃度の前駆体溶液を塗布することにより前駆体層を形成した後、前記前駆体溶液よりも薄い濃度の溶液に複数回浸漬することにより、浸漬で生じた前駆体溶液を支持体、あるいは支持体に形成された炭化珪素膜の細孔に浸透させ、支持体あるいは膜中に存在する細孔の径を、水素が選択的に透過可能な径に制御する。
【選択図】図1
Description
102 前駆体層の溶解ステップ
103 前駆体層の架橋・不溶化ステップ
104 前駆体層の焼成ステップ
Claims (5)
- 多孔質支持体上にセラミック製の水素分離膜を製造する方法であって、
前記多孔質支持体上にセラミックの前駆体から成る層を形成する工程、
形成された前記前駆体層を溶解し、前記多孔質支持体またはセラミック製の水素分離膜中に存在する細孔中に浸透させる工程、及び
細孔中の前記前駆体を炭化珪素に転換し、前記多孔質支持体あるいはセラミック製の水素分離膜中に存在する細孔の径を小さくさせる工程、
から成る炭化珪素水素分離膜の製造方法。 - 請求項1に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記前駆体が炭化珪素を構成するための高分子材料であるポリカルボシランまたはポリビニルシランであることを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
- 請求項2に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記多孔質支持体が中空のアルミナ管であって、前記前駆体層形成工程が、前記高分子材料を溶媒に溶かした溶液を前記アルミナ管の外周囲に塗布することにより、セラミックの前駆体から成る層を形成することを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
- 請求項3に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記高分子材料を溶かすための溶媒が、シクロヘキサン、トルエン、及びベンゼンのいずれか1つであることを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
- 請求項3または4に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記浸透工程における前記前駆体層の溶解は、前記多孔質支持体または炭化珪素膜を、前記高分子材料を溶かすための溶媒、または前記前駆体層形成工程で用いた、前記高分子材料を溶媒に溶かした溶液の濃度よりも低い濃度の溶液、に複数回浸漬することにより行うことを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009060350A JP5051785B2 (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 炭化珪素水素分離膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009060350A JP5051785B2 (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 炭化珪素水素分離膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010214215A true JP2010214215A (ja) | 2010-09-30 |
JP5051785B2 JP5051785B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=42973652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009060350A Expired - Fee Related JP5051785B2 (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 炭化珪素水素分離膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5051785B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101305798B1 (ko) | 2011-11-30 | 2013-09-06 | 롯데케미칼 주식회사 | 다공성 분리막 및 이의 제조방법 |
JP2019125448A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | 東京瓦斯株式会社 | 燃料電池システムおよび燃料電池システムの燃料供給方法 |
CN115259860A (zh) * | 2022-08-19 | 2022-11-01 | 合肥学院 | 一种具有分子筛分功能的碳化硅膜的制备方法及应用 |
CN115385717A (zh) * | 2022-08-23 | 2022-11-25 | 合肥学院 | 一种具有亚纳米孔径的碳化硅膜的制备方法及应用 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108615565B (zh) * | 2018-05-22 | 2020-10-09 | 中国原子能科学研究院 | 一种核燃料芯块防氧化涂层及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004123415A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Noritake Co Ltd | 多孔質セラミック材及びその製造方法 |
JP2007022822A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化珪素系多孔質成形体及びその製造方法 |
JP2007137752A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Japan Fine Ceramics Center | ヘリウム分離材及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-03-13 JP JP2009060350A patent/JP5051785B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004123415A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Noritake Co Ltd | 多孔質セラミック材及びその製造方法 |
JP2007022822A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化珪素系多孔質成形体及びその製造方法 |
JP2007137752A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Japan Fine Ceramics Center | ヘリウム分離材及びその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101305798B1 (ko) | 2011-11-30 | 2013-09-06 | 롯데케미칼 주식회사 | 다공성 분리막 및 이의 제조방법 |
JP2019125448A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | 東京瓦斯株式会社 | 燃料電池システムおよび燃料電池システムの燃料供給方法 |
CN115259860A (zh) * | 2022-08-19 | 2022-11-01 | 合肥学院 | 一种具有分子筛分功能的碳化硅膜的制备方法及应用 |
CN115385717A (zh) * | 2022-08-23 | 2022-11-25 | 合肥学院 | 一种具有亚纳米孔径的碳化硅膜的制备方法及应用 |
CN115385717B (zh) * | 2022-08-23 | 2023-08-25 | 合肥学院 | 一种具有亚纳米孔径的碳化硅膜的制备方法及应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5051785B2 (ja) | 2012-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Lee et al. | Carbon molecular sieve membranes on porous composite tubular supports for high performance gas separations | |
US20050211626A1 (en) | Methods for making microporous ceramic materials | |
Elyassi et al. | A novel sacrificial interlayer-based method for the preparation of silicon carbide membranes | |
JP5051785B2 (ja) | 炭化珪素水素分離膜の製造方法 | |
JP5897458B2 (ja) | 浸透気化分離方法 | |
永野孝幸 et al. | Gas permeation properties of amorphous SiC membranes synthesized from polycarbosilane without oxygen-curing process | |
JP5469905B2 (ja) | ガス分離材およびその製造方法 | |
JP4129975B2 (ja) | 多孔質セラミック材及びその製造方法 | |
Takeyama et al. | Gas permeation property of SiC membrane using curing of polymer precursor film by electron beam irradiation in helium atmosphere | |
JP2002066280A (ja) | ガス分離フィルタおよびその製造方法 | |
WO2011018919A1 (ja) | 混合物用分離膜、それを用いた混合物の組成変化方法、及び混合物分離装置 | |
JP5289790B2 (ja) | カーボン膜を備える分離膜エレメントの製造方法 | |
JP2009022902A (ja) | 多孔体、その製造方法、およびガス分離装置 | |
JP6636948B2 (ja) | ガス分離方法 | |
Cai et al. | Microstructure modulation of α‐Al2O3 hollow fiber membranes with four‐channel geometric configuration | |
JP2009183814A (ja) | 分離膜及びその製造方法 | |
WO2012111792A1 (ja) | 炭素膜付き複合体およびその製造方法 | |
JP2007152230A (ja) | 緻密質シリカ系水素分離膜および水素製造方法 | |
JP6702884B2 (ja) | ガス分離方法 | |
JP2004008971A (ja) | 多孔質セラミック材及びその製造方法 | |
JP4020388B2 (ja) | 多孔質セラミック材及びその製造方法 | |
JP4417077B2 (ja) | 多孔質セラミック材及びその製造方法並びにそれを備えたガス分離モジュール | |
JP2013173131A (ja) | 炭素膜付き多孔質体およびその製造方法 | |
JP7018778B2 (ja) | 分離装置 | |
JP6009541B2 (ja) | 分離膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120629 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120719 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150803 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |