JP2010196140A - ビスマスの回収方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ビスマスイオンを含有する酸性溶液を還元処理してビスマスを含む還元滓を生成させ(還元工程)、該還元滓に熱濃硫酸を加えてビスマスを浸出し(浸出工程)、固液分離した濾液を冷却して硫酸ビスマスを析出させ(冷却析出工程)、これを固液分離して硫酸ビスマスを回収する(回収工程)ことを特徴とするビスマスの回収方法であって、好ましくは、ビスマス浸出工程において、還元滓に後工程で分離した熱濃硫酸を加えてビスマスを浸出し、硫酸ビスマス回収工程の後に、その濾液(濃硫酸)を加熱してビスマス浸出工程に返送してビスマスの溶解に使用する返送工程を有するビスマスの回収方法。
【選択図】図1
Description
〔1〕ビスマスイオンを含有する酸性溶液を還元処理してビスマスを含む還元滓を生成させ(還元工程)、該還元滓に熱濃硫酸を加えてビスマスを浸出し(浸出工程)、固液分離した濾液を冷却して硫酸ビスマスを析出させ(冷却析出工程)、これを固液分離して硫酸ビスマスを回収する(回収工程)ことを特徴とするビスマスの回収方法。
〔2〕硫酸ビスマス回収工程の後に、その濾液(濃硫酸)の少なくとも一部を加熱してビスマス浸出工程に返送する工程を有し、返送した濾液をビスマス浸出の熱濃硫酸として再利用する上記[1]に記載するビスマスの回収方法。
〔3〕 ビスマスイオンを含有する酸性溶液が、銅製錬工程の塩酸酸性溶液、硫酸酸性溶液、または塩酸硫酸酸性溶液である上記[1]または上記[2]に記載するビスマスの回収方法。
〔4〕ビスマス浸出工程の熱濃硫酸が硫酸濃度8モル以上であって液温40℃以上である上記[1]〜上記[3]の何れかに記載するビスマスの回収方法。
〔5〕還元滓の浸出スラリーを固液分離して浸出残渣を除去し、濾液を攪拌しながら冷却して硫酸ビスマスを析出させる上記[1]〜上記[4]の何れかに記載するビスマスの回収方法。
〔6〕銅製錬工程の酸性溶液を還元して、共存金属の一部を液中に残したまま、ビスマスを含む還元滓を生成させ、固液分離して回収した還元滓を熱濃硫酸で浸出し、この浸出スラリーを固液分離して浸出残渣を除去し、一方、ビスマスを含む濾液を冷却して、一部溶解した共存金属イオンを液中に残したまま、硫酸ビスマスを結晶化することによって、共存金属を分離してビスマスを精製する上記[1]〜上記[5]の何れかに記載するビスマスの回収方法。
〔7〕上記[6]の精製回収方法において、ビスマスと共に、ヒ素、銅、アンチモン、鉛、スズ、ニッケルを含有する硫酸塩酸酸性溶液を鉄還元処理して、ビスマスと共にヒ素、銅、アンチモンの少なくとも1種を含む還元滓を生成させ、一方、液中に鉛、スズ、ニッケルの金属イオンを残し、次いで、固液分離した還元滓を熱濃硫酸で浸出し、浸出残渣を固液分離し、浸出液を攪拌しながら冷却して硫酸ビスマスを析出させ、一方、ヒ素、銅、アンチモンの少なくとも1種の共存金属イオンを液中に残し、固液分離して硫酸ビスマスを回収するビスマスの精製回収方法。
〔8〕ビスマスの浸出工程、冷却析出工程、回収工程、返送工程を繰り返すことによって、浸出スラリーを固液分離した濾液中の金属イオン濃度を安定化する上記[2]〜上記[7]の何れかに記載するビスマスの回収方法。
ビスマスより卑な金属、例えば、鉄を還元剤として用い、ビスマス含有液に鉄を投入してビスマスを還元させれば良い。例えば、鉄粉を使用した場合には、還元反応は早いが、鉄粉の添加速度や終点のコントロールが難しいため、未反応の鉄粉が処理液槽の底部に溜まり、ガス発生の原因にもなり、また、鉄粉が還元滓に混入することもよくあるので、鉄粉より鉄板や鉄スクラップが好ましい。また鉄粉のコストに比べて鉄板や鉄スクラップの使用は経済的である。
還元滓に、液温40℃以上および硫酸濃度8モル以上の熱濃硫酸を加えてビスマスを浸出する。この熱濃硫酸は後工程で固液分離した濾液を加熱して再利用するのが好ましい。液温は40℃〜80℃が適当である。液温が40℃より低いとビスマスの浸出が遅い。また、硫酸濃度が8モル未満ではビスマスの浸出が遅い。硫酸濃度は8モル〜12モルが好ましい。浸出条件は、例えば、還元滓:硫酸性浸出液の固液比1:40、液温80℃、濃度9モルの熱濃硫酸を用い、3時間浸出を行えば良い。
浸出スラリーを固液分離して得た浸出液を冷却して硫酸ビスマスを析出させる。浸出液を攪拌しながら室温まで冷却すると、無色な浸出液中に白色の硫酸ビスマス結晶が析出する。これを固液分離して硫酸ビスマスを回収する。硫酸ビスマス結晶の純度および粒径制御のため、熱交換コイルなど冷却機能を備えている設備を用い、さらに回収した硫酸ビスマスの一部を種晶として添加すれば良い。
硫酸ビスマスを固液分離した濾液は1リッター当り数グラムのビスマスイオンを含む高濃度の硫酸性溶液であるので、この大部分を40℃以上に加熱して還元滓の浸出工程に返送し、ビスマスの浸出に再利用する。浸出液中の不純物濃度に応じて濾液の一部を排水する。たとえば、濾液の約90%を返送し、残り約10%を排水すれば良い。また、浸出工程に返送する液量または硫酸濃度調節のため、水および濃硫酸を補給すれば良い。
〔還元処理〕
銅製錬の塩酸硫酸酸性溶液(塩酸濃度45g/L、硫酸濃度100g/L)を元液とし、該元液650ccをビーカーに入れ、攪拌しながら50℃まで加温した後、鉄板を還元剤として液中に浸漬し、1時間還元反応を行った。反応終了後、スラリーを濾過し、濾液と還元滓8.6gを得た。元液、濾液、還元滓の組成を表1に示す。また、鉄還元におけるビスマス濃度の経時変化と還元温度(液温)の関係を図3に示した。
また、図3に示すように、元液の液温が30℃と低い場合でも、約1時間の還元処理によって、ビスマスの回収率は約90%になる。
80℃に加熱した9M濃度の硫酸溶液345mlが入った容器に、表1に示す組成の還元滓8.6g(乾燥重量)を加え、攪拌しながら3時間、ビスマスを浸出させた。反応終了後スラリーを素早く濾過し、ビスマス浸出液と浸出残渣を分離した。次に、ビスマス浸出液を別の容器に移し、攪拌しながら、自然冷却を行った。冷却時間約1時間の間に、無色透明な浸出液中に白色の硫酸ビスマスの結晶が析出し、これを吸引濾過して分離し回収した。この濾液の約90%をビスマス含有還元滓の浸出工程に返送し再利用し、残り10%の濾液を排水として処理した。
濾液の返送を7回繰り返して還元滓を浸出し、液中の金属イオン濃度が安定化した。還元滓、冷却前の熱ビスマス浸出液、冷却後の濾液(返送分300ml)、排水分(30ml)の濾液の組成を表2に示す。
Claims (8)
- ビスマスイオンを含有する酸性溶液を還元処理してビスマスを含む還元滓を生成させ(還元工程)、該還元滓に熱濃硫酸を加えてビスマスを浸出し(浸出工程)、固液分離した濾液を冷却して硫酸ビスマスを析出させ(冷却析出工程)、これを固液分離して硫酸ビスマスを回収する(回収工程)ことを特徴とするビスマスの回収方法。
- 硫酸ビスマス回収工程の後に、その濾液(濃硫酸)の少なくとも一部を加熱してビスマス浸出工程に返送する工程を有し、返送した濾液をビスマス浸出の熱濃硫酸として再利用する請求項1に記載するビスマスの回収方法。
- ビスマスイオンを含有する酸性溶液が、銅製錬工程の塩酸酸性溶液、硫酸酸性溶液、または塩酸硫酸酸性溶液である請求項1または請求項2に記載するビスマスの回収方法。
- ビスマス浸出工程の熱濃硫酸が硫酸濃度8モル以上であって液温40℃以上である請求項1〜請求項3の何れかに記載するビスマスの回収方法。
- 還元滓の浸出スラリーを固液分離して浸出残渣を除去し、濾液を攪拌しながら冷却して硫酸ビスマスを析出させる請求項1〜請求項4の何れかに記載するビスマスの回収方法。
- 銅製錬工程の酸性溶液を還元して、共存金属の一部を液中に残したまま、ビスマスを含む還元滓を生成させ、固液分離して回収した還元滓を熱濃硫酸で浸出し、この浸出スラリーを固液分離して浸出残渣を除去し、一方、ビスマスを含む濾液を冷却して、一部溶解した共存金属イオンを液中に残したまま、硫酸ビスマスを結晶化することによって、共存金属を分離してビスマスを精製する請求項1〜請求項5の何れかに記載するビスマスの回収方法。
- 請求項6の精製回収方法において、ビスマスと共に、ヒ素、銅、アンチモン、鉛、スズ、ニッケルを含有する硫酸塩酸酸性溶液を鉄還元処理して、ビスマスと共にヒ素、銅、アンチモンの少なくとも1種を含む還元滓を生成させ、一方、液中に鉛、スズ、ニッケルの金属イオンを残し、次いで、固液分離した還元滓を熱濃硫酸で浸出し、浸出残渣を固液分離し、浸出液を攪拌しながら冷却して硫酸ビスマスを析出させ、一方、ヒ素、銅、アンチモンの少なくとも1種の共存金属イオンを液中に残し、固液分離して硫酸ビスマスを回収するビスマスの精製回収方法。
- ビスマスの浸出工程、冷却析出工程、回収工程、返送工程を繰り返すことによって、浸出スラリーを固液分離した濾液中の金属イオン濃度を安定化する請求項2〜請求項7の何れかに記載するビスマスの回収方法。
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
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CN105568002A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-05-11 | 中南大学 | 一种污酸硫化渣中铋富集与回收的方法 |
US9341689B2 (en) | 2009-04-02 | 2016-05-17 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Devices and cabling for use in a multi-resonant magnetic resonance system |
JP2017066520A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | ビスマスの精製方法 |
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106978538B (zh) * | 2017-04-13 | 2018-07-03 | 中南大学 | 一种高铋铅阳极泥或铋渣的处理方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08246200A (ja) * | 1995-03-08 | 1996-09-24 | Daiwa Kasei Kenkyusho:Kk | 錫−ビスマス合金めっき用硫酸錫塩及び硫酸ビスマス塩の電解製造法 |
JP2002249827A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 電解沈殿銅の処理方法 |
JP3350917B2 (ja) * | 1995-08-28 | 2002-11-25 | 住友金属鉱山株式会社 | 銅電解精製における電解液中のアンチモン、ビスマスの選択的回収方法 |
JP2003213350A (ja) * | 2002-01-24 | 2003-07-30 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | ビスマスの回収方法及び硫酸ビスマスの回収方法 |
JP3704266B2 (ja) * | 1999-12-14 | 2005-10-12 | 日鉱金属株式会社 | ビスマスの回収方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08246200A (ja) * | 1995-03-08 | 1996-09-24 | Daiwa Kasei Kenkyusho:Kk | 錫−ビスマス合金めっき用硫酸錫塩及び硫酸ビスマス塩の電解製造法 |
JP3350917B2 (ja) * | 1995-08-28 | 2002-11-25 | 住友金属鉱山株式会社 | 銅電解精製における電解液中のアンチモン、ビスマスの選択的回収方法 |
JP3704266B2 (ja) * | 1999-12-14 | 2005-10-12 | 日鉱金属株式会社 | ビスマスの回収方法 |
JP2002249827A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 電解沈殿銅の処理方法 |
JP2003213350A (ja) * | 2002-01-24 | 2003-07-30 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | ビスマスの回収方法及び硫酸ビスマスの回収方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010196143A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Mitsubishi Materials Corp | 液中金属の還元回収方法および還元回収装置 |
US9341689B2 (en) | 2009-04-02 | 2016-05-17 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Devices and cabling for use in a multi-resonant magnetic resonance system |
JP2017066520A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | ビスマスの精製方法 |
CN105568002A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-05-11 | 中南大学 | 一种污酸硫化渣中铋富集与回收的方法 |
WO2018138917A1 (ja) * | 2017-01-30 | 2018-08-02 | 住友金属鉱山株式会社 | ビスマスの精製方法 |
CN109312423A (zh) * | 2017-01-30 | 2019-02-05 | 住友金属矿山株式会社 | 铋的提纯方法 |
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