JP2010206205A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8659746B2 (en) 2009-03-04 2014-02-25 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
US8988655B2 (en) * 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP2012089537A (ja) * 2010-10-15 2012-05-10 Nikon Corp ステージ装置、基板貼り合せ装置、積層半導体装置の製造方法及び積層半導体装置
JP5910992B2 (ja) * 2012-04-04 2016-04-27 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP5958692B2 (ja) * 2012-04-04 2016-08-02 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法並びに露光方法
NL2010679A (en) 2012-05-23 2013-11-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
CN103472678B (zh) * 2012-06-08 2015-07-22 上海微电子装备有限公司 光刻机及应用于光刻机中的工件台系统
JP6086299B2 (ja) * 2012-11-13 2017-03-01 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
DE102013011873B4 (de) * 2013-07-17 2015-10-08 Mecatronix Ag Positioniervorrichtung und Verfahren zum Bewegen eines Substrats
TWI701514B (zh) * 2014-03-28 2020-08-11 日商尼康股份有限公司 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、元件製造方法、及移動體驅動方法
KR101715785B1 (ko) * 2014-12-05 2017-03-13 프로미스 주식회사 Fpd용 노광장치
CN104483815B (zh) * 2014-12-08 2016-05-11 上海核电装备焊接及检测工程技术研究中心(筹) 一种射线源对中支撑装置及其固定射线源装置的方法
JP6606479B2 (ja) * 2016-08-08 2019-11-13 株式会社ブイ・テクノロジー マスク保持装置
CN110366706B (zh) * 2017-02-27 2021-10-22 Asml荷兰有限公司 光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法
JP6999155B2 (ja) * 2017-08-29 2022-01-18 株式会社ナチュラレーザ・ワン 原稿圧着板開閉装置およびこれを備えた事務機器
JP6917848B2 (ja) * 2017-09-26 2021-08-11 株式会社Screenホールディングス ステージ駆動装置および描画装置
CN108161728A (zh) * 2017-12-26 2018-06-15 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) 抛光回转工作台及抛光装置
CN109765753B (zh) * 2019-01-30 2024-07-12 广东华恒智能科技有限公司 一种全自动油墨曝光机
CN115803684A (zh) * 2020-06-15 2023-03-14 株式会社尼康 台装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及元件制造方法
CN119658401B (zh) * 2025-01-10 2025-10-28 哈尔滨工业大学 一种垂向运动的短行程超精密定位平台

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5684856A (en) * 1991-09-18 1997-11-04 Canon Kabushiki Kaisha Stage device and pattern transfer system using the same
JPH05329727A (ja) 1992-05-26 1993-12-14 Nikon Corp ステージ装置
JP3548353B2 (ja) * 1996-10-15 2004-07-28 キヤノン株式会社 ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
US6408045B1 (en) * 1997-11-11 2002-06-18 Canon Kabushiki Kaisha Stage system and exposure apparatus with the same
JP3745167B2 (ja) * 1998-07-29 2006-02-15 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ駆動方法
US6296734B1 (en) * 1999-07-08 2001-10-02 International Business Machines Corporation Concentrated UV light curing of adhesive for pivot applications
WO2001035168A1 (en) 1999-11-10 2001-05-17 Massachusetts Institute Of Technology Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams
JP2001215718A (ja) * 1999-11-26 2001-08-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
US20020075467A1 (en) 2000-12-20 2002-06-20 Nikon Corporation Exposure apparatus and method
TW529172B (en) * 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
US7271879B2 (en) * 2001-09-24 2007-09-18 Agency For Science, Technology And Research Decoupled planar positioning system
CN101872135B (zh) * 2002-12-10 2013-07-31 株式会社尼康 曝光设备和器件制造法
TWI338323B (en) * 2003-02-17 2011-03-01 Nikon Corp Stage device, exposure device and manufacguring method of devices
JP2004260116A (ja) 2003-02-27 2004-09-16 Nikon Corp ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2005203567A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Canon Inc 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
US7221433B2 (en) * 2004-01-28 2007-05-22 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly having a connector assembly
WO2005122242A1 (ja) * 2004-06-07 2005-12-22 Nikon Corporation ステージ装置、露光装置及び露光方法
JP4550494B2 (ja) * 2004-06-22 2010-09-22 大日本印刷株式会社 Xyステージ装置
JP2006086442A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2006253572A (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Nikon Corp ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
US7956876B2 (en) 2005-03-15 2011-06-07 Sharp Kabushiki Kaisha Drive method of display device, drive unit of display device, program of the drive unit and storage medium thereof, and display device including the drive unit
KR101318096B1 (ko) * 2005-03-29 2013-10-18 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법 및 마이크로 디바이스제조 방법
JP2007073688A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Shinko Electric Co Ltd Xyステージ装置及びその製造方法
CN101611470B (zh) 2007-03-05 2012-04-18 株式会社尼康 移动体装置、图案形成装置及图案形成方法、设备制造方法、移动体装置的制造方法以及移动体驱动方法
KR101584827B1 (ko) * 2008-03-07 2016-01-13 가부시키가이샤 니콘 이동체 장치 및 노광 장치
US20100030384A1 (en) * 2008-07-29 2010-02-04 Technical Manufacturing Corporation Vibration Isolation System With Design For Offloading Payload Forces Acting on Actuator
US8659746B2 (en) * 2009-03-04 2014-02-25 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

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