JP2003213350A - ビスマスの回収方法及び硫酸ビスマスの回収方法 - Google Patents
ビスマスの回収方法及び硫酸ビスマスの回収方法Info
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- JP2003213350A JP2003213350A JP2002015029A JP2002015029A JP2003213350A JP 2003213350 A JP2003213350 A JP 2003213350A JP 2002015029 A JP2002015029 A JP 2002015029A JP 2002015029 A JP2002015029 A JP 2002015029A JP 2003213350 A JP2003213350 A JP 2003213350A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】非鉄製錬業より産出する含ビスマス水溶液から
有価物であるビスマスを選択的に分離回収する方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】銅及び鉛精錬工程の中間処理物である水溶
液中のビスマスを配位結合を有するＭＲＴ樹脂にベッド
ボリューム＝０．１〜８において選択吸着させ、硫酸溶
液で溶離するビスマスの回収方法。
有価物であるビスマスを選択的に分離回収する方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】銅及び鉛精錬工程の中間処理物である水溶
液中のビスマスを配位結合を有するＭＲＴ樹脂にベッド
ボリューム＝０．１〜８において選択吸着させ、硫酸溶
液で溶離するビスマスの回収方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非鉄金属製錬工程より
産出する有価物を含む原料から、有価物を回収する方法
に関するものであり、更に詳しく述べると有価物である
ビスマスを湿式処理により回収する方法に関するもので
ある。
産出する有価物を含む原料から、有価物を回収する方法
に関するものであり、更に詳しく述べると有価物である
ビスマスを湿式処理により回収する方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ビスマスは、鉛、銅、錫、銀、金などの
鉱石中に含まれ、これらの非鉄金属の製錬副産物として
産出されている。ビスマスは、銅や鉛鉱石に随伴して産
出されることが多く、乾式製錬によってその粗金属中に
残留する。例えば、粗銅中に残留したビスマスは、銅の
電解精製工程において他の不純物と共に電解液に濃縮さ
れる。一方大部分のビスマスは、銅製錬の乾式工程で高
熱によって揮発し、煙灰として鉛、砒素、アンチモンな
どと共にコットレル等に捕集され、これらは更に鉛製錬
工程に送られる。
鉱石中に含まれ、これらの非鉄金属の製錬副産物として
産出されている。ビスマスは、銅や鉛鉱石に随伴して産
出されることが多く、乾式製錬によってその粗金属中に
残留する。例えば、粗銅中に残留したビスマスは、銅の
電解精製工程において他の不純物と共に電解液に濃縮さ
れる。一方大部分のビスマスは、銅製錬の乾式工程で高
熱によって揮発し、煙灰として鉛、砒素、アンチモンな
どと共にコットレル等に捕集され、これらは更に鉛製錬
工程に送られる。
【０００３】銅電解液中に濃縮されたビスマスは、例え
ば脱銅電解で除去され、除去されたビスマスは大部分が
乾式工程へ繰返される。
ば脱銅電解で除去され、除去されたビスマスは大部分が
乾式工程へ繰返される。
【０００４】高熱揮発して鉛と共に捕集されたビスマス
は、鉛製錬工程へ送られ、電気炉等の乾式処理を行い、
粗鉛中に移行する。粗鉛は、例えばケイフッ化水素酸浴
で電解精製され、鉛が陰極に電着しビスマスが陽極泥
（アノードスライム）となる。陽極泥は更に乾式処理が
行われ、粗ビスマスとなる。この粗ビスマスは、例えば
ケイフッ化水素酸浴や塩化物浴にて電解精製されて製品
ビスマスとなる。
は、鉛製錬工程へ送られ、電気炉等の乾式処理を行い、
粗鉛中に移行する。粗鉛は、例えばケイフッ化水素酸浴
で電解精製され、鉛が陰極に電着しビスマスが陽極泥
（アノードスライム）となる。陽極泥は更に乾式処理が
行われ、粗ビスマスとなる。この粗ビスマスは、例えば
ケイフッ化水素酸浴や塩化物浴にて電解精製されて製品
ビスマスとなる。
【０００５】製品ビスマスの回収に当たっては、説明し
た通り多くの場合乾式処理が行われ、この乾式処理は鉛
を使用するため、作業環境上好ましくない。このため、
乾式処理を行わないビスマスの回収法の開発が望まれて
いる。またビスマスは鉛や銅あるいは同族元素である砒
素、アンチモンと挙動を共にすることが多く、これらの
成分との分離も課題となっている。
た通り多くの場合乾式処理が行われ、この乾式処理は鉛
を使用するため、作業環境上好ましくない。このため、
乾式処理を行わないビスマスの回収法の開発が望まれて
いる。またビスマスは鉛や銅あるいは同族元素である砒
素、アンチモンと挙動を共にすることが多く、これらの
成分との分離も課題となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記問題点を解決す
る、湿式法によるビスマス回収方法を提供するものであ
る。
る、湿式法によるビスマス回収方法を提供するものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々のビ
スマス回収法検討を行った結果、ビスマス回収方法とし
て、 （１）水溶液中のビスマスを配位結合を有する樹脂に選
択吸着させるビスマスの回収方法。 （２）水溶液中のビスマスを配位結合を有するＭＲＴ樹
脂に選択吸着させるビスマスの回収方法。 （３）上記（１）又は（２）において、ＢＶ（ベッドボ
リューム）＝０．１〜８においてビスマスを選択吸着さ
せるビスマスの回収方法。 （４）上記（１）及び又は（２）において、吸着したビ
スマスをＢＶ＝０．５以上１．５未満として、硫酸溶液
にて溶離する硫酸ビスマスの回収方法。 （５）ビスマスを含む水溶液が、銅及び鉛製錬工程の中
間処理物である上記（１）又は（２）に記載の方法。 （６）ビスマス溶離液が、８モル／Ｌ以上の硫酸であ
り、かつ溶離時の液温が４０℃以上である上記（４）に
記載の方法。 （７）ビスマス濃度の高い液であるＢＶ＝０．５以上
１．５未満の溶離液を冷却し、硫酸ビスマスを晶析回収
した後、該液を再び溶離液として使用する上記（４）に
記載の方法。 を提供するものである。
スマス回収法検討を行った結果、ビスマス回収方法とし
て、 （１）水溶液中のビスマスを配位結合を有する樹脂に選
択吸着させるビスマスの回収方法。 （２）水溶液中のビスマスを配位結合を有するＭＲＴ樹
脂に選択吸着させるビスマスの回収方法。 （３）上記（１）又は（２）において、ＢＶ（ベッドボ
リューム）＝０．１〜８においてビスマスを選択吸着さ
せるビスマスの回収方法。 （４）上記（１）及び又は（２）において、吸着したビ
スマスをＢＶ＝０．５以上１．５未満として、硫酸溶液
にて溶離する硫酸ビスマスの回収方法。 （５）ビスマスを含む水溶液が、銅及び鉛製錬工程の中
間処理物である上記（１）又は（２）に記載の方法。 （６）ビスマス溶離液が、８モル／Ｌ以上の硫酸であ
り、かつ溶離時の液温が４０℃以上である上記（４）に
記載の方法。 （７）ビスマス濃度の高い液であるＢＶ＝０．５以上
１．５未満の溶離液を冷却し、硫酸ビスマスを晶析回収
した後、該液を再び溶離液として使用する上記（４）に
記載の方法。 を提供するものである。
【作用】以下本発明の構成を詳しく説明する。なお構成
は例を挙げて説明しているが、本発明はこの例に制限さ
れるものではない。
は例を挙げて説明しているが、本発明はこの例に制限さ
れるものではない。
【０００８】ビスマスは、鉛、銅、錫、銀、金などの鉱
石中に含まれ、これらの非鉄金属の製錬副産物として産
出されている。ビスマスは、銅や鉛鉱石に随伴して産出
されることが多く、乾式製錬によってその粗金属中に残
留する。例えば、粗銅中に残留したビスマスは、銅の電
解精製工程において他の不純物と共に電解液に濃縮され
る。一方大部分のビスマスは、銅製錬の乾式工程で高熱
によって揮発し、煙灰として鉛、砒素、アンチモンなど
と共にコットレル等に捕集され、これらは更に鉛製錬工
程に送られる。鉛製錬工程では、電気炉等の乾式処理を
行い、ビスマスを粗鉛中に移行させる。粗鉛は、例えば
ケイフッ化水素酸浴で電解精製され、鉛が陰極に電着し
ビスマスが陽極泥（アノードスライム）となる。陽極泥
は更に乾式処理が行われ、粗ビスマスとなる。この粗ビ
スマスは、例えばケイフッ化水素酸浴や塩化物浴にて電
解精製されて製品ビスマスとなる。製品ビスマスの回収
に当たっては、説明した通り多くの場合乾式処理が行わ
れ、この乾式処理は鉛を使用するため、作業環境上好ま
しくない。このため、さまざまな湿式処理法が提案され
ている。
石中に含まれ、これらの非鉄金属の製錬副産物として産
出されている。ビスマスは、銅や鉛鉱石に随伴して産出
されることが多く、乾式製錬によってその粗金属中に残
留する。例えば、粗銅中に残留したビスマスは、銅の電
解精製工程において他の不純物と共に電解液に濃縮され
る。一方大部分のビスマスは、銅製錬の乾式工程で高熱
によって揮発し、煙灰として鉛、砒素、アンチモンなど
と共にコットレル等に捕集され、これらは更に鉛製錬工
程に送られる。鉛製錬工程では、電気炉等の乾式処理を
行い、ビスマスを粗鉛中に移行させる。粗鉛は、例えば
ケイフッ化水素酸浴で電解精製され、鉛が陰極に電着し
ビスマスが陽極泥（アノードスライム）となる。陽極泥
は更に乾式処理が行われ、粗ビスマスとなる。この粗ビ
スマスは、例えばケイフッ化水素酸浴や塩化物浴にて電
解精製されて製品ビスマスとなる。製品ビスマスの回収
に当たっては、説明した通り多くの場合乾式処理が行わ
れ、この乾式処理は鉛を使用するため、作業環境上好ま
しくない。このため、さまざまな湿式処理法が提案され
ている。
【０００９】例えば特開２０００−１０９９３９に開示
されているように、ビスマスを含む非鉄製錬工程中間物
として、煙灰に種々の湿式処理を行った塩酸酸性のビス
マス塩水溶液がある。この塩酸酸性ビスマス塩水溶液に
はビスマスが濃縮されており、ビスマス回収の原料とし
て好適である。
されているように、ビスマスを含む非鉄製錬工程中間物
として、煙灰に種々の湿式処理を行った塩酸酸性のビス
マス塩水溶液がある。この塩酸酸性ビスマス塩水溶液に
はビスマスが濃縮されており、ビスマス回収の原料とし
て好適である。
【００１０】一方、回収されるビスマス形態として、金
属ビスマス、オキシ塩化ビスマス、硫酸ビスマス等が挙
げられる。本発明者は、種々の検討を行った結果、塩酸
酸性ビスマス塩水溶液に樹脂法を適用することにより、
高純度な硫酸ビスマスを得ることが可能であることを見
出した。
属ビスマス、オキシ塩化ビスマス、硫酸ビスマス等が挙
げられる。本発明者は、種々の検討を行った結果、塩酸
酸性ビスマス塩水溶液に樹脂法を適用することにより、
高純度な硫酸ビスマスを得ることが可能であることを見
出した。
【００１１】すなわち、該ビスマス含有液に配位結合を
有する樹脂を接触させ、ビスマスを選択的に樹脂に吸着
させた後、硫酸で溶離することにより、高純度の硫酸ビ
スマスを得る。配位結合を有する樹脂の一態様として、
以下に示すＭＲＴが有効であると本発明者は見出した。
配位結合とは、共有結合の一種で、一方の原子の非結合
電子対が相手の原子に供与され共有されることによって
結合するものである。この配位結合の例としてクラウン
エーテル等が挙げられる。
有する樹脂を接触させ、ビスマスを選択的に樹脂に吸着
させた後、硫酸で溶離することにより、高純度の硫酸ビ
スマスを得る。配位結合を有する樹脂の一態様として、
以下に示すＭＲＴが有効であると本発明者は見出した。
配位結合とは、共有結合の一種で、一方の原子の非結合
電子対が相手の原子に供与され共有されることによって
結合するものである。この配位結合の例としてクラウン
エーテル等が挙げられる。
【００１２】樹脂はイオン交換樹脂等の適用も可能であ
るが、特許第２９８４６８３号（登録日；平成１１年１
０月１日）に開示されている樹脂であって、よりビスマ
スの選択性の高い（本発明者が、初めて見出した。）米
国ＩＢＣ社製品であるＭＲＴ（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｒ
ｅｃｏｇｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、分子認
識技術）樹脂が好適である。その構造の例を以下に示
す。特徴は、下式における下線部がクラウンエーテルと
なり、このクラウンエーテルとカチオンが配位結合す
る。このクラウンエーテルの大きさ、即ち輪の大きさに
よりカチオンの選択性が可能となる。マトリクス -O-SiYZ-（CH2）a（OCH2R1CHCH2）b（BCHR2CH2）c
（DCHR3CH2）dE Ｂ及びＤ：例えばＯ、ＯＣＨ２、Ｓ等から選択 Ｅ：例えば低級アルキル、ＳＨ、ＯＨ等から選択 Ｒ１：例えばＨ、ＳＨ、ＯＨ等から選択 Ｒ２：例えばＨ及び低級アルキル等から選択 Ｒ３：例えばＨ、低級アルキル、アリール等より選択 Ｙ及びＺ：Cl、OCH3、OC2H5等から選択 ａ：２ないし１０ ｂ：０または１ ｃ：１ないし２０００ ｄ：０ないし２０００ マトリクス：砂、シリカゲル、ガラス、アルミナ等から
選択
るが、特許第２９８４６８３号（登録日；平成１１年１
０月１日）に開示されている樹脂であって、よりビスマ
スの選択性の高い（本発明者が、初めて見出した。）米
国ＩＢＣ社製品であるＭＲＴ（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｒ
ｅｃｏｇｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、分子認
識技術）樹脂が好適である。その構造の例を以下に示
す。特徴は、下式における下線部がクラウンエーテルと
なり、このクラウンエーテルとカチオンが配位結合す
る。このクラウンエーテルの大きさ、即ち輪の大きさに
よりカチオンの選択性が可能となる。マトリクス -O-SiYZ-（CH2）a（OCH2R1CHCH2）b（BCHR2CH2）c
（DCHR3CH2）dE Ｂ及びＤ：例えばＯ、ＯＣＨ２、Ｓ等から選択 Ｅ：例えば低級アルキル、ＳＨ、ＯＨ等から選択 Ｒ１：例えばＨ、ＳＨ、ＯＨ等から選択 Ｒ２：例えばＨ及び低級アルキル等から選択 Ｒ３：例えばＨ、低級アルキル、アリール等より選択 Ｙ及びＺ：Cl、OCH3、OC2H5等から選択 ａ：２ないし１０ ｂ：０または１ ｃ：１ないし２０００ ｄ：０ないし２０００ マトリクス：砂、シリカゲル、ガラス、アルミナ等から
選択
【００１３】配位結合を有する樹脂と処理液とのＢＶ値
（ベッドボリューム、通液量を樹脂体積で割った値、す
なわち樹脂体積の何倍の液量を通液したという指標）
は、表４に示すように０．１〜８が望ましい。Ｂｉが吸
着され、不純物となるＣｕ、Ｐｂ、Ａｓが吸着され難い
からである。このＭＲＴ樹脂に原料である塩酸酸性ビス
マス水溶液を常温で作用(吸着)させる。塩酸酸性下での
ビスマス溶解度は常温でも十分にあるため、吸着液温を
高くすることは経済上好ましくない。吸着操作の通液速
度は、カラム法における一般的な値、すなわち空間速度
（ｓｐａｃｅ ｖｅｌｏｃｉｔｙ）５〜２０（１／ｈ
ｒ）で十分である。ＳＶを大きくしすぎると流速がビス
マス吸着速度を上回るため、ビスマスが十分に吸着され
ずカラムから流出してくる。ビスマス以外の成分、例え
ば銅、砒素、鉛は、吸着されないため、ビスマスの選択
濃縮が可能となる。
（ベッドボリューム、通液量を樹脂体積で割った値、す
なわち樹脂体積の何倍の液量を通液したという指標）
は、表４に示すように０．１〜８が望ましい。Ｂｉが吸
着され、不純物となるＣｕ、Ｐｂ、Ａｓが吸着され難い
からである。このＭＲＴ樹脂に原料である塩酸酸性ビス
マス水溶液を常温で作用(吸着)させる。塩酸酸性下での
ビスマス溶解度は常温でも十分にあるため、吸着液温を
高くすることは経済上好ましくない。吸着操作の通液速
度は、カラム法における一般的な値、すなわち空間速度
（ｓｐａｃｅ ｖｅｌｏｃｉｔｙ）５〜２０（１／ｈ
ｒ）で十分である。ＳＶを大きくしすぎると流速がビス
マス吸着速度を上回るため、ビスマスが十分に吸着され
ずカラムから流出してくる。ビスマス以外の成分、例え
ば銅、砒素、鉛は、吸着されないため、ビスマスの選択
濃縮が可能となる。
【００１４】溶離工程における吸着後の樹脂と溶離液の
ＢＶ値は、表５に示すように０．５以上、１．５未満が
望ましい。これは、ビスマスが好適に樹脂より回収でき
るからである。溶離操作の液温は、表２に示すように４
０℃以上、溶離液である硫酸濃度は、表１に示すように
８モル／Ｌ以上が好ましい。液温低下並びに硫酸濃度の
低下は硫酸ビスマスの溶解度低下を招く。通液速度は、
カラム法における一般的な値、すなわちＳＶ（空間速
度）０．５〜１０（１／ｈｒ）で十分である。ＳＶを大
きくしすぎると流速がビスマス溶離速度を上回るため、
ビスマスが十分に溶離されずカラム中に残留するばかり
か、溶離液中のビスマス濃度を高くすることができな
い。
ＢＶ値は、表５に示すように０．５以上、１．５未満が
望ましい。これは、ビスマスが好適に樹脂より回収でき
るからである。溶離操作の液温は、表２に示すように４
０℃以上、溶離液である硫酸濃度は、表１に示すように
８モル／Ｌ以上が好ましい。液温低下並びに硫酸濃度の
低下は硫酸ビスマスの溶解度低下を招く。通液速度は、
カラム法における一般的な値、すなわちＳＶ（空間速
度）０．５〜１０（１／ｈｒ）で十分である。ＳＶを大
きくしすぎると流速がビスマス溶離速度を上回るため、
ビスマスが十分に溶離されずカラム中に残留するばかり
か、溶離液中のビスマス濃度を高くすることができな
い。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【表２】
【００１７】溶離した硫酸ビスマスは、冷却することに
より硫酸ビスマス白色結晶が晶析する。放冷時の温度
は、２０℃以下が好ましい。低温になるほど硫酸水溶液
中の硫酸ビスマスの溶解度が低下する。ビスマスを晶析
回収した後の溶離液は、再び溶離液として繰返すことが
可能である。
より硫酸ビスマス白色結晶が晶析する。放冷時の温度
は、２０℃以下が好ましい。低温になるほど硫酸水溶液
中の硫酸ビスマスの溶解度が低下する。ビスマスを晶析
回収した後の溶離液は、再び溶離液として繰返すことが
可能である。
【００１８】晶析した硫酸ビスマスを固液分離した後、
付着液を洗い流すために硫酸で洗浄する。水で洗浄を行
うと溶解度のため硫酸ビスマスが溶出してしまう。洗浄
後の硫酸ビスマスは、洗浄液である硫酸が付着している
ため、真空乾燥を行う。
付着液を洗い流すために硫酸で洗浄する。水で洗浄を行
うと溶解度のため硫酸ビスマスが溶出してしまう。洗浄
後の硫酸ビスマスは、洗浄液である硫酸が付着している
ため、真空乾燥を行う。
【００１９】このようにして得られた硫酸ビスマスの純
度は９９．９９％以上であった。本発明は、工程数が少
なくかつ製品となる高純度硫酸ビスマスを直接得るもの
である。
度は９９．９９％以上であった。本発明は、工程数が少
なくかつ製品となる高純度硫酸ビスマスを直接得るもの
である。
【００２０】以上説明したように、簡便な硫酸ビスマス
回収方法を確立した。
回収方法を確立した。
【００２１】以下本発明の実施例を説明する。なお本発
明は実施例に制限されるものではない。
明は実施例に制限されるものではない。
【００２２】非鉄製錬中間物である塩酸酸性ビスマス水
溶液の組成を表３に示す。
溶液の組成を表３に示す。
【００２３】
【表３】
【００２４】カラムにＭＲＴ樹脂（商品名：Ｓｕｐｅｒ
Ｌｉｇ＃８３）３０ｇを充填し、塩酸酸性ビスマス水溶
液を下降流でＢＶ＝２０の液量を通液した。ＳＶは１０
（１／ｈｒ）であった。吸着操作中の液濃度推移を表４
に示す。ビスマスに関して、表３の処理対象液中のビス
マス濃度４．９ｇ／Ｌに対して表４に示すカラム流出液
（処理後液）ＢＶ＝０．１〜８までにおいて、ビスマス
濃度が０．０７〜３．６８ｇ／Ｌに減っていること、更
に、Ｃｕ、Ａｓ、Ｐｂが、表３の処理対象液中のＣｕ
０．９７ｇ／Ｌ、Ａｓ１．３４ｇ／Ｌ、Ｐｂ０．６３ｇ
／Ｌに対して、表４では、ＢＶ＝４において、Ｃｕ１．
０６、Ａｓ１．３３、Ｐｂ０．６４とほぼ同程度の濃度
となっていることから、ビスマスのみが選択吸着されて
いることが分かる。
Ｌｉｇ＃８３）３０ｇを充填し、塩酸酸性ビスマス水溶
液を下降流でＢＶ＝２０の液量を通液した。ＳＶは１０
（１／ｈｒ）であった。吸着操作中の液濃度推移を表４
に示す。ビスマスに関して、表３の処理対象液中のビス
マス濃度４．９ｇ／Ｌに対して表４に示すカラム流出液
（処理後液）ＢＶ＝０．１〜８までにおいて、ビスマス
濃度が０．０７〜３．６８ｇ／Ｌに減っていること、更
に、Ｃｕ、Ａｓ、Ｐｂが、表３の処理対象液中のＣｕ
０．９７ｇ／Ｌ、Ａｓ１．３４ｇ／Ｌ、Ｐｂ０．６３ｇ
／Ｌに対して、表４では、ＢＶ＝４において、Ｃｕ１．
０６、Ａｓ１．３３、Ｐｂ０．６４とほぼ同程度の濃度
となっていることから、ビスマスのみが選択吸着されて
いることが分かる。
【００２５】
【表４】
【００２６】ビスマスを選択吸着した樹脂を０．５モル
／Ｌ塩酸と１モル／Ｌ硫酸で押し出し洗浄した後、溶離
液である９モル／Ｌの硫酸を６０℃、ＳＶ２の条件で作
用させた。溶離液中の濃度推移を表５に示す。
／Ｌ塩酸と１モル／Ｌ硫酸で押し出し洗浄した後、溶離
液である９モル／Ｌの硫酸を６０℃、ＳＶ２の条件で作
用させた。溶離液中の濃度推移を表５に示す。
【００２７】
【表５】
【００２８】ＢＶ＝０．５〜１の溶離液を２０℃まで冷
却した結果、硫酸ビスマス白色結晶２．７４ｇが得られ
た。この時の析出後液中ビスマス濃度は、２．４１ｇ／
Ｌであった。この結晶を９モル／Ｌの硫酸で洗浄した
後、真空乾燥を２５℃、１０ｍｍＨｇ、１２ｈｒの条件
下で行い、成分分析を行った。その結果を表６に示す。
却した結果、硫酸ビスマス白色結晶２．７４ｇが得られ
た。この時の析出後液中ビスマス濃度は、２．４１ｇ／
Ｌであった。この結晶を９モル／Ｌの硫酸で洗浄した
後、真空乾燥を２５℃、１０ｍｍＨｇ、１２ｈｒの条件
下で行い、成分分析を行った。その結果を表６に示す。
【００２９】
【表６】
【００３０】表６に示すように極めて高純度の硫酸ビス
マスが得られた。
マスが得られた。
【００３１】キレート樹脂（ＭＸ−２、ミヨシ油脂）３
０ｇを実施例と同様にカラムに充填し供試液を通液し
た。このときの吸着後液中濃度推移を表７に示す。実施
例の表４と比較してビスマスは、吸着されているが他の
銅、砒素、鉛が、実施例では、ＢＶ＝４において、Ｃｕ
＝１．０６ｇ／Ｌ、Ａｓ１．３３ｇ／Ｌ、Ｐｂ＝０．６
４ｇ／Ｌと吸着されていないのに対して、本比較例にお
いては、Ｃｕ＝０．６８ｇ／Ｌ、Ａｓ＝０．８７ｇ／
Ｌ、Ｐｂ＝０．２６ｇ／Ｌと処理後液中の濃度が減少
し、吸着していることを確認できる。このためビスマス
の選択分離性はＭＲＴ樹脂に比べ劣ることが分かる。
０ｇを実施例と同様にカラムに充填し供試液を通液し
た。このときの吸着後液中濃度推移を表７に示す。実施
例の表４と比較してビスマスは、吸着されているが他の
銅、砒素、鉛が、実施例では、ＢＶ＝４において、Ｃｕ
＝１．０６ｇ／Ｌ、Ａｓ１．３３ｇ／Ｌ、Ｐｂ＝０．６
４ｇ／Ｌと吸着されていないのに対して、本比較例にお
いては、Ｃｕ＝０．６８ｇ／Ｌ、Ａｓ＝０．８７ｇ／
Ｌ、Ｐｂ＝０．２６ｇ／Ｌと処理後液中の濃度が減少
し、吸着していることを確認できる。このためビスマス
の選択分離性はＭＲＴ樹脂に比べ劣ることが分かる。
【００３２】
【表７】
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により簡便
な方法で高純度ビスマス及び高純度硫酸ビスマスの回収
が可能となった。
な方法で高純度ビスマス及び高純度硫酸ビスマスの回収
が可能となった。
【図１】本発明の処理フロー一態様を示す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ２２Ｂ 15/14 Ｃ２２Ｂ 3/00 Ｍ
Claims (7)
- 【請求項１】水溶液中のビスマスを配位結合を有する樹
脂に選択吸着させることを特徴とするビスマスの回収方
法。 - 【請求項２】水溶液中のビスマスを配位結合を有するＭ
ＲＴ樹脂に選択吸着させることを特徴とするビスマスの
回収方法。 - 【請求項３】請求項１又は２において、ＢＶ（ベッドボ
リューム）＝０．１〜８においてビスマスを選択吸着さ
せることを特徴とするビスマスの回収方法。 - 【請求項４】請求項１及び又は２において、吸着したビ
スマスをＢＶ＝０．５以上１．５未満として、硫酸溶液
にて溶離することを特徴とする硫酸ビスマスの回収方
法。 - 【請求項５】ビスマスを含む水溶液が、銅及び鉛製錬工
程の中間処理物であることを特徴とする請求項１又は２
に記載の方法。 - 【請求項６】ビスマス溶離液が、８モル／Ｌ以上の硫酸
であり、かつ溶離時の液温が４０℃以上であることを特
徴とする請求項４に記載の方法。 - 【請求項７】ビスマス濃度の高い液であるＢＶ＝０．５
以上１．５未満の溶離液を冷却し、硫酸ビスマスを晶析
回収した後、該液を再び溶離液として使用することを特
徴とする請求項４に記載の方法。
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|---|---|---|---|
| JP2002015029A JP4059677B2 (ja) | 2002-01-24 | 2002-01-24 | ビスマスの回収方法及び硫酸ビスマスの回収方法 |
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|---|---|
| JP2003213350A true JP2003213350A (ja) | 2003-07-30 |
| JP4059677B2 JP4059677B2 (ja) | 2008-03-12 |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010196140A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Mitsubishi Materials Corp | ビスマスの回収方法 |
| JP2011006267A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化ビスマス粉末の製造方法 |
| KR101013699B1 (ko) | 2008-09-30 | 2011-02-10 | 엘에스니꼬동제련 주식회사 | Ｂｉ-ＭＲＴ 시스템의 수지 컬럼 |
| JP2014029033A (ja) * | 2013-09-24 | 2014-02-13 | Pan Pacific Copper Co Ltd | 自溶炉の排ガス中に含まれるダストの処理方法 |
-
2002
- 2002-01-24 JP JP2002015029A patent/JP4059677B2/ja not_active Expired - Fee Related
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