JP2010192673A - 基板洗浄方法、基板洗浄装置、制御プログラム及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の表面にドライエア又は不活性ガスの気流にのせた洗浄用の微粒子を基板に衝突させて、前記基板の洗浄を行う洗浄工程と、前記洗浄用の微粒子を除去する除去工程と、を有することを特徴とする基板洗浄方法を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】図1
Description
次に、図2から図4に基づき、本実施の形態に係る基板洗浄装置100について説明する。図2は、本実施の形態に係る基板洗浄装置100の上面図であり、図3は、本実施の形態に係る基板洗浄装置100の断面概要図であり、図4は、図3の部分拡大図である。
次に、洗浄ノズル51より供給される洗浄用の微粒子とN2ガスについて、より詳しく説明する。
次に、本実施の形態に係る基板洗浄方法について説明する。図10は、本実施の形態に係る基板洗浄方法のフローチャートであり、図11は、本実施の形態に係る基板洗浄方法の工程図である。
47 シャフト
51 洗浄ノズル
53 リンス液供給ノズル
60 ミキシングボックス
70 微粒子ガスライン
71 純水供給ライン
72 リンス液供給ライン
73 薬液供給ライン
74 純水供給ライン
75 バルブ
76 バルブ
W ウエハ
Claims (21)
- 基板の表面にドライエア又は不活性ガスの気流に乗せた洗浄用の微粒子を基板に衝突させて、前記基板の洗浄を行う洗浄工程と、
前記洗浄用の微粒子を除去する除去工程と、
を有することを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記洗浄用の微粒子は、粒径が100nm〜100μmであることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄工程は、前記基板の表面にドライエア又は不活性ガスの気流にのせた洗浄用の微粒子に、液体を混合させて供給することにより、前記基板の洗浄を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄方法。
- 前記液体は、PHが7〜11の液体であることを特徴とする請求項3に記載の基板洗浄方法。
- 前記基板を回転させながら行うことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記除去工程は、前記洗浄用の微粒子を除去するためリンス液を供給することにより行うリンス工程であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記リンス液は、PHが7〜11の液体であることを特徴とする請求項6に記載の基板洗浄方法。
- 前記除去工程は、前記基板に不活性ガスを供給することにより行うものであることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記リンス工程の後、前記基板を回転させて前記基板の表面より前記リンス液を除去し乾燥させる乾燥工程を有することを特徴とする請求項6または7に記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄用の微粒子は、水溶性の酸化物材料により形成されていることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記酸化物は、CaO又はY2O3であることを特徴とする請求項10に記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄用の微粒子のゼータ電位がリンス液中で負となる材料により形成されていることを特徴とする6から9のいずれか記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄用の微粒子は、ラテックスにより形成されているものであることを特徴とする請求項1から9のいずれか記載の基板洗浄方法。
- 前記基板はパターンの形成されている基板であることを特徴とする請求項1から13のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 基板を水平に保持する基板保持部と、
ドライエア又は不活性ガスと洗浄用の微粒子とを混合する微粒子混合部と、
前記微粒子混合部において混合されたものを前記基板の表面に供給するためのノズルと、
を有することを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記洗浄用の微粒子は、粒径が100nm〜100μmであることを特徴とする請求項15に記載の基板洗浄装置。
- 前記ノズルは、前記微粒子混合部において混合されたものと液体とを混合させて、前記基板の表面に2流体スプレーとして供給するための2流体スプレーノズルであることを特徴とする請求項15または16に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄用の微粒子を除去するためのリンス液を供給するためのリンス液供給ノズルを有することを特徴とする請求項15から17のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄用の微粒子を除去するための不活性ガスを供給するための不活性ガス供給ノズルを有することを特徴とする請求項15から17のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- コンピュータ上で動作し、実行時に、請求項1から14のいずれかに記載の洗浄方法が行われるように、コンピュータに基板洗浄装置を制御させることを特徴とする制御プログラム。
- コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記制御プログラムは、実行時に、請求項1から14のいずれかに記載の洗浄方法が行われるように、コンピュータに基板洗浄装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
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---|---|---|---|---|
KR20140046631A (ko) * | 2012-10-09 | 2014-04-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 연마 장치 |
KR20150000548A (ko) * | 2013-06-24 | 2015-01-05 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치 |
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CN114558863B (zh) * | 2022-04-29 | 2022-07-29 | 深圳市赛元微电子有限公司 | 一种用于芯片表面处理装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08195369A (ja) * | 1995-01-13 | 1996-07-30 | Daikin Ind Ltd | 基板の洗浄方法 |
JPH11165139A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 表面洗浄方法及び装置 |
WO2003016452A1 (fr) * | 2001-08-20 | 2003-02-27 | Tani Co., Ltd. | Detergent pour vehicule, procede et dispositif de nettoyage de vehicule |
JP2004181334A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Taiyo Toyo Sanso Co Ltd | 洗浄材製造方法及びその製造装置並びにこれを使用する洗浄システム |
JP2006073945A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2007201374A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |
JP2007245029A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2008108830A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 二流体ノズルユニットおよびそれを用いた基板処理装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5123206A (en) * | 1987-12-04 | 1992-06-23 | Whitemetal, Inc. | Wet abrasive blasting method |
US5294261A (en) * | 1992-11-02 | 1994-03-15 | Air Products And Chemicals, Inc. | Surface cleaning using an argon or nitrogen aerosol |
US5372652A (en) * | 1993-06-14 | 1994-12-13 | International Business Machines Corporation | Aerosol cleaning method |
US5407378A (en) * | 1993-07-23 | 1995-04-18 | Church & Dwight Co., Inc. | Water blasting process |
US5509849A (en) * | 1994-04-18 | 1996-04-23 | Church & Dwight Co., Inc. | Blast nozzle for water injection and method of using same for blast cleaning solid surfaces |
US5931721A (en) * | 1994-11-07 | 1999-08-03 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Aerosol surface processing |
JP3504023B2 (ja) * | 1995-05-26 | 2004-03-08 | 株式会社ルネサステクノロジ | 洗浄装置および洗浄方法 |
US5616067A (en) * | 1996-01-16 | 1997-04-01 | Ford Motor Company | CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces |
US5827114A (en) * | 1996-09-25 | 1998-10-27 | Church & Dwight Co., Inc. | Slurry blasting process |
US5961732A (en) * | 1997-06-11 | 1999-10-05 | Fsi International, Inc | Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol |
US6004400A (en) * | 1997-07-09 | 1999-12-21 | Phillip W. Bishop | Carbon dioxide cleaning process |
ATE303881T1 (de) * | 1998-12-04 | 2005-09-15 | Farrow System Ltd | Methode um überzüge von oberflächen zu entfernen |
GB9904872D0 (en) * | 1999-03-04 | 1999-04-28 | Gagemark Limited | Abrasive blasting apparatus |
US20040011378A1 (en) * | 2001-08-23 | 2004-01-22 | Jackson David P | Surface cleaning and modification processes, methods and apparatus using physicochemically modified dense fluid sprays |
JP4286615B2 (ja) | 2003-08-19 | 2009-07-01 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
US7737097B2 (en) * | 2003-06-27 | 2010-06-15 | Lam Research Corporation | Method for removing contamination from a substrate and for making a cleaning solution |
US6905396B1 (en) * | 2003-11-20 | 2005-06-14 | Huffman Corporation | Method of removing a coating from a substrate |
US20060130886A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | Method and apparatus for manufacturing cleaning material and cleaning system using the same |
-
2009
- 2009-02-18 JP JP2009035462A patent/JP2010192673A/ja active Pending
-
2010
- 2010-02-08 KR KR1020100011525A patent/KR20100094360A/ko not_active Application Discontinuation
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08195369A (ja) * | 1995-01-13 | 1996-07-30 | Daikin Ind Ltd | 基板の洗浄方法 |
JPH11165139A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 表面洗浄方法及び装置 |
WO2003016452A1 (fr) * | 2001-08-20 | 2003-02-27 | Tani Co., Ltd. | Detergent pour vehicule, procede et dispositif de nettoyage de vehicule |
JP2004181334A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Taiyo Toyo Sanso Co Ltd | 洗浄材製造方法及びその製造装置並びにこれを使用する洗浄システム |
JP2006073945A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2007201374A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |
JP2007245029A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2008108830A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 二流体ノズルユニットおよびそれを用いた基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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