JP5051785B2 - 炭化珪素水素分離膜の製造方法 - Google Patents
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Description
102 前駆体層の溶解ステップ
103 前駆体層の架橋・不溶化ステップ
104 前駆体層の焼成ステップ
Claims (5)
- 多孔質支持体上にセラミック製の水素分離膜を製造する方法であって、
前記多孔質支持体上にセラミックの前駆体から成る層を形成する工程、
形成された前記前駆体層を溶解し、前記多孔質支持体またはセラミック製の水素分離膜中に存在する細孔中に浸透させる工程、及び
細孔中の前記前駆体を炭化珪素に転換し、前記多孔質支持体あるいはセラミック製の水素分離膜中に存在する細孔の径を小さくさせる工程、
から成る炭化珪素水素分離膜の製造方法。 - 請求項1に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記前駆体が炭化珪素を構成するための高分子材料であるポリカルボシランまたはポリビニルシランであることを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
- 請求項2に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記多孔質支持体が中空のアルミナ管であって、前記前駆体層形成工程が、前記高分子材料を溶媒に溶かした溶液を前記アルミナ管の外周囲に塗布することにより、セラミックの前駆体から成る層を形成することを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
- 請求項3に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記高分子材料を溶かすための溶媒が、シクロヘキサン、トルエン、及びベンゼンのいずれか1つであることを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
- 請求項3または4に記載の炭化珪素水素分離膜の製造方法において、前記浸透工程における前記前駆体層の溶解は、前記多孔質支持体または炭化珪素膜を、前記高分子材料を溶かすための溶媒、または前記前駆体層形成工程で用いた、前記高分子材料を溶媒に溶かした溶液の濃度よりも低い濃度の溶液、に複数回浸漬することにより行うことを特徴とする炭化珪素水素分離膜の製造方法。
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